一种光学表面污染检测清洁装置的制作方法

文档序号:12328470阅读:231来源:国知局
一种光学表面污染检测清洁装置的制作方法

本发明涉及光学检测技术领域,特别涉及一种光学表面污染检测清洁清洁装置。



背景技术:

在光学加工过程中,光学表面污染状态的检测和清洁一直是一个繁琐和需要耐心的工作。特别是对于高精度的表面形貌要求为亚纳米精度的光学元件,不仅是在镀膜前和出厂前需要进行仔细检测和清洁,在面形检测前也需要对表面污染情况进行检测和彻底的清洁。

传统的检测和清洁的方式往往需要通过人工,利用放大镜在强光下进行检测,然后根据污染情况进行相应的清洁工作。这种方式费事费力,而且对检测人员的要求很高,检测人员的经验和眼睛的具体状况都会对检测结果有影响。况且检测过程中长时间对着强光进行观察,对眼睛损害较大,实用性较低。

超声波清洗装置是一种现代自动化的光学元件清洗设备,可以根据不同的污染情况,配备不同的液池,将光学元件浸入液池采用超声方式进行清洗,并烘干。这种清洗装置虽然能够满足大部分光学元件清洁要求,但是这种设备往往非常昂贵,占地面积很大,而且不同的光学元件需要配备特定的清洗篮,整个清洗过程时间长,往往需要一个小时以上,这对于光学检测前的清洁经济和时间成本都太高,难以满足实际需求。



技术实现要素:

本发明旨在克服现有技术的缺陷,提供一种光学表面污染检测清洁装置。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

一方面,本发明提供一种光学表面污染检测清洁装置,其特征在于,所述清洁装置包括恒温箱体;所述恒温箱体内装有洁净水;所述恒温箱体的一侧连接有喷嘴,所述恒温箱体的另一侧安装有风扇;所述风扇用于向所述恒温箱体内送风,使所述恒温箱体内保持空气正压。

一些实施例中,所述恒温箱体的正面设置有温度显示装置。

一些实施例中,所述恒温箱体的上部设有可以打开的盖子。

一些实施例中,所述喷嘴与所述恒温箱体之间为软连接。

一些实施例中,所述恒温箱体内部的洁净水温度高于所述恒温箱体外部的环境温度10~15℃。

一些实施例中,所述喷嘴的直径为2mm-4mm。

一些实施例中,所述空气正压为500~1000Pa。

一些实施例中,所述洁净水的体积为所述恒温箱体的体积的三分之一。

一些实施例中,所述风扇的转速为2000~5000转/分钟。

本发明的有益效果在于:恒温箱体内的绝对湿度较大,当恒温箱体内的湿度较大的空气由于风扇带来的正压从喷嘴处喷出时,遇到温度较低的光学表面,空气温度降低,空气内的湿度发生饱和,会在光学表面形成雾状小水滴,不同的光学表面形貌(洁净表面、污染物部分、划痕、擦痕等)展现出不同凝结效果,就可以很容易的通过肉眼观测并区分被检测的光学表面污染部分和清洁部分,进而可以通过洁净布等方式对光学表面进行针对性清洁,大大提高了清洁效率,也满足了就高精度光学元件表面清洁的精度要求。

附图说明

图1为根据本发明一个实施例的清洁装置的立体结构示意图。

图2为根据本发明一个实施例的清洁装置的侧视结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,而不构成对本发明的限制。

首先参考图1和图2,示出根据本发明一个实施例的光学表面污染检测清洁装置。

本实施的光学表面污染检测清洁装置包括恒温箱体2,恒温箱体2内装有洁净水,洁净水可为去离子水、蒸馏水、超纯水或高纯水等,以不污染光学表面为前提的水。恒温箱体2采用亚克力材质,主要用于保持内部洁净水保持温度恒定。

恒温箱体2的上部设有可以打开的盖子3,通过盖子3可以控制加入到恒温箱体2中的洁净水的水量。一般情况下,洁净水的体积为恒温箱体2的体积的三分之一,有利于保持恒温箱体中的温度与湿度等。

恒温箱体2的正面设有温度显示装置4,可以通过该温度显示装置4对恒温箱体2内部的温度进行控制,一般恒温箱体2内部的温度要略高于恒温箱体2外部环境的温度,优选的实施方式中,恒温箱体内部的洁净水温度高于恒温箱体外部的环境温度10~15℃。

恒温箱体2的一侧连接有喷嘴1,喷嘴1主要用于将恒温箱体2中湿度较大的空气排出。恒温箱体2与喷嘴1之间采用软连接的方式连接,可以让喷嘴1在光学元件表面方便的运动。喷嘴1带有开关,当打开喷嘴1时,风扇5启动,使得外部气体进入恒温箱体2中,恒温箱体2内气压为正压,使得恒温箱体2内湿度较大、温度较高的空气从喷嘴1中喷出。优选的实施方式中,喷嘴1的直径为2mm-4mm,进一步优选为3mm,可以使得从喷嘴1喷出喷到光学表面的湿空气量更加合适,在不留下痕迹的前提下,能够更好的提高清洁效果。

恒温箱体2的另一侧安装有风扇5;风扇5用于向恒温箱体2内送风,即将恒温箱体2外部的空气抽入恒温箱体2内部,使恒温箱体2内部的空气压力保持正压,所保持的正压在500~1000Pa。优选的实施方式中,风扇5送风的转速为2000~5000转/分钟。

在使用本发明的光学表面污染检测清洁装置对光学表面进行清洁时,由于恒温箱体2内水温较高,使得恒温箱体2内的绝对湿度较大,当恒温箱体2内的湿度较大的空气由于风扇5带来的正压从喷嘴1处喷出时,遇到温度较低的光学表面,空气温度降低,空气内的湿度发生饱和,会在光学表面形成雾状小水滴,不同的光学表面形貌(洁净表面、污染物部分、划痕、擦痕等)展现出不同凝结效果,就可以很容易的通过肉眼观测并区分被检测的光学表面污染部分和清洁部分,进而可以通过洁净布等方式对光学表面进行针对性清洁,大大提高了清洁效率,也满足了就高精度光学元件表面清洁的精度要求。

以上所述本发明的具体实施方式,并不构成对本发明保护范围的限定。任何根据本发明的技术构思所作出的各种其他相应的改变与变形,均应包含在本发明权利要求的保护范围内。

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