一种强密封性水下清洗装置的制作方法

本实用新型涉及水下设备清洗技术领域，特别是涉及一种强密封性水下清洗装置。

背景技术：

随着科学技术的发展，人类在水下作业的技术越来越先进，方式越来越丰富。水下作业包括水下探摸、水下勘查、水下电焊、水下切割、水下爆破、水下电视摄像、水下摄影、科学实验等。

目前水下作业主要由潜水员或者水下作业设备完成，且使用水下作业设备完成水下作业已经成为主流和趋势。但是，随着水下作业设备使用时间的延长，水中的悬浮杂质会吸附到水下作业设备上，影响水下作业设备的使用性能。比如水下摄影时，水中悬浮杂质会吸附到镜头上，影响摄影清晰度。此时往往需要将水下作业设备从水中打捞出来清洗，或者潜水员进行清洗，过程麻烦且费时费力。所以，水下清洗装置应运而生，但是现有的水下清洗装置其电机的密封方式采用常规的径向密封方式，防水性能不足，导致水下清洗装置只能短时间工作，一但工作时间长密封件出现磨损就容易出现漏水造成电机烧坏，极大的影响装置的使用期限。

因此，针对现有技术不足，提供一种强密封性水下清洗装置以克服现有技术不足甚为必要。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于避免现有技术的不足之处而提供一种强密封性水下清洗装置，能够清洗水下作业设备，且具有较强防水性能。

