一种自动侧排液式真空缓冲罐的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于分子整理设备技术领域，特别是涉及一种分子蒸馏系统用的自动侧排液式真空缓冲罐。
【背景技术】
[0002]目前，常规的真空缓冲罐均需在破坏罐内真空的情况下，才能实现排液，而频繁的开关阀门来排液导致每一次重新达到真空状态需要浪费大量的能耗和时间，降低了工作效率，增加了生产成本，造成了资源浪费。而且频繁开发阀门，真空和常压的多次切换，容易造成开合处的密封装置变形甚至损坏导致密封不严、真空度降低，从而需要经常维修或更换。
[0003]—种真空缓冲罐将罐体分隔成为上下两部腔体，两部分腔体之间安装有阀体，通过控制阀体以及独立分别对两部分腔体内的气压进行调节，可以实现真空缓冲罐的恒压排液，但是一旦安装子在罐体内部的阀体发生故障，则维修困难，成本高。
[0004]另外，现有真空缓冲罐的放液管直接连接在罐体的底部，放液管的开口竖直向下，罐体的下方空间有限，不便从放液管接液。
【发明内容】
[0005]本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种在不影响真空度的条件下排液，且便于检修，排液操作简单快速，方便取液的分子蒸馏系统用的自动侧排液式真空缓冲罐。
[0006]本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:一种自动侧排液式真空缓冲罐，包括罐体，所述罐体上具有缓冲进口、缓冲出口、真空进口、真空出口和排液口，所述排液口设于所述罐体的底部，其特征在于:还包括集液筒，所述集液筒位于所述罐体的下方，所述集液筒倾斜设置，所述集液筒具有前端和后端，所述集液筒的前端高于所述集液筒的后端，所述排液口通过第一管体连通集液筒的前端，所述第一管体上串装有第一电磁截止阀，所述集液筒的后端设有伸出所述罐体下方一侧的放液管，所述放液管上串装有第二电磁截止阀，所述集液筒通过第二管体连通有真空发生装置，所述第二管体上串装有第三电磁截止阀，所述罐体内安装有第一气压传感器，所述集液筒内安装有第二气压传感器；还包括电路控制板，所述电路控制板与所述真空发生装置、第一电磁电磁截止阀、第二电磁电磁截止阀、第三电磁电磁截止阀、第一气压传感器和第二气压传感器通过导线连接，所述电路控制板上具有放液按钮。
[0007]本实用新型还可以采用如下技术措施:
[0008]所述罐体的下部固定有支腿，所述真空发生装置与所述支腿固定。
[0009]本实用新型具有的优点和积极效果是:
[0010]本实用新型中，罐体与集液筒联接，且罐体与集液筒中的真空度可以分别控制，从而能够实现在罐体真空度不便的情况下，使罐体内的液体流入集液筒中。设于罐体与集液筒之间的第一电磁截止阀保证集液筒放液时罐体内的真空度不受影响，以保证真空缓冲罐的工作效率，避免罐体因真空度频繁变化而造成的损坏。本实用新型中的各部分阀体以及集液筒外露设于罐体底部，便于检修。
[0011 ] 集液罐不仅具有集液作用，且集液罐的后端从罐体的下方一侧伸出，便于接液，使用方便。另外，本新型中各个截止阀以及真空发生装置采用自动化控制，排液快速，简单，方便。
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型的结构示意图。
[0013]图中:1、罐体；2、缓冲进口 ；3、缓冲出口 ；4、真空进口 ；5、真空出口 ；6、排液口 ；7、第一管体；8、集液筒；9、第一电磁截止阀；10、放液管；11、第二电磁截止阀；12、第二管体；13、真空发生装置；14、第三电磁截止阀；15、第一气压传感器；16、第二气压传感器；17、电路控制板；18、放液按钮；19、支腿。
【具体实施方式】
[0014]为能进一步了解本实用新型的
【发明内容】
、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下:
[0015]请参阅图1，一种自动侧排液式真空缓冲罐，包括罐体1。所述罐体1上具有缓冲进口 2、缓冲出口 3、真空进口 4、真空出口 5和排液口 6。本实施例中，缓冲进口 2设于所述罐体1的上部一侧，所述缓冲出口 3设于所述罐体1的下部一侧；所述真空进口 4和真空出口 5设于所述罐体1的顶部。
[0016]还包括集液筒8。所述集液筒8位于所述罐体1的下方。所述集液筒8倾斜设置，即所述集液筒8具有前端和后端，所述集液筒8的前端高于所述集液筒的后端。
[0017]所述排液口 6设于所述罐体1的底部。所述排液口 6通过第一管体7连通有集液筒8。本实施例中，集液筒8是内部具有空腔的圆柱形筒体。所述第一管体7上串装有第一电磁截止阀9。所述集液筒8的下部设有放液管10，所述放液管10上串装有第二电磁截止阀11。所述放液管10的轴线与所述集液筒8的轴线平行，且放液管10的端部从罐体1下方一侧伸出，本结构不仅令罐体1下部空间得到充分利用，其便于接液。所述集液筒8通过第二管体12连通有真空发生装置13。所述第二管体12上串装有第三电磁截止阀14。
