1.一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，包括盒体(101)、设置于盒体(101)内的水浴锅(201)、间隔设置于水浴锅(201)内的电镀材料(701)和电镀样品(801)，与所述水浴锅(201)中电镀材料(701)和电镀样品(801)分别通过电源正负极连接的恒定电流源模块盒(401)，其特征在于：还包括提升机构和电镀距离调节机构，所述提升机构与电镀样品(801)连接，所述电镀距离调节机构与电镀材料(701)连接。
2.根据权利要求1所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述提升机构和电镀距离调节机构固定于设置在水浴锅(201)上方的固定板(501)上。
3.根据权利要求2所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述固定板(501)固定于盒体(101)内壁上。
4.根据权利要求2所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述提升机构包括步进电机(301)、滚珠丝杠副(305)、移动连接板(303)、定滑轮(307)、导轨(304)和连接绳(308)；所述滚珠丝杠副(305)的一端通过联轴器(302)与步进电机(301)连接，所述移动连接板(303)与所述滚珠丝杠副(305)的丝杠螺母固定，所述滚珠丝杠副(305)的另一端固定于两端的轴承座(306)上，所述导轨(304)设置于轴承座(306)之间，所述移动连接板(303)滑动设置于导轨(304)上，所述移动连接板(303)与连接绳(308)一端固定，所述连接绳(308)另一端绕过定滑轮(307)与电镀样品(801)连接。
5.根据权利要求4所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述定滑轮(307)通过转轴设置于滑轮座(309)上，所述轴承座(306)与滑轮座(309)均固定于固定板(501)上部。
6.根据权利要求2所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述电镀距离调节机构包括电推杆(601)、连接板(603)、移动轴(604)，所述移动轴(604)一端连接电推杆(601)，另一端连接连接板(603)，所述电镀材料(701)固定于连接板(603)底部。
7.根据权利要求6所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述电推杆(601)固定于固定板(501)底部。
8.根据权利要求1所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述恒定电流源模块盒(401)设置于盒体(101)内 水浴锅(201)一侧。
9.根据权利要求1所述的一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，其特征在于：所述盒体(101)上方连接盒盖(104)，所述盒体(101)外部设置电源键(102)和液晶屏(103)。