专利名称：用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造工艺，更具体地说，本发明涉及一种用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖。
背景技术：
在半导体制造工艺中，例如在金属刻蚀工艺中，需要使用适半导体制造装置。图I示意性地示出了根据现有技术的一种半导体制造装置的部分立体分解图。如图I所示，半导体制造装置包括涡轮分子泵3、涡轮泵阀门2、泵抽吸端口 I。其中，涡轮分子泵3通过涡轮泵阀门2与泵抽吸端口 I相连。 由于在半导体制造中所产生的某些聚合物具有较强的粘附能力，这些聚合物会粘附在泵抽吸端口等腔体内的各个部位，这种聚合物粘附到一定程度会产生不可预计的剥落，从而严重影响产品的良率。然而这种聚合物非常难以清除，通常需要拆卸后才能彻底清洗干净，可是泵抽吸端口的拆卸非常复杂。更具体地说，泵抽吸端口 I不容易拆卸的原因是腔体是不能动的，从图I可以看出，要拆卸泵抽吸端口必须先拆掉涡轮分子泵3和涡轮泵阀门2才行。除了工作量非常大和繁重之外，涡轮分子泵内其实也是有很多聚合物的，如果这些聚合物吸收到空气中的水分会对涡轮分子泵造成一定的伤害，缩短它的使用寿命，所以一般我们在做机台保养时是不打开涡轮泵阀门的，这样涡轮分子泵就会保持真空，从而延长寿命。基于上述原因，希望能够提供一种能够避免半导体制造工艺中产生的聚合物粘附在泵抽吸端口表面的遮挡装置。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种能够避免半导体制造工艺中产生的聚合物粘附在泵抽吸端口表面的遮挡装置。为了实现上述技术目的，根据本发明，提供了一种用于半导体制造的泵抽吸端口遮挡盖，其中用于半导体制造的半导体制造设备包括涡轮分子泵、涡轮泵阀门、泵抽吸端口 ；其中，所述涡轮分子泵通过所述涡轮泵阀门与泵抽吸端口相连，其特征在于包括所述泵抽吸端口遮挡盖用于盖在半导体制造装置腔体内的泵抽吸端口上。优选地，所述泵抽吸端口遮挡盖包括环形侧壁、以及布置在环形侧壁外周的密封圈。优选地，所述密封圈是橡胶圈。优选地，所述泵抽吸端口遮挡盖的环形侧壁的材料是不锈钢。优选地，所述密封圈在环形侧壁的高度方向上的位置位于泵抽吸端口遮挡盖的盖口位置。优选地，所述密封圈在环形侧壁的高度方向上的位置位于泵抽吸端口遮挡盖的盖口位置之外的位置。
优选地，所述泵抽吸端口遮挡盖的所述环形侧壁的与所述圆形底部相对的一侧具有内导角。优选 地，在所述环形侧壁的外壁上布置有洗槽，所述密封圈通过嵌入所述环形侧壁的外壁上的洗槽而固定。优选地，所述密封圈嵌入环形侧壁的外壁上的洗槽的深度大约为橡胶圈的半径。根据本发明，在泵抽吸端口上安装了泵抽吸端口遮挡盖，在装了这个泵抽吸端口遮挡盖后，制程气体及反应物以及半导体制造中所产生的某些聚合物会落入泵抽吸端口遮挡盖，而不会泵抽吸端口等腔体内的各个部位。由此，在保养中只需向上取出泵抽吸端口遮挡盖，再对泵抽吸端口遮挡盖进行清洗即可，由此就能确保泵抽吸端口等腔体内的各个部位的洁净。这样就节省了时间和人力，保证了涡轮分子泵的使用寿命，也保证了产品的良率。
结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本发明有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中图I示意性地示出了根据现有技术的半导体制造装置的部分立体分解图。图2示意性地示出了根据本发明实施例的半导体制造装置的截面图。图3示意性地示出了根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖的一个具体示例的俯视图。图4示意性地示出了根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖的一个具体示例的正视图。图5示意性地示出了根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖的一个具体示例的首1J视图。需要说明的是，附图用于说明本发明，而非限制本发明。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。
