玻片清洗烘干仪的制作方法

本实用新型属于化学实验器械技术领域，具体涉及一种玻片清洗烘干仪。

背景技术：

在化学实验操作中经常使用到玻片，新购置的玻片在使用前需要将玻片在1l重铬酸钾溶液中浸泡24小时，利用流动的纯化水冲洗，去除玻片上残留的杂质后，晾干后才能使用，由于重铬酸钾溶液配制过程中使用有浓硫酸，所以玻片的浸泡和冲洗时间较长，且当需要冲洗多个玻片时，会浪费大量的时间，进而影响化学实验的正常进行。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种玻片清洗烘干仪，该玻片清洗烘干仪能有效对玻片进行清洗、烘干，节省时间，提高了工作效率。

其技术方案如下：

玻片清洗烘干仪，包括壳体、旋转装置、烘干装置以及控制底座，所述壳体内设有清洗腔体，且所述壳体上设有与清洗腔体连接的进水口以及排水口，所述清洗腔体内设有玻片架体，且所述玻片架体上设有清洗主体，所述旋转装置以及烘干装置均与清洗腔体连接，所述控制底座位于壳体底部并与旋转装置以及烘干装置连接。

将新购置的玻片插入玻片架体上，通过进水口注入纯化水，接通电源，启动旋转装置，旋转的水流带动玻片架体上的清洗主体能对玻片面进行清洗，去除玻片面上的杂质；待冲洗完成后，经排水口将仪器内部的水排空；启动烘干装置，对清洗干净的玻片进行烘干，将烘干的玻片取出，待用；使用该玻片清洗烘干仪，可直接利用纯化水对玻片直接进行冲洗、烘干，省去了重铬酸钾溶液的浸泡和利用流动纯化水对玻片进行冲洗，节省大量时间；多个玻片可放置在玻片架体上，一同清洗，节省大量劳动力并提高工作效率。

在其中一个实施例中，所述玻片架体包括第一固定板、第二固定板以及多个隔板，多个所述隔板均匀布置于第一固定板以及第二固定板之间，所述第一固定板与隔板之间、所述第二固定板与隔板之间、多个相邻的隔板之间均设有间隔并形成玻片卡槽。玻片卡槽的设置以用于放置玻片，同时起保护玻片的作用。

在其中一个实施例中，所述清洗主体设有多个，并均匀分布于所述第一固定板、第二固定板以及各隔板上，多个所述清洗主体均朝玻片卡槽方向设置。清洗主体设有多个，有利于充分对玻片清洗干净。

在其中一个实施例中，所述清洗主体为呈毛刷状的凸起，所述清洗主体采用柔性材料。清洗主体外形以及材料的设置，有利于去除玻片上的杂质，在冲刷过程中不会在玻片上留下划痕。

在其中一个实施例中，所述玻片架体与清洗腔体间可拆卸连接。在清洗烘干前，可将玻片完全放置于玻片架体上，再整体安装至清洗腔体中，清洗烘干完成后，将玻片架体整体拆卸下来，有利于玻片的装卸，方便操作；同时有利于对玻片架体进行冲洗，以保持其清洁程度。

在其中一个实施例中，所述旋转装置位于清洗腔体底部中间部，所述烘干装置设有四个，并均匀分布于清洗腔体的底部。将烘干装置设有四个，有利于加速烘干玻片，节省烘干时间，提高工作效率；烘干装置均匀分布有利于充分烘干玻片。

在其中一个实施例中，所述壳体上还设有顶盖，所述顶盖与壳体的抵接处设有密封圈。仪器工作时，使用设有密封圈的顶盖盖紧仪器，可防止仪器内部的液体在清洗过程中发生撒溢。

在其中一个实施例中，所述顶盖上设有定位件，所述定位件包括固定部以及定位部，所述固定部与定位部之间活动连接，所述固定部与顶盖固定连接，所述壳体上设有与定位件的定位部配合工作的定位块。通过定位件与定位块的配合作用，使顶盖在仪器工作过程中，不容易发生位移甚至掉落，有利于保证顶盖盖紧仪器。

在其中一个实施例中，所述控制底座的侧壁上设有散热口，所述控制底座靠近散热口处设有防水百叶。散热口设置有利于防止控制底座的温度过高发生损坏，防水百叶的设置防止水通过散热口溅入控制底座，以造成仪器损坏，有利于保护仪器。

