专利名称：电镀装置的遮蔽装置的制作方法
技术领域：
本实用新型有关于一种电镀装置的遮蔽装置，尤指一种除了可以藉由固定遮片的各洞孔将阳极的欲镀物电解的离子流，均勻地流向、附着于被镀物上外，更可藉由纵向活动遮片及横向活动遮片遮蔽该电镀装置中的固定遮板的纵向及横向部分洞孔，使该固定遮板的其它洞孔所构成的区域，可吻合被镀物的所需，使阳极游离至阴极的金属离子可以穿过各洞孔后均勻地附着于被电镀物上，避免产生尖端效应，以增进电镀品质，而显本实用新型的新颖性及实用性。
背景技术：
习知的电镀装置，含有一电镀槽，于该电镀槽的两侧装置有连接阳极的欲镀物，并于该电镀槽的中央置有连接阴极的被镀物。当电镀进行时，阳极的欲镀物，如铜等金属，被解离成铜的金属离子，形成多道的离子流，附着于被镀物上，完成电镀作业；理想状态，是金属离子均勻地附着于该被电镀物上，但是，在电镀过程习知欲镀物与被镀物间，无任何导引欲镀物解离后的离子流的结构中，金属离子会集中附着在被电镀物的端缘或尖点上，产生所谓的尖端效应，造成被镀物在端缘处集中较厚的电镀层，导致电镀层厚薄不均勻的状况，而显其缺点。本案创作人有鉴于此，予以研究、创新，终揭示本实用新型所示电镀装置的遮蔽装置。
发明内容本实用新型的目的旨在提供一种电镀装置的遮蔽装置，其可以有效避免尖端效应，从而提升电镀品质。本实用新型的电镀装置的遮蔽装置，其中，该电镀装置含有一电镀槽，于该电镀槽的两侧装置有连接阳极的欲镀物，并于该电镀槽的中央滑置连接阴极的被镀物；而该遮蔽装置包括两固定遮板，置于两该欲镀物与被镀物间，且分别穿设有多个洞孔；多个纵向活动遮片，分别置于该固定遮板一侧，且为作动机构联动地沿该固定遮板位移，以遮蔽该固定遮板的纵向部分洞孔；以及两横向活动遮片，滑置于该电镀槽中，且分别位于两该固定遮板的一侧，平时受电镀液的浮力自动上升，且为该被镀物下降而下推地潜入电镀液中，以遮蔽该固定遮板的横向部分洞孔；本实用新型藉由纵向活动遮片及横向活动遮片遮蔽该固定遮板的纵向及横向部分洞孔，以符合不同大小被镀物电镀需求，避免产生尖端效应，使欲电镀金属可以更均勻地附着于被电镀物上，以增进电镀品质。本实用新型所应用的电镀装置，于该钛篮内装填有铜等欲镀金属，且令该钛篮连接电源的阳极，以构成上述所指的阳极欲镀物；另外本实用新型所应用的电镀装置中，该阴极所连接的被镀物，由一浮床所承载，并沿轨道沉入该电镀槽中；上述的电镀装置为习用的结构，本实用新型并不自限应用的电镀装置型式，本实用新型也可应用于其它形式的电镀装置中。
3[0008]本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置，其中该纵向活动遮片的顶端设有一联动螺孔，以螺合该作动机构的螺杆，以于旋转该作动机构的螺杆后，该纵向活动遮片可沿该螺杆的轴心轴向地位移。本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置，其中于该固定遮板的左、右两端，分别设有一纵向活动遮片，令该两纵向活动遮片的顶端分别设有一联动螺孔，且一为左螺纹孔一为右螺纹孔，以螺合该作动机构中一含有左螺纹及右螺纹的螺杆上，以于旋转该作动机构的螺杆后，相对联动该两纵向活动遮片可沿该螺杆的轴心，轴向地相对趋近或远离。本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置，含有第一导轨，装置于该电镀槽中，如该固定遮板上，以对应地限制该纵向活动遮片于内横向位移。本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置，含有第二导轨，装置于该固定遮板的两侧，以吻合地容置该横向活动遮片的两侧板缘于内稳定滑移。本实用新型所揭示的作动机构，含有一轴杆衔接有螺杆，并为多个承架固定于该电镀槽上，且连接有一把手，以于驱转该把手后可以联动旋转该螺杆。本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置，其中于该两横向活动遮片间，固连有多个承载架，以承载下降的被镀物，并使两横向活动遮片可以随该被镀物下降。本实用新型的有益效果在于，所揭示电镀装置的遮蔽装置，其主要特征在于，除了可以藉由固定遮片的各洞孔将阳极的欲镀物电解的离子流，均勻地流向、附着于被镀物上外，更可藉由纵向活动遮片及横向活动遮片遮蔽该固定遮板的纵向及横向部分洞孔，使该固定遮板的其它洞孔所构成的区域，可吻合被镀物电镀的所需，使阳极游离至阴极的金属离子可以穿过各洞孔后均勻地附着于被电镀物上，避免产生尖端效应，以增进电镀品质，而显本实用新型的新颖性及实用性。本实用新型的可取实体，可由以下的说明及所附各图面，而得以明晰。
