挡胶机构及具有其的涂布机的制作方法

本发明涉及光学薄膜加工技术领域，具体而言，涉及一种挡胶机构及具有其的涂布机。

背景技术：

现有技术中，通常使用UV固化涂布机对光学薄膜进行成型加工作业，基膜位于UV固化涂布机的一个压辊处，模具位于另一个压辊处，两个压辊相对转动的同时，向基膜与模具之间添加UV胶，基膜与模具发生贴合的过程中，UV胶在紫外光的作用下发生固化，从而模具上的微米级光学结构被压印到基膜上，进而形成了成型的光学薄膜。

由于向基膜与模具之间添加的UV胶液量无法被精确控制，从而造成胶面宽幅不稳定，这样便会造成胶面收缩而导致胶面宽幅不足，或出现胶液量过多而从光学薄膜的边沿溢出的溢胶现象；胶面宽幅不足提升了光学薄膜生产的不良率，溢胶现象中溢出的胶液与模具接触，会损坏模具，造成模具缺陷，从而UV固化涂布机便无法正常生产加工出合格的光学薄膜；可见，现有技术中对光学薄膜进行成型加工作业过程，存在光学薄膜成型加工作业可靠性低和光学薄膜产品不良率高的问题。

技术实现要素：

本发明的主要目的在于提供一种挡胶机构及具有其的涂布机，以解决现有技术中对光学薄膜进行成型加工作业过程，存在光学薄膜成型加工作业可靠性低和光学薄膜产品不良率高的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种挡胶机构，用于对光学薄膜的成型加工作业中添加的胶液进行止挡，包括：机架；挡胶部，挡胶部沿机架的长度方向位置可调节地设置在机架上以止挡光学薄膜的边缘。

进一步地，挡胶部包括：连接本体，连接本体可滑动地与机架连接；挡胶板，挡胶板与连接本体连接。

进一步地，挡胶部还包括微调结构，微调结构设置在连接本体上，挡胶板通过微调结构与连接本体连接，且微调结构的第一端为微调操作端，微调结构的第二端与挡胶板连接。

进一步地，机架包括：支撑横梁；滑轨，滑轨与支撑横梁连接，挡胶部可滑动地设置在滑轨上。

进一步地，滑轨与支撑横梁平行设置。

进一步地，挡胶部为两个，滑轨为两个，两个挡胶部一一对应地设置在两个滑轨上，且两个挡胶部沿滑轨的长度方向间隔设置以止挡在光学薄膜的宽度方向的两侧。

进一步地，机架还包括连接座，连接座为两个，两个连接座相对设置，支撑横梁设置在两个连接座之间，两个滑轨分别与两个连接座连接。

进一步地，机架还包括滑移座，滑移座设置在连接座的底端。

进一步地，挡胶机构还包括坦克链组件，坦克链组件为两个，两个坦克链组件分别设置在机架的长度方向的两端。

进一步地，坦克链组件包括：导轨结构，导轨结构设置在支撑横梁上并与滑轨平行设置；滑移链，滑移链可滑动地设置在滑轨上。

进一步地，挡胶机构还包括驱动气缸和供气管，驱动气缸设置在挡胶部上并与挡胶板驱动连接，供气管的第一端与气源装置连通，供气管的第二端与驱动气缸连通，且供气管穿过滑移链设置。

根据本发明的另一方面，提供了一种涂布机，包括：机体、第一压辊和第二压辊，第一压辊和第二压辊相对设置在机体上，且第一压辊和第二压辊的转动方向相反，第一压辊和第二压辊之间形成用于对光学薄膜成型加工的涂胶空间；挡胶机构，挡胶机构设置在机体上，且挡胶机构的挡胶部设置在涂胶空间处，挡胶机构为上述的挡胶机构。

应用本发明的技术方案，挡胶机构能够对光学薄膜的成型加工作业中添加的胶液进行止挡，挡胶机构包括机架和挡胶部，其中，挡胶部沿机架的长度方向位置可调节地设置在机架上以止挡光学薄膜的边缘。这样，挡胶部能够适配于光学薄膜的尺寸，挡胶部止挡在光学薄膜的边缘处，并对涂布机的第一压辊和第二压辊之间的涂胶空间进行了侧向封堵，从而不仅防止了胶液从光学薄膜的边缘处溢出，而且能够使胶液在涂胶空间内沿涂胶空间的长度方向均匀分配，有效地避免了因胶液固化过程中收缩而导致胶面宽幅不足的现象发生，进而提高了光学薄膜的成型加工作业的可靠性并且降低了光学薄膜产品的不良率。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的一种可选实施例的挡胶机构的主视示意图；

