一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备的制作方法

文档序号:23034471发布日期:2020-11-25 14:41阅读:105来源:国知局
一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备的制作方法

本实用新型属于石油炼化领域,具体涉及一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备。



背景技术:

催化裂化油浆无论是作为燃料重油的调合组分,还是用作制造炭黑、针状焦的原料,或是进行芳烃抽提生产橡胶添加剂,都具有重要的开发应用价值和良好的发展前景。催化裂化油浆质量的好坏,将直接影响到重油催化裂化装置的整体经济效益。但是催化裂化油浆中一般含有大量催化剂颗粒,对燃料重油、石油焦的产品质量以及芳烃抽提等深加工技术的发展都会产生较大的不利影响。因此,催化裂化装置催化裂化油浆净化分离技术的开发是目前国内外石化企业广泛关注、并需要尽快解决的突出问题。

催化裂化油浆粘性大,内含的催化剂粒径小,传统的催化裂化油浆处理设备包括重力沉降设备、离心分离设备及旋流分离设备无法有效去除油浆中的催化剂,且油浆中的重组分容易粘附在设备内壁造成设备无法有效运行。



技术实现要素:

本实用新型为了解决以上技术问题,开发了一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备,将原料入口设在上壳体切线方向,进入设备的油浆在旋流作用下催化剂下沉,上部含催化剂较少的油浆进行陶瓷膜过滤得到净化油浆,在油浆旋流作用下,可降低催化剂在陶瓷膜表面滤饼的形成,降低过滤阻力,在催化裂化油浆陶瓷膜净化设备中心设有转动轴,陶瓷膜区域设有混流桨,可加强设备上部的湍流效果,进一步抑制陶瓷膜表面滤饼的形成,陶瓷膜之间设有清洗气入口,可向设备内通入压缩空气,清除陶瓷膜之间的催化剂架桥结构,使陶瓷膜沉降至设备底部。在催化剂沉降区设有松泥桨,通过松泥桨的缓慢搅拌使沉入设备下部的催化剂松动,在螺旋输送桨的作用下,使催化剂排出设备。催化剂沉降区开有壳体清洗剂入口,可向可体内通入高压清洗剂,对壳体内部进行清洗。

为实现上述技术目的,本实用新型的技术方案:

一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备,包括上壳体、花板、中壳体、下壳体、电机、转动轴、混流桨、松泥桨、气体清膜系统,螺旋输送桨,陶瓷膜,所述上壳体为圆柱形,一侧开有净化油出口,所述中壳体为圆柱形,中壳体上部沿壳体一侧切线方向开有原料入口,所述花板置于上壳体及中壳体之间,花板中部开由转动轴孔,转动轴孔四周分布有花板孔,花板孔间隙分布有清洗气入口,所述下壳体连接于中壳体下部,为圆锥形,下壳体下部开有壳体清洗剂入口,下壳体底部开有催化剂出口,所述电机位于上壳体顶部中心,转动轴穿过上壳体及花板上的转动轴孔伸入下壳体的底部,所述陶瓷膜为底端密封的管式膜,安装于花板的花板孔中,陶瓷膜长度小于中壳体高度,所述混流桨安装于转动轴的上部,所述松泥桨安装于转动轴下部,所述螺旋输送桨安装于转动轴的底部,所述气体清膜系统位于上壳体外部,包括气包、电磁脉冲阀、气体导管、清洗管,所述气体导管一端通过电磁脉冲阀与气包相连,另一端密封,所述清洗管一端与气体导管相连,另一端与清洗气入口相连。

进一步的改进在于,所述的上壳体、中壳体、下壳体外部带有保温加热装置。

进一步的改进在于,所述的陶瓷膜材质为碳化硅、氧化铝、氧化锆中的一种,陶瓷膜平均孔径0.3-30μm,厚度为3-10mm。

进一步的改进在于,所述的混流桨数量为1-5个,位于转动轴最下部一个混流桨与陶瓷膜底端位于同一水平面,其余混流桨平均分布于陶瓷膜安装区的转动轴上。

进一步的改进在于,所述的螺旋输送桨与催化剂出口中心位于同一轴线上。

进一步的改进在于,所述的电机为变频电机。

本实用新型结合了旋流分离技术、陶瓷膜分离技术的优点,设备结构简单易于操作,可对催化裂化油浆中的催化剂进行高效分离。

附图说明

图1为本实用新型所述的催化裂化油浆陶瓷膜净化设备结构图;

图2为所述设备花板俯视图;

图3为所述的气体清膜系统结构图。

其中,1-上壳体,2-花板,3-中壳体,4-下壳体,5-电机,6-转动轴,7-混流桨,8-松泥桨,9-气体清膜系统,10-螺旋输送桨,11-陶瓷膜,101-原料入口,102-净化油出口,201-花板孔,202-转动轴孔,203-清洗气入口,401-催化剂出口,402-清洗剂入口,901-气包,902-电磁脉冲阀,903-气体导管,904-清洗管。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1

