吸附筒气体万向扩散装置制造方法
【专利摘要】提供一种吸附效率高，吸附剂利用率高的吸附筒气体万向扩散装置，包括吸附筒的上端腔体（61）和吸附筒的下端腔体（62），在所述上端腔体内设置有瓦棱片堆集体（3），在下端腔体内设置有瓦棱片堆集体（7），所述瓦棱片堆集体由若干瓦棱片（11）随机堆集组成。本实用新型适配于吸附筒，用于气体分离、净化、干燥等。
【专利说明】吸附筒气体万向扩散装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及气体吸附装置，特别是气体吸附筒的气体扩散装置。
【背景技术】
[0002]吸附式制氮机、制氧机、空气干燥机、天然气脱水装置等，都涉及气体成分被吸附的过程。气体流经吸附筒，气体中的某种或某些成分被吸附剂吸附，由此实现气体的分离或净化、干燥。空气氧氮分离即能生产氧气或氮气。空气、天然气中水蒸气被吸附脱除即能实现干燥、脱水，被吸除其他杂质能实现净化。
[0003]吸附筒内吸附剂对气体中成分的吸附效率及吸附剂利用率，与气体流经吸附床时气流的扩散状况有密切关系。气流扩散充分、均匀，吸附效率高，吸附剂利用率高，反之吸附效率低，吸附剂利用率低。已有技术中的气体吸附筒，在气体进、出口部位对应的两端处一般不加特殊装置，导致气体进、出口对应的吸附筒两端处空间内气流扩散状况不佳，使气体在吸附床内的扩散状态也不佳，其结果是吸附效率不高，吸附剂利用率不高。
【发明内容】
[0004]本实用新型要解决已有技术中吸附筒内气体气流扩散不佳，导致吸附效率不高，剂吸附利用效不高的问题，为此提供本实用新型的一种吸附筒气体万向扩散装置，该装置能使气体在吸附筒流入端与流出端腔体内气流充分扩散充分，均匀，从而提高吸附效率和吸附剂利用率。
[0005]为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案，其特殊之处是包括吸附筒的上端腔体和吸附筒的下端腔体，在所述上端腔体和下端腔体内设置有瓦棱片堆集体，该瓦棱片堆集体由若干瓦棱片随机堆集组成。
[0006]所述瓦棱片为柜形瓦棱片。
[0007]所述瓦棱片的瓦棱方向与柜形边斜交。
[0008]所述瓦棱片的大小与所述吸附筒容积大小对应，吸附筒容积相对大的，瓦棱片尺寸相对大，吸附筒容积相对小的，瓦棱片尺寸相对小。如此能解决气体流动阻力过大的问题。
[0009]所述瓦棱片宜填满于所述上端腔体和下端腔体。
[0010]所述上端腔体是指吸附筒上端孔板及滤板至吸附筒上端面所围腔体，所述下端腔体是指吸附筒下端孔板及滤板至吸附筒下端面所围腔体。吸附筒上端孔板及滤板和下端孔板及滤板之间的腔体内填充吸附剂。
[0011]本实用新型中的瓦棱片被随机填充堆集于吸附筒的上端腔体和下端腔体。瓦棱片尺寸及瓦棱密度没有限定，根据吸附筒容积大小相应改变，并考虑气流阻力不能过大，这通过实践及有限次试验后是可以做到的。
[0012]本实用新型在吸附筒上端腔体和下端腔体内设置有瓦棱片堆集体，瓦棱片堆集体由若干瓦棱片随机堆集组成，使堆集体内形成密集无章，随机交错分布的瓦棱通道，当气体从吸附筒进气口流入，通过上端腔体内的瓦棱片堆集体，气流就被随机快速扩散，并在上端腔体内趋于均匀分布，充分扩散的气流进入吸附剂填充床，气体便在吸附床内均匀分布，从而使吸附效率及吸附剂的利用率得到充分提高。当经过吸附分离后的气体进入吸附筒下端腔体的瓦棱片堆集体，气体在堆集体内充分扩散后从出气口输出；由于气体在下端腔体内被再次随机扩散，从而产生一种驱动力，这种驱动力驱使气体在下端腔体上方处的吸附剂床层内充分扩散，避免直接出口引流导致下部吸附床层内气体扩散不充分。本实用新型结构简单，成本低，使用方便，气体扩散效果好，从而吸附效率及吸附剂利用率高。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型连同吸附筒结构示意图；
[0014]图2是本实用新型中的瓦棱片结构示意图；
[0015]图3是图2的A-A剖视图。
[0016]图中标记:1气体进口，2加料口，3瓦棱片堆集体，4孔板及滤板，5吸附剂，6吸附筒，61上端腔体，62下端腔体，7瓦棱片堆集体，8卸料口，9孔板及滤板，10出气口，11瓦棱片。
【具体实施方式】
[0017]吸附筒气体万向扩散装置，包括吸附筒的上端腔体61和吸附筒的下端腔体62，在所述上端腔体内设置有瓦棱片堆集体3，在下端腔体内设置有瓦棱片堆集体7，所述瓦棱片堆集体由若干瓦棱片11随机堆集组成。所述瓦棱片为柜形瓦棱片。瓦棱片的瓦棱方向与柜形边斜交。瓦棱片的大小与所述吸附筒容积大小对应，吸附筒容积相对大的，瓦棱片尺寸相对大，吸附筒容积相对小的，瓦棱片尺寸相对小。瓦棱片填满于所述上腔体和下腔体。
【权利要求】
1.吸附筒气体万向扩散装置，其特征是包括吸附筒的上端腔体(61)和吸附筒的下端腔体(62)，在所述上端腔体内设置有瓦棱片堆集体(3)，在下端腔体内设置有瓦棱片堆集体(7 )，所述瓦棱片堆集体由若干瓦棱片(11)随机堆集组成。
2.如权利要求1所述的万向扩散装置，其特征是所述瓦棱片为柜形瓦棱片。
3.如权利要求2所述的万向扩散装置，其特征是所述瓦棱片的瓦棱方向与柜形边斜交。
4.如权利要求1、2或3所述的万向扩散装置，其特征是所述瓦棱片的大小与所述吸附筒容积大小对应，吸附筒容积相对大的，瓦棱片尺寸相对大，吸附筒容积相对小的，瓦棱片尺寸相对小。
5.如权利要求4所述的万向扩散装置，其特征是所述瓦棱片填满于所述上腔体和下腔体。
【文档编号】B01D53/04GK203829872SQ201420210054
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年4月26日 优先权日:2014年4月26日
【发明者】不公告发明人 申请人:杭州正高气体科技有限公司