一种多晶硅料清洗装置的制作方法

本实用新型涉及硅锭加工技术领域，特别涉及一种多晶硅料清洗装置。

背景技术：

硅片是电子产品制造中重要的原材料,由硅锭加工制成，硅锭由多晶硅料铸造而成；所以可以说，多晶硅料的纯度直接决定了硅片的质量。

通常在铸锭前需要对多晶硅料进行清洗以提高其纯度。清洗多晶硅料时，先进行酸液浸泡，流动的酸液带着杂质从容器壁上留有的开口中流出，从而实现对多晶硅料的除杂清洗。一方面，有些多晶硅料体积较小，为了减少清洗中多晶硅料的流失，容器壁上的开口设计是密密麻麻的小孔，容易堵塞，阻碍酸液的流动，进而不利于酸液冲洗除杂的进行；同时，小的多晶硅料附着于体积较大的多晶硅料上，彼此之间不易分离，酸液难以接触到硅料间的杂质，降低清洗效果。

技术实现要素：

本实用新型提供一种多晶硅料清洗装置，在清洗容器上设计十字型开口，清洗容器可以进行上下及左右方向的晃动，解决上述技术问题。

具体技术方案是，一种多晶硅料清洗装置，包括：盛装酸液的清洗池、放置多晶硅料的清洗容器、用于酸液沥干的沥液台和控制清洗容器移动的电机及气缸；多晶硅料置于清洗容器中，再将清洗容器放入盛装酸液的清洗池进行浸泡，电机及气缸分别带动清洗容器左右及上下晃动，使多晶硅料分离，并加速酸液对杂质的冲洗；洗完后，将多晶硅料连同清洗容器一起提至沥液台上，进行沥液。

进液口设在清洗池的上方，出液口设在清洗池的下方，沥液台紧挨着清洗池，沥液台与清洗池相接于接面，在接面上方开有沥液口，沥液口连通着沥液区与清洗池；沥液区的液体直接从沥液口流入到清洗池中；

清洗容器上方敞口，四周侧壁和底面上设有多个十字型开口，十字型开口在保证小的多晶硅料不流出的同时不易堵塞，便于酸液的流动；提手设在清洗容器的上方；

支撑架立于清洗池和沥液台的四周；支撑架的中间板和丝杠位于清洗池和沥液台的上方，中间板和丝杠分别穿过滑块的中间孔和丝孔，气缸固定安装在滑块的下方，挂钩通过连接件安装在伸缩杆的下方；电机通过减速机与丝杠连接。

进一步，支撑架上在中间板的两侧各设一个丝杠，两个丝杠之间通过链轮和链条连接，之间可传动；在滑块的中间孔两侧各设一个丝孔。对称设置丝杠，滑块可以均衡移动，即清洗容器移动更平稳。

进一步，清洗容器的底部安装有四个轮子。清洗容器置于清洗池中时，部分杂质沉降至清洗池底部，清洗容器的底部不会碰到清洗池，沉降后的杂质不会返回至清洗容器中，更易清洗干净；另一方面，轮子滚动阻力小，便于清洗容器左右移动。

进一步，在丝杠与支撑架的连接处安装有轴承。在丝杠转动时，支撑架保持不动。

进一步，沥液区上方是间隔分布的轴；轴对清洗容器形成支撑，间隔区域便于液体流过。

将待清洗的多晶硅料置于清洗容器中，再将清洗容器放入盛装酸液的清洗池进行浸泡，一段时间后，由电机带动滑块及清洗容器左右晃动，由气缸带动清洗容器上下晃动，使多晶硅料分离，加速酸液对杂质的冲洗；洗完后，通过气缸和电机作用将多晶硅料连同清洗容器一起提至沥液台上，多晶硅料上的液体直接流经沥液区和沥液口至清洗池中，沥干后清洗容器便于滚动将清洗好的多晶硅料进行移动。

本实用新型有益技术效果：在清洗容器上设计十字型开口，十字型开口不易堵塞，便于酸液的流动及冲洗除杂；清洗容器可以进行上下及左右方向的晃动，使多晶硅料分离，能够加速酸液对杂质的冲洗，提高清洗效果。

