一种药材清洗烘干装置的制作方法

文档序号:11877371阅读:185来源:国知局
一种药材清洗烘干装置的制作方法

本发明属于机械制药技术领域,具体涉及一种药材清洗烘干装置。



背景技术:

中药材在从药农手中回收上来时常沾有粘土,需要清洗掉泥土等其他杂质才能进行下一步的加工,但是有的中药材的表变非常的不规整,有许多的凹缝,,通过传统的清洗很难清洗干净,如果大力清洗,容易导致药材的损伤,同时清洗好的药材需要及时的烘干处理,所以有必要设计一种新型的药材清洗烘干装置。



技术实现要素:

根据以上现有技术的不足,本发明所要解决的技术问题是提出一种药材清洗烘干装置,通过滚筒内进行初洗,再通过超声波进行精洗,实现高效去污,同时采用烘干装置将清洗过的药材及时烘干。

为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种药材清洗烘干装置包括清洗筒、水槽、喷管、电机和热风机,清洗筒横卧于水槽内,清洗筒的一端沿轴心向外设有传动轴,传动轴与电机相连,在传动轴的中部设有万向节,清洗筒的另一端设有通孔,喷管沿清洗筒通孔深入筒内,喷管上依次分布有多个可调喷头,清洗筒下方设有用于调节筒体倾角的伸缩支撑架,伸缩架与筒体之间设有滚轮。

所述水槽底部设有斜坡,斜坡底端设有出水口,出水口内安装有控制阀,水槽侧壁还安装有用于超声波清洗的超声波发生器。所述清洗筒体上均匀分布有筛孔,筒体内壁沿母线方向均匀设有凸起。所述可调喷头包括内喷嘴和调节头,调节头安装在喷嘴前端,喷嘴和调节头之间设有转动调节装置。所述转动调节装置包括转动杆、复位弹簧和凸轮,转动杆沿水管水平设置,转动杆上固定有凸轮,凸轮位于喷嘴和调节头之间,喷嘴和调节头之间还安装有复位弹簧。所述水槽下方设有废水回收装置,废水回收装置与出水口相连。所述水槽采用便于清洗的不锈钢制作。

本发明有益效果是:本发明通过高压水幕的冲洗,并在滚筒内翻滚实现药材的初步清洗处理,再将中药材浸入水中通过超声波去污装置进行进一步清洗,去污率高,在将清洗过的中药材进行烘干处理,直接得到完成品,简单高效。

附图说明

下面对本说明书附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1是本发明的具体实施方式的一种清洗烘干装置的结构简图;

图2是本发明的具体实施方式的可调喷头的结构图。

其中,1、水槽,2、清洗筒,3、电机,4、万向节,5、伸缩架,6、废水回收装置,7、喷管,8、可调喷头,9、超声波发生器,10、喷嘴,11、调节头,12、复位弹簧,13、凸轮,14、转动杆。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等,作进一步详细的说明,以帮助本领域技术人员对本发明的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。

如图1所示,一种药材清洗烘干装置包括清洗筒2、水槽1、喷管7、电机3和热风机,清洗筒2横卧于水槽1内,清洗筒2的一端沿轴心向外设有传动轴,传动轴与电机3相连,在传动轴的中部设有万向节4,清洗筒2的另一端设有通孔,喷管7沿清洗筒2通孔深入筒内,喷管7上依次分布有多个可调喷头8,清洗筒2下方设有用于调节筒体倾角的伸缩支撑架,伸缩架5与筒体之间设有滚轮。当进行清洗药材初洗时,伸缩支架上升,清洗筒2水平转动,在水压的冲击和滚筒转动的情况下实现初步的去污,水槽1底部设有斜坡,污水沿斜坡流入斜坡底端设有出水口,出水口内安装有控制阀打开进入废水收集装置,水槽1侧壁还安装有用于超声波清洗的超声波发生器9,当初洗完成时,出水口水阀关闭,水槽1内放满水将清洗筒2浸没,打开超声波发生器9,再次利用超声波去污,去污完成后,打开控制阀,污水流入废水收集装置,此时水槽1上方的热风机打开,向滚筒内吹入热空气进行烘干,烘干完成,伸缩支架下降,清洗筒2倾向地面,随着清洗筒2的转动,药材自动离开滚筒,方便收集。所述清洗筒2体采用不锈钢制作上均匀分布有筛孔,筒体内壁沿母线方向均匀设有凸起,便于清洗药材。

如图2所示,可调喷头8包括喷嘴10、调节头11、复位弹簧12、转动杆14和凸轮13,调节头11安装在喷嘴10前端,在喷嘴10和调节头11之间安装有复位弹簧12,喷嘴10和调节头11之间还设有凸轮13,凸轮13与转动杆14相连,转动转动杆14,带动凸轮13旋转,从而调节调节头11与喷嘴10之间的距离,从而可以根据需要调节水流的喷洒状况,转动杆14沿水管水平设置可以在通外调节,清洗筒2内所有的喷头的喷水形状,当需要水幕散开,减小冲击压力时,调节头11上移,当需要水幕集中,增大冲压压力时,调节头11下移。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

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