图2示出了图1中的挡胶机构的俯视示意图；

图3示出了图1中的挡胶机构的侧视示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、机架；11、支撑横梁；12、滑轨；13、连接座；14、滑移座；15、遮挡板；20、挡胶部；21、连接本体；22、挡胶板；23、微调结构；30、坦克链组件；31、导轨结构；32、滑移链；40、驱动气缸。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

在本发明的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

此外，需要说明的是，使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对相应零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本发明保护范围的限制。

为了解决现有技术中对光学薄膜进行成型加工作业过程，存在光学薄膜成型加工作业可靠性低和光学薄膜产品不良率高的问题，本发明提供了一种挡胶机构及具有其的涂布机，其中，涂布机包括机体、第一压辊、第二压辊和挡胶机构；第一压辊和第二压辊相对设置在机体上，且第一压辊和第二压辊的转动方向相反，第一压辊和第二压辊之间形成用于对光学薄膜成型加工的涂胶空间；挡胶机构设置在机体上，且挡胶机构的挡胶部20设置在涂胶空间处，挡胶机构为上述和下述的挡胶机构。

如图1至图3所示，挡胶机构用于对光学薄膜的成型加工作业中添加的胶液进行止挡，挡胶机构包括机架10和挡胶部20，挡胶部20沿机架10的长度方向位置可调节地设置在机架10上以止挡光学薄膜的边缘。

由于挡胶机构能够对光学薄膜的成型加工作业中添加的胶液进行止挡，挡胶机构包括机架10和挡胶部20，其中，挡胶部20沿机架10的长度方向位置可调节地设置在机架10上以止挡光学薄膜的边缘。这样，挡胶部20能够适配于光学薄膜的尺寸，挡胶部20止挡在光学薄膜的边缘处，并对涂布机的第一压辊和第二压辊之间的涂胶空间进行了侧向封堵，从而不仅防止了胶液从光学薄膜的边缘处溢出，而且能够使胶液在涂胶空间内沿涂胶空间的长度方向均匀分配，有效地避免了因胶液固化过程中收缩而导致胶面宽幅不足的现象发生，进而提高了光学薄膜的成型加工作业的可靠性并且降低了光学薄膜产品的不良率。

如图3所示，挡胶部20包括连接本体21和挡胶板22，连接本体21可滑动地与机架10连接，挡胶板22与连接本体21连接。这样，通过挡胶板22既能够对胶液产生有效地止挡作用，还避免了挡胶部20占用更多的空间，提高了挡胶部20的实用性和操作便捷性。

如图1所示，挡胶部20还包括微调结构23，微调结构23设置在连接本体21上，挡胶板22通过微调结构23与连接本体21连接，且微调结构23的第一端为微调操作端，微调结构23的第二端与挡胶板22连接。这样，微调结构23实现了对挡胶板22在竖直方向上的位移微调，能够精确地将挡胶板22的边缘与第一压辊和第二压辊的表面之间的距离调整到预定值，不仅能够有效地避免胶液由挡胶板22与第一压辊和第二压辊的表面的缝隙处漏出，而且还防止了挡胶板22与第一压辊或第二压辊贴合过紧而影响第一压辊或第二压辊的正常转动，或造成挡胶板22的底部磨损而出现溢胶。

如图1至图3所示，机架10包括支撑横梁11和滑轨12，滑轨12与支撑横梁11连接，挡胶部20可滑动地设置在滑轨12上。支撑横梁11横梁的设置保证了挡胶机构稳定地支撑在涂布机的第一压辊和第二压辊的上方，提高了挡胶机构的结构强度。挡胶部20可滑动地设置在滑轨12上，挡胶部20能够沿着机架10的长度方向，也就是涂胶空间的长度方向的位置可以调节，从而使挡胶机构能够适配性地对不同结构尺寸的光学薄膜进行有效地边缘止挡，提高了挡胶机构的实用性。

