1.玻片清洗烘干仪，其特征在于，包括壳体、旋转装置、烘干装置以及控制底座，所述壳体内设有清洗腔体，且所述壳体上设有与清洗腔体连接的进水口以及排水口，所述清洗腔体内设有玻片架体，且所述玻片架体上设有清洗主体，所述旋转装置以及烘干装置均与清洗腔体连接，所述控制底座位于壳体底部并与旋转装置以及烘干装置连接。
2.如权利要求1所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述玻片架体包括第一固定板、第二固定板以及多个隔板，多个所述隔板均匀布置于第一固定板以及第二固定板之间，所述第一固定板与隔板之间、所述第二固定板与隔板之间、多个相邻的隔板之间均设有间隔并形成玻片卡槽。
3.如权利要求2所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述清洗主体设有多个，并均匀分布于所述第一固定板、第二固定板以及各隔板上，多个所述清洗主体均朝玻片卡槽方向设置。
4.如权利要求3所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述清洗主体为呈毛刷状的凸起，所述清洗主体采用柔性材料。
5.如权利要求1所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述玻片架体与清洗腔体间可拆卸连接。
6.如权利要求1至5任一项所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述旋转装置位于清洗腔体底部中间部，所述烘干装置设有四个，并均匀分布于清洗腔体的底部。
7.如权利要求1至5任一项所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述壳体上还设有顶盖，所述顶盖与壳体的抵接处设有密封圈。
8.如权利要求7所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述顶盖上设有定位件，所述定位件包括固定部以及定位部，所述固定部与定位部之间活动连接，所述固定部与顶盖固定连接，所述壳体上设有与定位件的定位部配合工作的定位块。
9.如权利要求1至5任一项所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述控制底座的侧壁上设有散热口，所述控制底座靠近散热口处设有防水百叶。
10.如权利要求9所述玻片清洗烘干仪，其特征在于，所述控制底座的底部设有支撑脚，所述支撑脚设有四个，并均匀布置于控制底座上。