电解液的溢流装置的制作方法

本发明涉及冶炼技术领域，具体涉及一种电解液的溢流装置。

背景技术：

现有技术中，铜矿企业一般是将制备得到的粗铜置于电解槽中采用电解法精炼纯铜，但是实际生产中，粗铜中的砷、锑、铋等杂质会伴随铜同步发生电解生成砷离子、锑离子等杂质，这些离子杂质在铜电解液中能够形成溶解度很小的絮状物质并粘附于阴极以及电解铜的表面，大大地降低了生成的电解铜的质量。为此，实际布置时会电解槽内的电解液处于不断的循环流通状态中，即如图1所示，实际会不断地有新的电解液通过管道补充到电解槽1内，同时电解槽1内也会设置一溢流管2，溢流管2的上端管口朝上且管口高度低于电解槽1的槽口高度，这样高过溢流管2的上端管口的电解液就会溢流管2的上端管口溢入并通过管道输送至净化系统以待净化后循环利用，。

但是，实际使用时存在以下问题：如图1所示，由于各电解槽1的溢流管2内的电解液会汇集到一集液管3中集中输送至净化系统，而各电解槽1串联连接通电，这就导致只要有两个电解槽1、1a处于同时溢流电解液的状态时，这两个电解槽1、1a的溢流管2内的电解液与集液管3内的电解液就会形成一个电流回路，该电流回路相当于是与所述的两个电解槽1、1a之间的电路并联，如此就会造成漏电的现象发生。不仅如此，电流回路对应的溢流管2和集液管3的管段内就会电极析出铜，不仅会损坏管道，而且会大大降低管道的使用寿命。因此，如何解决电解液溢流漏电等问题，这是相关企业必须要考虑的问题。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种结构简单、使用稳定性好的电解液的溢流装置。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种电解液的溢流装置，包括溢流管和汇集溢流电解液的集液管，溢流管上端的溢流液入口布置在各电解槽内且高度与电解液液面高度吻合，其特征在于：溢流管的下端电解液出口与集液管之间连接有虹吸单元。

采用上述技术方案产生的有益效果在于：通过虹吸单元的布置，这样使得溢流管内的电解液时积存到一定高度时才会虹吸进入到集液管中，如此在等待虹吸的过程中溢流管内的电解液与集液管内的电解液是处于隔断状态，亦即漏电的回路被切断，这样可以有效地减少漏电，从而降低电耗，延长管道的使用寿命。

附图说明

图1是现有技术中电解液溢流管的分布示意图；

图2是本发明的结构示意图。

具体实施方式

一种电解液的溢流装置，如图2所示，其包括溢流管10和汇集溢流电解液的集液管70，溢流管10上端的溢流液入口布置在各电解槽内且高度与电解液液面高度吻合，溢流管10的下端电解液出口与集液管70之间连接有虹吸单元。通过虹吸单元的布置，这样使得溢流管10内的电解液时积存到一定高度时才会虹吸进入到集液管70中，如此在等待虹吸的过程中溢流管10内的电解液与集液管70内的电解液是处于隔断状态，亦即漏电的回路被切断，这样与现有技术的连续流通相比，采用本发明公开的上述技术方案可以有效地减少漏电，从而降低电耗，延长管道的使用寿命。

进一步的，所述的虹吸单元自上而下至少串联布置两个，具体的，所述的虹吸单元包括呈上、下布置的第一、二两个虹吸管20、30。通过多个虹吸单元的布置，这样可以避免虹吸过程中发生电解液连续而形成电流回路。

对于两个虹吸单元的具体结构，如图2所示，溢流管10的管腔自上而下包括第一、第二腔室11、12，第一虹吸管20的高、低端分别自第一、第二腔室11、12的上部管壁置入第一、第二腔室11、12内，第二虹吸管20的高端自第二腔室11的上部管壁置入第二腔室11内，第二虹吸管20的低端通向汇集溢流电解液的集液管70。这样实际使用时，第一、第二腔室11、12内的液体之间是通过第一虹吸管20相通，而具体只有第一腔室11内的溢流电解液到达一定的液位高度时，根据虹吸原理第一腔室11内的电解液才会经第一虹吸管20虹吸至第二腔室12内，第二腔室12内的电解液同样如此，也是经过一段时间才会虹吸通向集液管70内，如此通过虹吸管的布置有效地将溢流管10内的电解液隔断，使电解液以间歇式溢流进入到集液管70中。本发明结构简单，实用性强，且使用效果好。

作为进一步的优选方案，如图2所示，所述溢流管10的管腔通过两间隔布置的隔板50分隔构成上下布置的第一、第二、第三腔室11、12、13，所述虹吸单元还包括第三虹吸管40，第二虹吸管20的高、低端分别自第二、第三腔室12、13的上部管壁置入第二、第三腔室12、13内，第三虹吸管40的高端自第三腔室13的上部管壁置入第三腔室13内，第三虹吸管40的低端管口通向汇集溢流电解液的集液管内。这样在实际使用时，当第一虹吸管20正在虹吸过程中，有可能造成第二虹吸管30开始发生虹吸，如此第一、第二腔室11、12内的电解液就会发生连续，但是当第三虹吸管40开始虹吸是由第二虹吸管30虹吸补液造成的，而当第二、第三虹吸管30、40同时开始虹吸时，第一虹吸管20正在虹吸的可能性基本为0，如此通过多个腔室间隔进行虹吸溢流液，可以进一步确保溢流液在短流程内断流，进而提高消除漏电的可靠性，从而有效避免现有的电流回路的形成而发生漏电。

优选的，溢流管10的上端管口布置有盖板14，盖板14的板面上布置有供进液管60插置连接的开孔，进液管60的上端管口处开设有供电解液溢入的V形缺口61，单独布置进液管60，这样可以控制电解液溢流到溢流管10内的流量，同时，将进液管60的上端管口设置成V形缺口61，这样可以让电解液自V形缺口61缓慢地流入溢流管。当然，实际加工时可以是进液管60的上端管口直接开设V形缺口61，为方便加工，也可以在其上端管口套设一连接管，连接管的上端管口开设V形缺口61，如图2所示。

具体的，如图2所示，第一、第二、第三虹吸管20、30、40的高端管口分别向下延伸至靠近第一、第二、第三腔室11、12、13的腔底，如此可以提高第一、第二、第三虹吸管20、30、40一次虹吸第一、第二、第三腔室11、12、13内的电解液量，这样可以确保大量的电解液被一次虹吸掉，使补充到各腔室内的电解液来不及与虹吸的电解液发生连续。

进一步的，如图1所示，第一、第二虹吸管20、30一次吸取第一、第二腔室11、12内的液体高度分别为h1、h3，第二、第三虹吸管30、40虹吸时第二、第三腔室12、13需要满足的液位高度为h2、h4，所述h1>h2>h3>h4，这样实际使用时，第一虹吸管20将第一腔室11内的电解液一次吸入到第二腔室12时，第二虹吸管30就会直接满足虹吸要求而直接将电解液吸入第三腔室13内，同样地，第三虹吸管40也会相应地将电解液吸走进入到集液管中，如此可以确保溢流管10中积存的电解液得以快速的排走，从而避免下部腔室待其上部腔室的第二虹吸液进入而发生虹吸时上部腔室虹吸液过多、且虹吸时间长，如此可以尽大可能地减少溢流管10内的电解液连续流动。

具体的，所述溢流装置是采用PVC材料或者是耐酸、耐碱的非金属材料加工制成，也就是说，所述的溢流管10、隔板50以及各虹吸管均是采用PVC等非金属材料加工制成，从而确保溢流装置使用的安全、可靠性。