在其中一个实施例中，所述控制底座的底部设有支撑脚，所述支撑脚设有四个，并均匀布置于控制底座上。支撑脚的设置有利于将仪器远离支撑面，有利于控制底座的散热，进而有利于保护仪器。

本实用新型所提供的玻片清洗烘干仪，玻片架体上设有的清洗主体在水流的带动下能有效对清洗玻片进行冲洗，去除玻片上的杂质；使用该玻片清洗烘干仪，可直接利用纯化水对玻片直接进行冲洗、烘干，省去了重铬酸钾溶液的浸泡和利用流动纯化水对玻片进行冲洗，节省大量时间；多个玻片可放置在玻片架体上，一同清洗，节省大量劳动力并提高工作效率。

附图说明

此处的附图，示出了本实用新型所述技术方案的具体实例，并与具体实施方式构成说明书的一部分，用于解释本实用新型的技术方案、原理及效果。

除非特别说明或另有定义，不同附图中，相同的附图标记代表相同或相似的技术特征，对于相同或相似的技术特征，也可能会采用不同的附图标记进行表示。

图1是本实用新型实施例玻片清洗烘干仪整体结构示意图。

图2是本实用新型实施例玻片清洗烘干仪的俯视图。

图3是本实用新型实施例玻片清洗烘干仪中玻片架体的结构示意图。

图4是图3中a的放大示意图。

附图标记说明：

10、壳体；11、顶盖；12、密封圈；13、定位件；14、定位块；20、旋转装置；30、烘干装置；40、控制底座；41、防水百叶；42、支撑脚；50、清洗腔体；60、进水口；61、排水口；70、玻片架体；71、第一固定板；72、第二固定板；73、隔板；74、玻片卡槽；80、清洗主体。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照说明书附图对本实用新型的具体实施例进行更详细的描述。

除非特别说明或另有定义，本文所使用的所有技术和科学术语与所属技术领域的技术人员通常理解的含义相同。在结合本实用新型的技术方案以现实的场景的情况下，本文所使用的所有技术和科学术语也可以具有与实现本实用新型的技术方案的目的相对应的含义。

除非特别说明或另有定义，本文所使用的“第一、第二…”仅仅是用于对名称的区分，不代表具体的数量或顺序。

除非特别说明或另有定义，本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

需要说明的是，当元件被认为“固定于”另一个元件，它可以是直接固定在另一个元件上，也可以是存在居中的元件；当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件，也可以是同时存在居中元件；当一个元件被认为是“安装在”另一个元件，它可以是直接安装在另一个元件，也可以是同时存在居中元件。当一个元件被认为是“设在”另一个元件，它可以是直接设在另一个元件，也可以是同时存在居中元件。

除非特别说明或另有定义，本文所使用的“所述”、“该”为相应位置之前所提及或描述的技术特征或技术内容，该技术特征或技术内容与其所提及的技术特征或技术内容可以是相同的，也可以是相似的。

毫无疑义，与本实用新型的目的相违背，或者明显矛盾的技术内容或技术特征，应被排除在外。

如图1至图4所示，玻片清洗烘干仪，包括壳体10、旋转装置20、烘干装置30以及控制底座40，在本实施例中，所述壳体10呈顶部开口的长方体状，所述壳体10内设有清洗腔体50，所述清洗腔体50顶部亦开口，且所述壳体10上设有与清洗腔体50连接的进水口60以及排水口61，所述进水口60位于壳体10上的水平高度高于排水口61，所述清洗腔体50内设有玻片架体70，且所述玻片架体70上设有清洗主体80，所述旋转装置20以及烘干装置30均与清洗腔体50连接，所述控制底座40位于壳体10底部并与旋转装置20以及烘干装置30连接；

将新购置的玻片插入玻片架体70上，通过进水口60注入纯化水，接通电源，启动旋转装置20，旋转的水流带动玻片架体70上的清洗主体80能对玻片面进行清洗，去除玻片面上的杂质；待冲洗完成后，经排水口61将仪器内部的水排空；启动烘干装置30，对清洗干净的玻片进行烘干，将烘干的玻片取出，待用；使用该玻片清洗烘干仪，可直接利用纯化水对玻片直接进行冲洗、烘干，省去了重铬酸钾溶液的浸泡和利用流动纯化水对玻片进行冲洗，节省大量时间；多个玻片可放置在玻片架体70上，一同进行清洗，节省大量劳动力并提高工作效率。