本实用新型的目的通过以下技术措施实现。

提供一种强密封性水下清洗装置，设置有壳体、密封机构、驱动机构、转动轴、磨损间隙补偿机构和清洁机构。

密封机构、驱动机构、磨损间隙补偿机构均设置于壳体内部，清洁机构设置于壳体的外部。

密封机构与壳体固定连接，密封机构将壳体内部空腔分隔成第一空腔和第二空腔。

磨损间隙补偿机构设置于第一空腔，驱动机构设置于第二空腔。

磨损间隙补偿机构与密封机构固定连接，驱动机构与密封机构固定连接。

转动轴一端穿透密封机构后与驱动机构活动连接，另一端穿透连接于壳体。

磨损间隙补偿机构套接于转动轴上，清洁机构与转动轴活动连接。

优选的，壳体设置有主壳体、前端盖和后端盖，前端盖和主端盖分别活动装配于主壳体上。

前端盖设置有转轴孔，转动轴转动连接于转轴孔内。

优选的，密封机构设置有密封套和轴承，密封套与前端盖固定连接。

密封套设置有第一孔洞和第二孔洞，密封套的轴线、第一孔洞的轴线以及第二孔洞的轴线重合。

轴承装配于第二孔洞，磨损间隙补偿机构固定连接于第一孔洞中。

优选的，第一孔洞的孔径大于第二孔洞的孔径。

优选的，驱动机构设置有电机座、磁铁座、电机和电机轴。

电机座面向密封套的一侧设置有磁铁腔，磁铁座设置于磁铁腔内。

磁铁座套接于转动轴上，磁铁座与轴承贴合。

电机与电机座固定连接，电机轴穿透电机座后与转动轴活动连接。

优选的，磨损间隙补偿机构设置有锁紧螺母、弹簧、动环和静环，锁紧螺母、弹簧、动环和静环均套接于转动轴上。

锁紧螺母与转动轴螺纹紧固连接，弹簧抵接于锁紧螺母，动环抵接于弹簧，静环与动环贴合抵接。

静环固定连接于第一孔洞中。

优选的，清洁机构设置有清洁柄和清洁主体。

清洁柄与转动轴活动连接，清洁主体与清洁柄活动连接。

优选的，还设置有水密连接机构，水密连接机构设置有水密连接器和芯锁帽。

后端盖设置有水密连接孔，水密连接器固定装配于水密连接孔内。

水密连接器与电机电连接。

芯锁帽设置于后端盖外侧，芯锁帽套接于水密连接器。

优选的，前端盖和转动轴连接处、前端盖和主壳体连接处、后端盖和主壳体连接处、前端盖和密封套连接处均设置有o型圈。

优选的，第二腔体内还设置有传感器、微处理器和控制器。

传感器、微处理器、控制器与电机电连接。

本实用新型的强密封性水下清洗装置，设置有壳体、密封机构、驱动机构、转动轴、磨损间隙补偿机构和清洁机构。密封机构、驱动机构、磨损间隙补偿机构均设置于壳体内部，清洁机构设置于壳体的外部。密封机构与壳体固定连接，密封机构将壳体内部空腔分隔成第一空腔和第二空腔。磨损间隙补偿机构设置于第一空腔，驱动机构设置于第二空腔。磨损间隙补偿机构与密封机构固定连接，驱动机构与密封机构固定连接。转动轴一端穿透密封机构后与驱动机构活动连接，另一端穿透连接于壳体。磨损间隙补偿机构套接于转动轴上，清洁机构与转动轴活动连接。该强密封性水下清洗装置，通过密封机构对驱动机构所在的第二空腔进行密封，然后通过磨损间隙补偿机构辅助密封机构进一步对第二空腔进行密封。装置在使用时，磨损间隙补偿装置自身内部会受到一定量的磨损，但其能够对自身磨损量进行补偿，所以磨损间隙补偿机构辅助密封机构密封第二空腔的能力不会减弱，使得第二空腔具有较好的密封性，防止了装置漏水损坏驱动机构，保证驱动机构电机能够在在水下长期工作，延长了清洗装置的使用寿命。

附图说明

利用附图对本实用新型作进一步的说明，但附图中的内容不构成对本实用新型的任何限制。

图1是本实用新型一种强密封性水下清洗装置结构示意图。

图2是图1沿面a-a的剖面结构示意图。

图3是本实用新型一种强密封性水下清洗装置壳体结构示意图。

图4是本实用新型一种强密封性水下清洗装置密封机构结构示意图。

图5是本实用新型一种强密封性水下清洗装置驱动机构结构示意图。

图6是本实用新型一种强密封性水下清洗装置磨损间隙补偿机构结构示意图。

在图1至图6中，包括：

壳体100、主壳体110、前端盖120、后端盖130、转轴孔140、第一空腔150、第二空腔160

密封套200、轴承210、第一孔洞220、第二孔洞230、

电机座300、磁铁座310、电机320、电机轴330、

锁紧螺母400、弹簧410、动环420、静环430、

清洁机构500、清洁柄510、清洁主体520、

转动轴600、o型圈610、

水密连接机构700、水密连接器710、芯锁帽720。

具体实施方式

结合以下实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1。

一种强密封性水下清洗装置，如图1和图2所示，设置有壳体100、密封机构、驱动机构、转动轴600、磨损间隙补偿机构和清洁机构500，密封机构、驱动机构、磨损间隙补偿机构均设置于壳体100内部，清洁机构500设置于壳体100的外部。密封机构和磨损间隙补偿机构的作用是对驱动机构进行密封，防止漏水使驱动机构损坏，驱动机构带动转动轴600转动，转动轴600带动清洗机构转动，实现对水下作业设备的清洗功能。

本实施例中，密封机构与壳体100固定连接，密封机构将壳体100内部空腔分隔成第一空腔150和第二空腔160，磨损间隙补偿机构设置于第一空腔150，驱动机构设置于第二空腔160。磨损间隙补偿机构与密封机构固定连接，驱动机构与密封机构固定连接。转动轴600一端穿透密封机构后与驱动机构活动连接，另一端穿透连接于壳体100。磨损间隙补偿机构套接于转动轴600上，清洁机构500与转动轴600活动连接。磨损间隙补偿机构的作用是辅助密封机构对驱动机构所在第二空腔160进行密封，在辅助密封机构的过程中，磨损间隙自动补偿装置会由于长时间的转动摩擦产生磨损，但其自身能够对磨损量进行自动补偿，对密封机构的辅助能力不会减弱，保证了第二空腔160具有较强的密封性，有效的防止水进入到第二空腔160内对驱动机构造成损害。