可选地，滑轨12与支撑横梁11平行设置。这样，当挡胶机构安装到涂布机的机体上，滑轨12和支撑横梁11的长度方向与第一压辊、第二压辊以及涂胶空间的长度方向相同，从而便于对挡胶机构的挡胶部20的位置进行调节，此外，滑轨12与支撑横梁11平行设置还能够使挡胶机构占用的尽可能小的空间，从而减小了涂布机的整体体积。

如图1和图2所示，在本发明的可选实施例中，挡胶部20为两个，滑轨12为两个，两个挡胶部20一一对应地设置在两个滑轨12上，且两个挡胶部20沿滑轨12的长度方向间隔设置以止挡在光学薄膜的宽度方向的两侧。

如图1至图3所示，机架10还包括连接座13，连接座13为两个，两个连接座13相对设置，支撑横梁11设置在两个连接座13之间，两个滑轨12分别与两个连接座13连接。这样，连接座13的设置提高了支撑横梁11和滑轨12之间的位置稳定性，避免了涂布机在工作过程中，支撑横梁11或滑轨12发生振动而影响光学薄膜的成型加工质量。

如图1和图3所示，机架10还包括滑移座14，滑移座14设置在连接座13的底端。这样，滑移座14的设置使挡胶机构能够相对于涂布机的机体位置可调节地设置，从而便于操作人员对挡胶机构进行位置移动，提高了挡胶机构的使用便捷性。

可选地，滑移座14上设置有滑轨结构，涂布机的机体上设置有与滑轨结构适配的滑槽结构。当然，在另一种可选实施例中，滑移座14上还可以设置有滑槽结构，涂布机的机体上设置有与滑槽结构适配的滑柜结构。

优选地，滑轨结构和滑槽结构沿机架10的宽度方向设置。

如图2和图3所示，挡胶机构还包括坦克链组件30，坦克链组件30为两个，两个坦克链组件30分别设置在机架10的长度方向的两端。这样，坦克链组件30与挡胶部20的配合使用增大了挡胶部20沿机架10的长度方向的位移调节范围，从而便于对挡胶部20进行位置调节。

如图3所示，坦克链组件30包括导轨结构31和滑移链32，导轨结构31设置在支撑横梁11上并与滑轨12平行设置，滑移链32可滑动地设置在滑轨12上。

如图3所示，挡胶机构还包括驱动气缸40和供气管，驱动气缸40设置在挡胶部20上并与挡胶板22驱动连接，供气管的第一端与气源装置连通，供气管的第二端与驱动气缸40连通，且供气管穿过滑移链32设置。这样，供气管能够随滑移链32的运动而运动，从而避免了因挡胶部20的运动而对供气管造成运动干涉。驱动气缸40的设置能够对挡胶部20进行竖直方向上的位置粗调时可靠地提供压力，减小了上下移动挡胶板22时受到的阻力，保证了挡胶板22的运动有效性，需要说明的是，挡胶板22在竖直方向上位置可调节地设置，如图3所示，为了保证对挡胶板22的有效限位，避免挡胶板22运动过度，挡胶机构还包括支撑连接臂，支撑连接臂的两端分别与连接座13和挡胶板22铰接。

如图1和图2所示，挡胶机构还包括遮挡板15，遮挡板15设置在支撑横梁11上并沿支撑横梁11的长度方向延伸，这样，当挡胶机构安装到涂布机的机体上后，遮挡板15遮挡在第一压辊的上方，有效地避免了灰尘杂质落到第一压辊处的基膜上，从而保证了光学薄膜产品的生产加工质量。

需要说明的是，涂布机还包括涂胶机构和UV灯，涂胶机构设置在机体上，涂胶机构包括喷头，喷头向涂胶空间处伸出以向涂胶空间内添加胶液；UV灯设置在第二压辊上以对涂胶空间内的胶液进行紫外线照射而使胶液固化。

在本发明的一个未图示的可选实施例中涂布机还包括吸胶管和吸胶泵，吸胶管的一端与吸胶泵连通，吸胶管的另一端向涂胶空间处伸出以吸收涂胶空间内的胶液，从而能够有效地调节涂胶空间内的胶液的液面高度。这样，能够防止无人监控时胶液的液面高度过高而导致溢胶发生，吸胶泵吸取收集的胶液经过过滤后可以再次循环利用。

可选的，本申请中所指的胶液为UV胶。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。