附图说明

图1为本实用新型的一种具体实施方式的示意图；

图2为本实用新型的一种具体实施方式的清洗容器示意图；

图3为本实用新型的一种具体实施方式的清洗池与沥液台示意图；

图4为本实用新型的一种具体实施方式的滑块示意图。

附图标记说明：

1、清洗池，2、清洗容器，3、沥液台，4、支撑架，5、滑块，6、气缸；

101、进液口，102、出液口，103、接面；

201、开口，202、提手，203、轮子；

301、沥液区，302、沥液口；

401、中间板，402、丝杠，404、链条，405、轴承，406、减速机，407、电机；

501、中间孔，502、丝孔；

601、伸缩杆，602、连接件，603、挂钩。

具体实施方式

下面结合附图及实施例描述本实用新型具体实施方式：

需要说明的是，本说明书所附图中示意的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应落在本实用新型所揭示的技术内容能涵盖的范围内。

同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

实施例：

图1，一种多晶硅料清洗装置，包括：盛装酸液的清洗池1、放置多晶硅料的清洗容器2、用于酸液沥干的沥液台3和控制清洗容器2移动的电机407及气缸6；多晶硅料置于清洗容器2中，再将清洗容器2放入盛装酸液的清洗池1进行浸泡，电机407及气缸6分别带动清洗容器2左右及上下晃动，使多晶硅料分离，并加速酸液对杂质的冲洗；洗完后，将多晶硅料连同清洗容器2一起提至沥液台3上，进行沥液。

支撑架4立于清洗池1和沥液台3的四周；支撑架4的中间板401和丝杠402位于清洗池1和沥液台3的上方，中间板401和丝杠402分别穿过滑块5的中间孔501和丝孔502，气缸6固定安装在滑块5的下方，挂钩603通过连接件602安装在伸缩杆601的下方；电机407通过减速机406与丝杠402连接。使用时，挂钩603钩住清洗容器2上的提手202。

图2，清洗容器2上方敞口，四周侧壁和底面上设有多个十字型开口201，十字型开口201在保证小的多晶硅料不流出的同时不易堵塞，便于酸液的流动；提手202设在清洗容器2的上方；

清洗容器2的底部安装有四个轮子203。清洗容器2置于清洗池1中时，部分杂质沉降至清洗池1底部，清洗容器2的底部不会碰到清洗池1，沉降后的杂质不会返回至清洗容器2中，更易清洗干净；另一方面，轮子203滚动阻力小，便于清洗容器2左右移动。

图3，进液口101设在清洗池1的上方，出液口102设在清洗池1的下方，沥液台3紧挨着清洗池1，沥液台3与清洗池1相接于接面103，在接面103上方开有沥液口302，沥液口302连通着沥液区301与清洗池1；沥液区301的液体直接从沥液口302流入到清洗池1中；沥液区301上方是间隔分布的轴；轴对清洗容器2形成支撑，间隔区域便于液体流过。

图4，在滑块5的中间孔501两侧各设一个丝孔502。

图1，支撑架4上在中间板401的两侧各设一个丝杠402，两个丝杠402之间通过链轮和链条404连接；在丝杠402与支撑架4的连接处安装有轴承405。在丝杠402转动时，支撑架4保持不动。

将待清洗的多晶硅料置于清洗容器2中，再将清洗容器2放入盛装酸液的清洗池1进行浸泡，一段时间后，由电机407带动滑块5及清洗容器2左右晃动，由气缸6带动清洗容器2上下晃动，使多晶硅料分离，加速酸液对杂质的冲洗；洗完后，通过气缸6和电机407作用将多晶硅料连同清洗容器2一起提至沥液台3上，多晶硅料上的液体直接流经沥液区301和沥液口302至清洗池1中，沥干后清洗容器2便于滚动将清洗好的多晶硅料进行移动。

不脱离本实用新型的构思和范围可以做出许多其他改变和改型。应当理解，本实用新型不限于特定的实施方式，本实用新型的范围由所附权利要求限定。