如图3所示，壳体100设置有主壳体110、前端盖120和后端盖130，前端盖120和主端盖分别活动装配于主壳体110上。前端盖120设置有转轴孔140，转动轴600转动连接于转轴孔140内。前端盖120和后端盖130分别通过螺钉连接于主壳体110上，前端盖120和后端盖130与主壳体110连接处端盖与主壳体110呈交错状态，即主壳体110与端盖连接面相对于端盖的内侧面更靠向端盖外侧面，这种连接方式能进一步提高壳体100的密封性，需要说明的是，本实施例中壳体100为圆筒状，但壳体100的形状不局限于本实施例的圆筒状，还可以设置为长方体状和正方体状等。还需要说明的是，本实施例中主壳体110、前端盖120和后端盖130均采用sus316l不锈钢制备而成，具有较强的耐腐蚀性，但不局限于sus316l不锈钢，还可以有其它耐腐蚀材料制备。

本实施例中，密封机构设置有密封套200和轴承210，密封套200与前端盖120固定连接，密封套200通过螺钉与前端盖120固定。如图4所示，密封套200设置有第一孔洞220和第二孔洞230，密封套200的轴线、第一孔洞220的轴线以及第二孔洞230的轴线重合。轴承210装配于第二孔洞230，磨损间隙补偿机构固定连接于第一孔洞220中。磨损间隙补偿装置与转动轴600紧密连接，对第二孔洞230进行密封，若有水从转动轴600和前端盖120连接处渗漏到第一空腔150后，由于磨损间隙补偿装置的密封性，第二空腔160的密封性更高，进一步防止水渗漏到第二空腔160内损坏转动机构。轴承210的作用是减小转动轴600与密封套200之间的磨损，本实施例中轴承210选用深沟球轴承210，但不局限于深沟球轴承210，还可以设置为其它轴承210。

如图5所示，驱动机构设置有电机座300、磁铁座310、电机320和电机轴330。电机座300面向密封套200的一侧设置有磁铁腔，磁铁座310设置于磁铁腔内，磁铁座310套接于转动轴600上，磁铁座310与轴承210贴合，电机320与电机座300固定连接，电机轴330穿透电机座300后与转动轴600活动连接。磁铁座310具有较好的耐磨性，使转动轴600和电机座300之间很难产生磨损间隙，进一步提高第二腔体的密封性。

如图6所示，磨损间隙补偿机构设置有锁紧螺母400、弹簧410、动环420和静环430。锁紧螺母400、弹簧410、动环420和静环430均套接于转动轴600上，锁紧螺母400与前端盖120抵接，锁紧螺母400与转动轴600固定连接，弹簧410抵接于锁紧螺母400，动环420抵接于弹簧410，静环430与动环420贴合抵接。静环430固定连接于第一孔洞220中，静环430外径和端面与第一孔洞220的内径和外断面完全贴合密封。动环420和静环430形成轴向密封，当装置进行长时间工作后，动环420和静环430之间的密封端面会产生磨损形成间隙，此时弹簧410的压缩力会对静环430和动环420之间的端面磨损间隙进行自动补偿，使得静环430和动环420的连接端面保持较好的密封性。

本实施例中，清洁机构500设置有清洁柄510和清洁主体520。清洁柄510与转动轴600活动连接，清洁主体520与清洁柄510活动连接。电机320工作时，带动转动轴600转动，转动轴600带动清洁柄510进行转动，实现对水下作业设备的清洁。需要说明的是，本实施例中的清洁主体520可以是刷子、钢丝球、布块等，针对不同的水下作业设备，使用不同的清洁主体520，适用性广泛。

