一种喷淋溶铜装置的制造方法

文档序号:10468002阅读:445来源:国知局
一种喷淋溶铜装置的制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种喷淋溶铜装置。该装置包括罐体、筛板、进液管、喷淋管、集液槽,所述罐体为倒圆锥形,所述罐体下部设有集液槽,所述罐体上部的一侧还设有引风口,所述罐体上部的两侧分别设有进液管,所述进液管与位于罐体内侧的喷淋管相连,其特征在于所述喷淋管两端密封,喷淋管壁上分布着较多的喷淋孔。本发明的有益效果:由于喷淋均匀,覆盖面大,供氧充足,溶铜速率快,可以显著提高生产效率。同时,结构简单,使用方便,制造成本低。
【专利说明】
一种喷淋溶铜装置
技术领域
[0001 ]本发明涉及一种喷淋溶铜装置。
【背景技术】
[0002]在电解铜箔生产工艺中,只有当溶铜系统的溶铜速率大于电解生箔机的铜消耗速率时,才能保证电解溶液中铜离子浓度的稳定。在铜箔电解过程中,因电解溶液中铜离子不断消耗,会引起铜离子浓度下降。若溶铜速率不足,会导致电解液铜离子贫化,并造成铜箔产品产量与质量受到影响。现有溶铜系统采用的是喷嘴集中对冲喷液溶铜方式,在生产实践中发现,该方式即使将三个溶铜罐铜料加满,系统加铜料高达350吨,所有喷淋嘴全开,溶铜的速率仍小于8台生箔机在42000A电流下的产箔速率。因溶铜速率小于生箔铜消耗的速率,导致电解生箔机无法全部开启,从而影响到产量。

【发明内容】

[0003]针对现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供一种喷淋溶铜装置的技术方案。
[0004]所述的一种喷淋溶铜装置,该装置包括罐体、筛板、进液管、喷淋管、集液槽,所述罐体为倒圆锥形,所述罐体下部设有集液槽,所述罐体上部的一侧还设有引风口,所述罐体上部的两侧分别设有进液管,所述进液管与位于罐体内侧的喷淋管相连,其特征在于所述喷淋管两端密封,喷淋管壁上分布着较多的喷淋孔。
[0005]所述的一种喷淋溶铜装置,其特征在于所述喷淋管长20cm,直径为25cm。
[0006]所述的一种喷淋溶铜装置,其特征在于所述喷淋管为PVC管材。
[0007]本发明的有益效果:由于喷淋均匀,覆盖面大,供氧充足,溶铜速率快,可以显著提高生产效率。同时,结构简单,使用方便,制造成本低。
【附图说明】
[0008]图1为本发明的剖视图;
图2为本发明的喷淋管示意图。
【具体实施方式】
[0009]下面结合说明书附图对本发明做进一步说明:
如图1所示,该新型喷淋溶铜装置包括罐体1、筛板2、进液管3、喷淋管4、集液槽5,罐体I为倒圆锥形,罐体I下部设有集液槽5,罐体I上部的一侧还设有引风口 6,罐体I上部的两侧分别设有进液管3,进液管3与位于罐体I内侧的喷淋管4相连,喷淋管4长20cm,直径为25cm,喷淋管4两端密封,喷淋管4壁上分布着较多的喷淋孔7。
[0010]如图2示出了喷淋管4及位于其上的喷淋孔7。
[0011]工作时,喷淋液通过进液管3进入喷淋管4内,通过设置在喷淋管4壁上的众多的喷淋孔7,喷淋到罐体I内的原料铜上,由于位于罐体I内的两侧的喷淋管4同时相对喷淋,让溶液相互碰撞,液体分子分散成更加微小颗粒与空气中的氧接触,形成饱和氧的水淬铜,让原料铜更快的溶解,以达到快速溶铜的目的,溶铜后的废液通过筛板2的过滤流入罐体I下部的集液槽5内。
【主权项】
1.一种喷淋溶铜装置,该装置包括罐体、筛板、进液管、喷淋管、集液槽,所述罐体为倒圆锥形,所述罐体下部设有集液槽,所述罐体上部的一侧还设有引风口,所述罐体上部的两侧分别设有进液管,所述进液管与位于罐体内侧的喷淋管相连,其特征在于所述喷淋管两端密封,喷淋管壁上分布着较多的喷淋孔。2.根据权利要求1所述的一种喷淋溶铜装置,其特征在于所述喷淋管长20cm,直径为 25cm03.根据权利要求1所述的一种喷淋溶铜装置,其特征在于所述喷淋管为PVC管材。
【文档编号】C25D1/04GK105821451SQ201610398260
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2016年6月7日
【发明人】陈均, 石丽腾
【申请人】浙江新昌三瑞香雪冲业有限公司
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