一种清洗设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种清洗设备，尤其是清洗玻璃基板和半成品阵列基板的清洗设备。
【背景技术】
[0002]在阵列基板的制造过程中，首先需要把玻璃基板制造成半成品阵列基板，然而再制造成成品阵列基板。其中，需要对玻璃基板和半成品阵列基板等待清洗物进行多次清洗，但这些清洗工序通常都通过一台清洗设备进行。
[0003]清洗设备包括:能够利用紫外线去除待清洗物上的有机物的第一清洗装置；能够利用水和气去除待清洗物上的颗粒的第二清洗装置；能够利用臭氧水去除待清洗物上的有机物和金属离子的或利用臭氧水氧化待清洗物上的非晶硅(即a-Si)以使非晶硅的表面形成硅氧化物(即S1x)层的第三清洗装置；能够利用氢氟酸蚀刻去除硅氧化物层的第四清洗装置；能够利用氢气水再次去除待清洗物上的颗粒的第五清洗装置；能够利用臭氧水把待清洗物上的非晶硅的表面氧化成均匀而致密的硅氧化物层的第六清洗装置；能够利用水和气去除待清洗物上的阵列基板上的第七清洗装置；以及能够利用风吹干待清洗物的风干
目.ο
[0004]当该清洗设备对玻璃材质的待清洗物、例如玻璃基板进行清洗时，只需依次经过第一、第二、第三和第七清洗装置以及风干装置即可，而不需要第四、第五和第六清洗装置对该玻璃基板进行清洗。但在整个清洗过程中又不得不经过第四、第五和第六清洗装置，由于第四、第五和第六清洗装置频繁使用后很有可能出现漏液，使得其漏液有可能滴落在经过其内的玻璃基板上，由于第四清洗装置的氢氟酸能够腐蚀玻璃基板，因此滴落在玻璃基板上的氢氟酸会腐蚀玻璃基板，造成清洗后的玻璃基板无法正常使用。
【发明内容】
[0005]为了解决上述问题，本发明的目的是提供了一种清洗设备，其能够避免未使用的清洗装置的漏液滴落在待清洗物上，由此可以避免漏液对待清洗物造成危害和影响。
[0006]本发明提供了一种清洗设备，其包括多个清洗装置，以及用于把各清洗装置连接起来的且能够运送待清洗物的运输机。各清洗装置均包括本体和形成在本体内的工作腔，以及设在工作腔内的能够向待清洗物喷液的喷液单元。其中，运输机贯穿工作腔并处喷液单元的下方。全部或部分的清洗装置均包括设在喷液单元与运输机之间的多个挡板，以及设在工作腔内的驱动机构。驱动机构构造成能够促动各挡板沿着第一方向旋转并使相邻的挡板相互搭接，以防止喷液单元的漏液滴落在待清洗物上，同时其能够促动各挡板沿着第一方向的反向进行旋转以敞开喷液单元。
[0007]在一个实施例中，驱动机构包括能够沿竖直方向升降的升降部件和多个拉杆，其中各拉杆的一端与分别相应的挡板相铰接，而另一端与升降部件相固接。
[0008]在一个实施例中，挡板的两端分别通过拉杆与升降部件相连。
[0009]在一个实施例中，升降部件通过平移构件与工作腔的顶部腔壁相连，以促动升降部件进行升降运动。
[0010]在一个实施例中，清洗设备还包括多个支撑杆，各支撑杆的底端分别与不同的挡板相铰接，而顶端均通过移动副与工作腔的侧壁相连。
[0011]在一个实施例中，移动副包括设在支撑杆的顶端处的腰型孔，以及固定于工作腔的侧壁上的且能够嵌入在腰型孔内的销轴。
[0012]在一个实施例中，在各挡板搭接后，拉杆与挡板之间的铰接位置低于支撑杆与挡板之间的铰接位置。
[0013]在一个实施例中，任意两个相邻的挡板之间的搭接面为斜面、曲面或弯折面。
[0014]在一个实施例中，挡板为矩形挡板。矩形挡板有着制造方便的优点，可以节约生产成本。
[0015]在一个实施例中，待清洗物为玻璃基板或半成品阵列基板。