[0016]图1本实用新型装置于电镀槽中的立体图。[0017]图2图1的俯视图。[0018]图3本实用新型的立体图。[0019]图4本实用新型的局部立体图。[0020]图5图25-5方向的剖面结构图。[0021]图6图沈-6方向的剖面结构图。[0022]图7图27-7方向的剖面结构图。
具体实施方式请参阅图1至图7所示，本实用新型有关于一种电镀装置的遮蔽装置，该电镀装置 100含有一电镀槽101，于该电镀槽101的两侧装置有连接阳极的欲镀物102并于该电镀槽 101的中央滑置连接阴极的被镀物103 ；而该遮蔽装置10包括两固定遮板104，置于两该欲镀物102与被镀物103间，且分别穿设有多个洞孔10 多个纵向活动遮片11，分别置于该固定遮板104—侧，且为作动机构12联动地沿该固定遮板104位移，以遮蔽该固定遮板 104的纵向(图4、图5所示的Y轴方向)部分洞孔10 ；以及两横向活动遮片13，滑置于该电镀槽101中，且分别位于两该固定遮板104的一侧，平时受电镀液的浮力自动上升，且为该被镀物103下降而下推地潜入电镀液中，以遮蔽该固定遮板104的横向(如图4、图5 所示的X轴方向)部分洞孔10 ；本实用新型藉由纵向活动遮片11及横向活动遮片13遮蔽该固定遮板104的部分洞孔104a，以符合不同大小被镀物103的电镀需求，避免产生尖端效应，使欲电镀金属可以更均勻地附着于被电镀物上，以增进电镀品质。如图1、图7所示，本实用新型所应用的电镀装置100，由钛篮10 内装填有铜等欲镀金属，且令该钛篮10 连接电源的阳极，以构成上述所指的阳极欲镀物102 ；另外本实用新型所应用的电镀装置100中，该阴极所连接的被镀物103，由一浮床103a所承载，并沿轨道沉入该电镀槽101中；上述的电镀装置100为习用的结构，本实用新型并不自限应用的电镀装置100型式，本实用新型也可应用于其它形式的电镀装置100中，并不自限。如图1、图3所示，本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置10，其中该纵向活动遮片11的顶端设有一联动螺孔111，以螺合该作动机构12的螺杆121，以于旋转该作动机构 12的螺杆121后，该纵向活动遮片11可沿该螺杆121的轴心轴向地位移。如图1、图3、图6所示，本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置10，其中于该固定遮板104的左、右两端，分别设有一纵向活动遮片11，令该两纵向活动遮片11的顶端分别设有一联动螺孔111，且一为左螺纹孔一为右螺纹孔，以螺合该作动机构12中一含有左螺纹及右螺纹的螺杆121上，以于旋转该作动机构12的螺杆121后，相对联动该两纵向活动遮片11可沿该螺杆121的轴心，轴向地相对趋近或远离[如图6的假想线所示]。如图3、图6所示，本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置10，含有第一导轨14，装置于该电镀槽101中，如固定于该固定遮板104上，以对应地限制该纵向活动遮片11于内， 以沿如图6所示的X轴方向位移。如图3、图4、图5所示，本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置10，含有第二导轨 15，装置于该固定遮板104的两侧，以吻合地容置该横向活动遮片13的两侧板缘于内，并可沿如图5所示的Y轴方向稳定滑移。