本实施例中，还设置有水密连接机构700，水密连接机构700设置有水密连接器和芯锁帽720。后端盖130设置有水密连接孔，水密连接器固定装配于水密连接孔内，水密连接器与电机320电连接。芯锁帽720设置于后端盖130外侧，芯锁帽720套接于水密连接器。

需要说明的是，本实施例中的壳体100、密封套200、电机座300、芯锁帽720以及清洁柄510等均由sus316l不锈钢制备而成，但不局限于sus316l不锈钢，还可以选择其它耐腐蚀耐腐蚀性能好的材料。还需要说明的是，本实施例的电机320和水密连接器的型号均选用本领域人员熟知型号，在此不再赘述。

该强密封性水下清洗装置，通过壳体100密封和磨损间隙补偿机构密封两层密封对电机320进行密封，具有较好的保护作用，防止水渗漏到电机320处损坏设备，延长了装置的使用寿命。另外，该清洗装置的清洁主体520可以根据不同的待清洗水下作业设备进行更换，清洗装置的适用性更加广泛。

实施例2。

一种强密封性水下清洗装置，其它特征与实施例1相同，不同之处在于：第一孔洞220的孔径大于第二孔洞230的孔径。前端盖120和转动轴600连接处、前端盖120和主壳体110连接处、后端盖130和主壳体110连接处、前端盖120和密封套200连接处均设置有o型圈610。静环430外径与第一孔洞220内径相贴合，第一孔洞220的孔径大于第二孔洞230的孔径时，静环430与轴承210的贴合呈交错状，进一步提高了磨损间隙补偿机构的密封效果。o型圈610的作用是提高前端盖120和转动轴600连接处、前端盖120和主壳体110连接处、后端盖130和主壳体110连接处、前端盖120和密封套200连接处的密封效果，防止微小杂物进入第一空腔150内对静环430和动环420的密封端面造成破坏或者进入第二空腔160内对电机320造成破坏。

本实施例中，第二腔体内还设置有传感器、微处理器和控制器，传感器、微处理器、控制器与电机320电连接。传感器用于检测清洁机构500所在位置，然后将获得的位置信号传输给微处理模块，微处理模块将反馈信号传输给控制器，控制器控制电机320转动方式。

本实施例中，以水下作业设备为水下摄像机和水下补光灯，清洁主体520为清洁刷，使用清洁刷对水下摄像机镜头和水下补光灯进行清洗为例说明水下清洗装置的工作过程：

将清洗装置安装到水下摄像机和水下补光灯所在位置，使得清洁刷处于摄像机镜头和水下补光灯合适位置。外部电源通过水密连接器与电机320连接，电机320通电启动后带动转动轴600进行转动，转动轴600带动清洁柄510进行转动，清洁柄510带动清洁刷转动对摄像机镜头和水下补光灯进行清洁。传感器检测清洁刷在镜头上的位置，当清洁刷到达预设的位置后，传感器向微处理器发出位置信号，微处理器识别信号后向控制器发出位置反馈信号，控制器识别位置反馈信号后控制电机320反向转动，使得清洁刷在预设的转动角度内做摆钟运动。其中，清洁刷的转动角度和反转动的间隔时间由微处理器控制。清洁结束后，将清洁刷转动到不影响摄像机摄像和水下补光灯的位置后待一定时间后清洁装置重复上述动作，清洗过程循环进行。需要说明的是，本实施例的清洗装置可以与水下摄像机、水下补光灯等水下设备组合成一个整体设备使用，也可以与其中一个单一设备组合成一个整体使用。

该强密封性的水下清洗装置，具有较好的密封性能，且能通过传感器检测清洁主体520的位置，然后通过微处理器和控制器对电机320进行控制，进而实现对清洁主体520转动方向、时间和角度的控制，自动化程度高。

最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。