[0016]根据本发明的清洗设备把其全部或部分清洗装置内设置了多个可旋转的挡板，各挡板在相互搭接后能够形成完整的平面，以用于接收清洗装置内喷液单元的漏液，防止漏液继续下流而滴落在待清洗物上，通过这种方式能够避免未使用的清洗装置的漏液滴落在待清洗物上，由此可以避免漏液对待清洗物造成危害和影响。
[0017]另外，根据本发明的清洗设备的装配容易，使用安全，便于实施推广应用。
【附图说明】
[0018]在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。其中:
[0019]图1是根据本发明的清洗设备的结构示意图；
[0020]图2是根据本发明的清洗设备的清洗装置的结构示意图；
[0021]图3是根据本发明的清洗设备的清洗装置的结构示意图，此时挡板处于关闭状态；
[0022]图4是根据本发明的清洗设备的清洗装置的结构示意图，此时挡板处于打开状态；
[0023]图5是根据本发明的清洗设备的清洗装置的立体图，此时挡板处于关闭状态；以及
[0024]图6是根据本发明的清洗设备的清洗装置的立体图，此时挡板处于打开状态。
[0025]在图3到图6中忽略了清洗设备的清洗装置的本体、工作腔和喷嘴单元。另外，在附图中相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。
【具体实施方式】
[0026]下面将结合附图对本发明作进一步说明。
[0027]图1显示了根据本发明的清洗设备50。清洗设备50包括多个清洗装置，以及用于把各清洗装置连接起来的且能运输待清洗物的运输机。运输机用于把各清洗装置连接起来，以便把待清洗物依次运送到各个清洗装置。该清洗设备50可以是用于清洗玻璃基板和半成品阵列基板的清洗设备，当然也可以是用于清洗其他产品和工件等待清洗物的清洗设备。以下以清洗玻璃基板和半成品阵列基板的清洗设备50为例，详细介绍本发明。
[0028]该清洗设备50包括七个清洗装置，分别为能够利用紫外线去除待清洗物上的有机物的第一清洗装置51、能够利用水和气去除待清洗物上的颗粒的第二清洗装置52、能够利用臭氧水去除待清洗物上的有机物和金属离子或利用臭氧水氧化待清洗物上的非晶硅以使非晶硅的表面形成硅氧化物层的第三清洗装置53、能够利用氢氟酸蚀刻去除硅氧化物层的第四清洗装置54、能够利用氢气水再次去除待清洗物上的颗粒的第五清洗装置55、能够利用臭氧水把非晶硅的表面氧化成均匀而致密的硅氧化物层的第六清洗装置56、能够利用水和气去除待清洗物上的第七清洗装置57和风干装置58以及运输机59。运输机59用于把各个清洗装置串联连接起来，以便把待清洗物依次运送到各个清洗装置。其中，各清洗装置和运输机59均属于本领域技术人员熟知的，在此不作详细描述。
[0029]当该清洗设备50清洗玻璃基板时，虽然第四清洗装置54不需对玻璃基板进行清洗，但是其滴落在玻璃基板上的漏液会腐蚀玻璃基板，造成玻璃基板无法正常使用。因此，第四清洗装置54需要具有能够阻止其漏液低落在玻璃基板上的机构或结构。此外，当该清洗设备50清洗半成品阵列基板或其他产品时，也可能就不需要的其他装置或其他装置的组合，因此这些装置均需要设置能够阻止漏液低落在待清洗物上的机构或结构。本领域技术人员可以根据实际需要选择在哪个清洗装置内设置能够阻止漏液低落在待清洗物上的机构或结构。最简单的做法就是，在所有的清洗装置内均设置能够阻止漏液低落在待清洗物上的机构或结构，在需要时开启相应的机构工作即可。
[0030]图2所示的清洗装置10可以是清洗设备50内任意的清洗装置。清洗装置10包括