如图1-3所示,一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备,包括上壳体1、花板2、中壳体3、下壳体4、变频电机5、转动轴6、混流桨7、松泥桨8、气体清膜系统9,螺旋输送桨10,陶瓷膜11,所述上壳体1为圆柱形,一侧开有净化油出口102,所述中壳体3为圆柱形,中壳体3上部沿壳体一侧切线方向开有原料入口101,所述花板2置于上壳体1及中壳体3之间,花板2中部开由转动轴孔202,转动轴孔202四周分布有花板孔201,花板孔201间隙分布有清洗气入口203,所述下壳体4连接于中壳体下部,为圆锥形,下壳体4下部开有壳体清洗剂入口402,下壳体4底部开有催化剂出口401,所述电机5位于上壳体1顶部中心,转动轴6穿过上壳体1及花板2上的转动轴孔202伸入下壳体4的底部,所述陶瓷膜11为底端密封的管式膜,安装于花板2的花板孔201中,陶瓷膜11长度小于中壳体3高度,所述混流桨7安装于转动轴6的上部,所述松泥桨8安装于转动轴6下部,所述螺旋输送桨安装于转动轴6的底部,所述气体清膜系统9位于上壳体1外部,包括气包901、电磁脉冲阀902、气体导管903、清洗管904,所述气体导管903一端通过电磁脉冲阀902与气包901相连,另一端密封,所述清洗管904一端与气体导管903相连,另一端与清洗气入口203相连。

所述的上壳体1、中壳体3、下壳体4外部带有保温加热装置。

所述的陶瓷膜11材质为碳化硅,陶瓷膜11平均孔径0.3μm,厚度为10mm。

所述的混流桨7数量为1个,位于转动轴6最下部一个混流桨7与陶瓷膜11底端位于同一水平面,其余混流桨7平均分布于陶瓷膜11安装区的转动轴6上。

所述的螺旋输送桨10与催化剂出口401中心位于同一轴线上。

实施例2

如图1-3所示,一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备,包括上壳体1、花板2、中壳体3、下壳体4、变频电机5、转动轴6、混流桨7、松泥桨8、气体清膜系统9,螺旋输送桨10,陶瓷膜11,所述的上壳体1、中壳体3、下壳体4外部带有保温加热装置;所述上壳体1为圆柱形,一侧开有净化油出口102,所述中壳体3为圆柱形,中壳体3上部沿壳体一侧切线方向开有原料入口101,所述花板2置于上壳体1及中壳体3之间,花板2中部开由转动轴孔202,转动轴孔202四周分布有花板孔201,花板孔201间隙分布有清洗气入口203,所述下壳体4连接于中壳体下部,为圆锥形,下壳体4下部开有壳体清洗剂入口402,下壳体4底部开有催化剂出口401,所述电机5位于上壳体1顶部中心,转动轴6穿过上壳体1及花板2上的转动轴孔202伸入下壳体4的底部,所述陶瓷膜11为底端密封的管式膜,安装于花板2的花板孔201中,陶瓷膜11长度小于中壳体3高度,所述混流桨7安装于转动轴6的上部,所述松泥桨8安装于转动轴6下部,所述螺旋输送桨安装于转动轴6的底部,所述气体清膜系统9位于上壳体1外部,包括气包901、电磁脉冲阀902、气体导管903、清洗管904,所述气体导管903一端通过电磁脉冲阀902与气包901相连,另一端密封,所述清洗管904一端与气体导管903相连,另一端与清洗气入口203相连。

所述的陶瓷膜11材质为氧化铝,陶瓷膜11平均孔径15μm,厚度为10mm。

所述的混流桨7数量为3个,位于转动轴6最下部一个混流桨7与陶瓷膜11底端位于同一水平面,其余混流桨7平均分布于陶瓷膜11安装区的转动轴6上。

所述的螺旋输送桨10与催化剂出口401中心位于同一轴线上。

实施例3

如图1-3所示,一种催化裂化油浆陶瓷膜净化设备,包括上壳体1、花板2、中壳体3、下壳体4、变频电机5、转动轴6、混流桨7、松泥桨8、气体清膜系统9,螺旋输送桨10,陶瓷膜11,所述的上壳体1、中壳体3、下壳体4外部带有保温加热装置;所述上壳体1为圆柱形,一侧开有净化油出口102,所述中壳体3为圆柱形,中壳体3上部沿壳体一侧切线方向开有原料入口101,所述花板2置于上壳体1及中壳体3之间,花板2中部开由转动轴孔202,转动轴孔202四周分布有花板孔201,花板孔201间隙分布有清洗气入口203,所述下壳体4连接于中壳体下部,为圆锥形,下壳体4下部开有壳体清洗剂入口402,下壳体4底部开有催化剂出口401,所述电机5位于上壳体1顶部中心,转动轴6穿过上壳体1及花板2上的转动轴孔202伸入下壳体4的底部,所述陶瓷膜11为底端密封的管式膜,安装于花板2的花板孔201中,陶瓷膜11长度小于中壳体3高度,所述混流桨7安装于转动轴6的上部,所述松泥桨8安装于转动轴6下部,所述螺旋输送桨安装于转动轴6的底部,所述气体清膜系统9位于上壳体1外部,包括气包901、电磁脉冲阀902、气体导管903、清洗管904,所述气体导管903一端通过电磁脉冲阀902与气包901相连,另一端密封,所述清洗管904一端与气体导管903相连,另一端与清洗气入口203相连。

所述的陶瓷膜11材质为氧化锆,陶瓷膜11平均孔径为30μm,厚度为3mm。

所述的混流桨7数量为5个,位于转动轴6最下部一个混流桨7与陶瓷膜11底端位于同一水平面,其余混流桨7平均分布于陶瓷膜11安装区的转动轴6上。

所述的螺旋输送桨10与催化剂出口401中心位于同一轴线上。

所属领域的普通技术人员应当理解:以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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