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具有适用于凹槽的接触环密封件及窃流电极的电镀设备的制作方法
文档序号:11293206
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来源:国知局
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具有适用于凹槽的接触环密封件及窃流电极的电镀设备的制造方法与工艺
技术特征:
技术总结
电处理设备具有包含密封件的接触环,所述密封件能够补偿由晶片或工件上的凹槽(或其他不规则体)所产生的电场畸变。改变凹槽处接触环的形状,以减小凹槽处的电流拥挤。形状上的变化改变了窃流电极与晶片边缘之间的电流通路的阻抗,以增加从凹槽的区域抽取的窃流电极电流。结果,晶片被电镀有具有更均匀厚度的膜。
技术研发人员:
格雷戈里·J·威尔逊;保罗·R·麦克休
受保护的技术使用者:
应用材料公司
技术研发日:
2016.01.20
技术公布日:
2017.09.26
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