[0018]所述罐体1内安装有第一气压传感器15，所述集液筒8内安装有第二气压传感器16 ;还包括电路控制板17，所述电路控制板17与所述真空发生装置13、第一电磁截止阀9、第二电磁截止阀11、第三电磁截止阀14、第一气压传感器15和第二气压传感器16通过导线连接，所述电路控制板17上具有放液按钮18。
[0019]上述电路控制板17、真空发生装置13、第一电磁截止阀9、第二电磁截止阀11、第三电磁截止阀14、第一气压传感器15和第二气压传感器16为现有技术中的设备。电路控制板17是电气控制系统中的主要部件，用于控制电气控制系统中各个电器元件的工作与运行。第一电磁截止阀9、第二电磁截止阀11和第三电磁截止阀14是利用电信号控制开闭的截止阀。第一气压传感器15和第二气压传感器16是用于分别监测罐体1内真空度和集液筒内真空度的部件。
[0020]本实用新型所述的真空缓冲罐的排液方法:
[0021]常态下，第一电磁截止阀9、第二电磁截止阀11、第三电磁截止阀14关闭，使第一管体7、放液管10和第二管体12截断，罐体1内的真空度与集液筒8内的真空度相同。
[0022]需要放液时，按下放液按钮18，电路控制板17会按照程序控制本新型中的真空发生装置13、第一电磁截止阀9、第二电磁截止阀11和第三电磁截止阀14进行下述动作:
[0023]第一步，第一电磁截止阀9打开，使第一管体7开通，罐体1与集液筒8连通，罐体1内部的积液流入集液筒8内，且罐体1内的真空度不变。第一电磁截止阀9打开并维持打开状态5s后关闭。
[0024]第二步，第二电磁截止阀11打开并维持打开状态5s，使放液管10开通，集液筒8内的积液可以通过放液管10排出。工作人员可以从罐体1侧进行接液。
[0025]第三部，第三电磁截止阀14打开，使第二管体12开通。真空发生装置13运行，真空发生装置13对集液筒8内的真空度进行调节。第一气压传感器15和第二气压传感器16检测到罐体1中真空度与集液筒8中的真空度相通后，第三电磁截止阀14关闭。
[0026]电路控制板17控制真空发生装置13、第一电磁截止阀9、第二电磁截止阀11和第三电磁截止阀14完成上述三步动作，以完成一次自动排液动作。且液体从罐体侧部排出，便于工作人员接液。
[0027]利用上述步骤进行排液，罐体1内部的真空度不会发生大幅度变化，保证生产效率并可以避免设备受损。
[0028]本实施例中，所述罐体1的下部固定有支腿19，所述真空发生装置13与所述支腿19固定。
【主权项】
1.一种自动侧排液式真空缓冲罐，包括罐体(1)，所述罐体(1)上具有缓冲进口(2)、缓冲出口⑶、真空进口(4)、真空出口(5)和排液口(6)，所述排液口(6)设于所述罐体⑴的底部，其特征在于:还包括集液筒(8)，所述集液筒(8)位于所述罐体(1)的下方，所述集液筒(8)倾斜设置，所述集液筒(8)具有前端和后端，所述集液筒(8)的前端高于所述集液筒(8)的后端，所述排液口(6)通过第一管体(7)连通集液筒(8)的前端，所述第一管体(7)上串装有第一电磁截止阀(9)，所述集液筒⑶的后端设有伸出所述罐体⑴下方一侧的放液管(10)，所述放液管(10)上串装有第二电磁截止阀(11)，所述集液筒(8)通过第二管体(12)连通有真空发生装置(13)，所述第二管体(12)上串装有第三电磁截止阀(14)，所述罐体(1)内安装有第一气压传感器(15)，所述集液筒(8)内安装有第二气压传感器(16);还包括电路控制板(17)，所述电路控制板(17)与所述真空发生装置(13)、第一电磁电磁截止阀(9)、第二电磁电磁截止阀(11)、第三电磁电磁截止阀(14)、第一气压传感器(15)和第二气压传感器(16)通过导线连接，所述电路控制板(17)上具有放液按钮(18)。2.根据权利要求1所述的自动侧排液式真空缓冲罐，其特征在于:所述罐体(1)的下部固定有支腿(19)，所述真空发生装置(13)与所述支腿(19)固定。
【专利摘要】本实用新型涉及一种自动侧排液式真空缓冲罐，包括罐体和排液口，还包括集液筒，集液筒位于罐体的下方，集液筒的前端高于后端，排液口通过第一管体连通集液筒的前端，第一管体上装有第一电磁截止阀，集液筒的后端设有伸出罐体下方一侧的放液管，放液管上装有第二电磁截止阀，集液筒通过第二管体连通有真空发生装置，第二管体上装有第三电磁截止阀，罐体内安装有第一气压传感器，集液筒内安装有第二气压传感器；包括电路控制板，电路控制板与真空发生装置、第一电磁电磁截止阀、第二电磁电磁截止阀、第三电磁电磁截止阀、第一气压传感器和第二气压传感器连接，电路控制板上具有放液按钮。本新型可以在不影响真空度的条件下排液，且便于检修，取液方便且快捷。
【IPC分类】B01D3/00, B01D3/12
【公开号】CN205042169
【申请号】CN201520652587
【发明人】施民育
【申请人】天津君歌分子蒸馏设备有限公司
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2015年8月26日