技术特征：
技术总结
本发明公开了一种电化学抛光冷却循环装置，其特征在于，包括循环机、回流管路，所述回流管路一端与循环机相连，另一端可置于抛光液中，所述循环机通过回流管路控制抛光液温度。并进一步公开了该电化学抛光冷却循环装置在制备高温超导带材基带的电化学抛光工艺的应用。该工艺能维持电化学抛光过程中抛光液温度的稳定性，进而维持电压和各项参数的稳定性，提高电化学抛光生产工艺的稳定性。
技术研发人员：夏金成;陆玲;邓辉;周国山;陈慧娟;蔡渊
受保护的技术使用者：苏州新材料研究所有限公司
技术研发日：2018.02.05
技术公布日：2018.07.17