本实用新型所揭示的作动机构12，含有一轴杆120，可于该轴杆120的一端或两端衔接螺杆121，并以多个承架122将该轴杆120固定于该电镀槽101上，且连接有一把手 123，以于驱转该把手123后可以联动旋转该螺杆121。如图3、图5、图7所示，本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置10，其中于该两横向活动遮片13间，固连有多个承载架131，以承载下降的被镀物103，并使两横向活动遮片 13可以随该被镀物103下降。本实用新型所揭示电镀装置的遮蔽装置10，其主要特征在于，除了可以藉由固定遮板104的各洞孔10 将阳极的欲镀物102电解的离子流，均勻地流向、附着于被镀物103 上外，更可藉由纵向活动遮片11及横向活动遮片13遮蔽该固定遮板104两侧及底端的部分洞孔104a，使该固定遮板104的其它洞孔所构成的区域，可吻合被镀物103电镀的所需， 使阳极游离至阴极的金属离子流，可以穿过各洞孔10 后，均勻地附着于被镀物103上，避免产生尖端效应，以增进电镀品质，而显本实用新型的新颖性及实用性。本实用新型所揭示的结构、形状，可于不违本实用新型的精神及范畴下，予以修饰应用，本实用新型并不自限。
权利要求1.一种电镀装置的遮蔽装置，该电镀装置含有一电镀槽，于该电镀槽的两侧装置有连接阳极的欲镀物，并于该电镀槽的中央滑置连接阴极的被镀物；其特征在于，该遮蔽装置包括两固定遮板，置于两该欲镀物与被镀物间，且分别穿设有多个洞孔；多个纵向活动遮片，分别置于该固定遮板一侧，且为一作动机构联动地沿该固定遮板位移，遮蔽该固定遮板的纵向部分洞孔；以及两横向活动遮片，滑置于该电镀槽中，且分别位于两该固定遮板的一侧，形成平时受电镀液的浮力自动上升，且为该被镀物下降而下推地潜入电镀液中，遮蔽该固定遮板的横向部分洞孔的结构。
2.如权利要求1所述电镀装置的遮蔽装置，其特征在于，该纵向活动遮片的顶端设有一联动螺孔，以螺合该作动机构的螺杆，形成于旋转该作动机构的螺杆后，该纵向活动遮片沿该螺杆的轴心轴向地位移的结构。
3.如权利要求1所述电镀装置的遮蔽装置，其特征在于，于该固定遮板的左、右两端， 分别设有一纵向活动遮片，令该两纵向活动遮片的顶端分别设有一联动螺孔，且一为左螺纹孔一为右螺纹孔，以螺合该作动机构中一含有左螺纹及右螺纹的螺杆上，形成于旋转该作动机构的螺杆后，相对联动该两纵向活动遮片沿该螺杆的轴心，轴向地相对趋近或远离的结构。
4.如权利要求1所述电镀装置的遮蔽装置，其特征在于，含有第一导轨，装置于该电镀槽中该固定遮板上，对应地限制该纵向活动遮片于内横向位移。
5.如权利要求1所述电镀装置的遮蔽装置，其特征在于，含有第二导轨，装置于该固定遮板的两侧，容置该横向活动遮片的两侧板缘于内稳定滑移。
6.如权利要求1所述电镀装置的遮蔽装置，其特征在于，该作动机构，含有一轴杆衔接有螺杆，并为多个承架固定于该电镀槽上，且连接有一把手，形成于驱转该把手后可以联动旋转该螺杆的结构。
7.如权利要求1所述电镀装置的遮蔽装置，其特征在于，于该两横向活动遮片间，固连有承载下降的被镀物并使两横向活动遮片随该被镀物下降的多个承载架。
专利摘要一种电镀装置的遮蔽装置，该遮蔽装置包括两固定遮板，分别穿设有多个洞孔；多个纵向活动遮片，分别置于该固定遮板一侧，且为一作动机构联动地沿该固定遮板位移；两横向活动遮片，滑置于该电镀槽中，分别位于两该固定遮板的一侧，平时自动上升，可为该被镀物下推潜入电镀液中。其除了可以藉由固定遮板的各洞孔将欲镀物电解的离子流，均匀地流向、附着于被镀物上外，更可藉由纵向活动遮片及横向活动遮片遮蔽该电镀装置中的固定遮板的纵向及横向部分洞孔，使该固定遮板的其它洞孔所构成的区域，可吻合被镀物的大小，而投影于该被镀物上，使阳极游离至阴极的金属离子可以穿过各洞孔后均匀地附着于被电镀物上，避免产生尖端效应，以增进电镀品质。
文档编号C25D17/00GK202164371SQ20112023950
公开日2012年3月14日 申请日期2011年7月8日 优先权日2011年7月8日
发明者陈中和 申请人:陈中和