如图3所示，所述玻片架体70包括第一固定板71、第二固定板72以及多个隔板73，多个所述隔板73均匀布置于第一固定板71以及第二固定板72之间，所述第一固定板71与隔板73之间、所述第二固定板72与隔板73之间、多个相邻的隔板73之间均设有间隔并形成玻片卡槽74以用于放置玻片，同时起保护玻片的作用；所述清洗主体80设有多个，并均匀分布于所述第一固定板71、第二固定板72以及各隔板73上，多个所述清洗主体80均朝玻片卡槽74方向设置，有利于充分对玻片清洗干净。

如图4所示，所述清洗主体80为呈毛刷状的凸起，所述清洗主体80采用柔性材料。清洗主体80外形以及材料的设置，有利于去除玻片上的杂质，在冲刷过程中不会在玻片上留下划痕，有利于保护玻片。

所述玻片架体70与清洗腔体50间可拆卸连接。在清洗烘干前，可将玻片完全放置于玻片架体70上，再整体安装至清洗腔体50中，清洗烘干完成后，将玻片架体70整体拆卸下来，有利于玻片的装卸，方便操作；同时有利于对玻片架体70进行冲洗，以保持其清洁程度。

如图2所示，所述旋转装置20位于清洗腔体50底部中间部，所述烘干装置30设有四个，并均匀分布于清洗腔体50的底部，有利于加速烘干玻片，节省烘干时间，提高工作效率；烘干装置30均匀分布有利于充分烘干玻片；在本实施例中，旋转装置20的驱动电机(图中未示出)以及烘干装置30的发热组件(图中未示出)均安装于控制底座40内，旋转装置20以及烘干装置30与清洗腔体50间均设有防水装置(图中未示出)，以防止清洗腔体50内的液体进入控制底座40，有利于保护控制底座40。

所述控制底座40的侧壁上设有散热口(图中未示出)，所述控制底座40靠近散热口处设有防水百叶41。散热口设置有利于防止控制底座40的温度过高发生损坏，防水百叶41的设置防止水通过散热口溅入控制底座40，以造成仪器损坏，有利于保护仪器。

所述控制底座40上设有旋转装置20以及烘干装置30的开关，还设有时间控制器以及时间显示器，便于操作以及观察清洗时间以及烘干时间。

所述控制底座40的底部设有支撑脚42，所述支撑脚42设有四个，并均匀布置于控制底座40上。支撑脚42的设置有利于将仪器远离地面，有利于控制底座40的散热，进而有利于保护仪器。

所述壳体10上还设有顶盖11，在本实施例中，顶盖11呈长方形板状，顶盖11覆盖壳体10开口，所述顶盖11与壳体10的抵接处设有密封圈12。仪器工作时，使用设有密封圈12的顶盖11盖紧仪器，可防止仪器内部的液体在清洗过程中发生撒溢。

所述顶盖11上设有定位件13，所述定位件13包括固定部以及定位部，所述固定部与定位部之间铰接，所述固定部与顶盖11固定连接，所述壳体10上设有与定位件13的定位部卡扣连接的定位块14，在本实施例中，定位件13与定位块14均设有四个，定位件13均匀布置于顶盖11的四条边上，定位块14对应定位件13位置设置。通过定位件13与定位块14的配合作用，使顶盖11在仪器工作过程中，不容易发生位移甚至掉落，有利于保证顶盖11盖紧仪器。

以上实施例的目的，是对本实用新型的技术方案进行示例性的再现与推导，并以此完整的描述本实用新型的技术方案、目的及效果，其目的是使公众对本实用新型的公开内容的理解更加透彻、全面，并不以此限定本实用新型的保护范围。

以上实施例也并非是基于本实用新型的穷尽性列举，在此之外，还可以存在多个未列出的其他实施方式。在不违反本实用新型构思的基础上所作的任何替换与改进，均属本实用新型的保护范围。