具体实施例方式为了使本发明的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本发明的内容进行详细描述。图2示意性地示出了根据本发明实施例的半导体制造装置的截面图。如图2所示，根据本发明实施例的半导体制造装置包括涡轮分子泵3、涡轮泵阀门2、泵抽吸端口 I。其中，涡轮分子泵3通过涡轮泵阀门2与泵抽吸端口 I相连。需要说明的是，附图中仅仅示出了与本发明有关的结构，而省略了半导体制造装置其它结构(例如腔体内的其它结构)。其中，在半导体制造装置腔体内的泵抽吸端口 I上安装了泵抽吸端口遮挡盖4。在泵抽吸端口上安装了泵抽吸端口遮挡盖4，在装了这个泵抽吸端口遮挡盖后，如图2中的虚线箭头所示，制程气体及反应物以及半导体制造中所产生的某些聚合物会粘附在泵抽吸端口遮挡盖4，而不会粘附在泵抽吸端口上。由此，在保养中只需向上取出泵抽吸端口遮挡盖，再对泵抽吸端口遮挡盖进行清洗即可，由此就能确保泵抽吸端口等腔体内的各个部位的洁净。这样就节省了时间和人力，保证了涡轮分子泵的使用寿命，也保证了产品的良率。图3示意性地示出了根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖4的一个具体示例的俯视图。如图3所示，根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖4包括环形侧壁41、以及布置在环形侧壁41外周的密封圈42。实际上，泵抽吸端口遮挡盖4是一个类似管件的部件。优选地，例如，所述密封圈42是橡胶圈。并且，优选地，例如，所述泵抽吸端口遮挡盖4的圆形底部43和环形侧壁41的材料是不锈钢。图4示意性地示出了根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖的一个具体示例的正视图。如图4所示，所述密封圈42在环形侧壁41的高度方向上的位置不仅可以位于泵抽吸端口遮挡盖4的盖口位置(相对于环形侧壁41与圆形底部43相对的位置)，而且可以是靠近泵抽吸端口遮挡盖4的盖口位置的任意位置。图5示意性地示出了根据本发明实施例的泵抽吸端口遮挡盖4的一个具体示例的剖视图。例如，图5是沿着图3所示的虚线截取图3所示的泵抽吸端口遮挡盖4的的剖视图。如图5所示，泵抽吸端口遮挡盖4的环形侧壁41的相对于环形侧壁41与圆形底部43相对的一侧(S卩，盖口位置处)具有内导角5。也就是说，泵抽吸端口遮挡盖4的环形侧壁41的相对于环形侧壁41与圆形底部43相对的一侧(即，盖口位置处)具有有利于引导半导体制造中所产生的某些聚合物进入泵抽吸端口遮挡盖4内的斜面。由此，可以更好地确保半导体制造中所产生的某些聚合物不会泵抽吸端口等腔体内的各个部位。并且，在环形侧壁41的外壁上布置有洗槽，诸如橡胶圈之类的所述密封圈42 —般通过嵌入环形侧壁41的外壁上的洗槽而固定，述密封圈42嵌入环形侧壁41的外壁上的洗槽的深度大约为橡胶圈的半径，如图5所示。可以理解的是，虽然本发明已以较佳实施例披露如上，然而上述实施例并非用以限定本发明。对于任何熟悉本领域的技术人员而言，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
权利要求
1.一种用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其中用于半导体制造的半导体制造设备包括涡轮分子泵、涡轮泵阀门、泵抽吸端口；其中，所述涡轮分子泵通过所述涡轮泵阀门与泵抽吸端口相连，其特征在于包括所述泵抽吸端口遮挡盖用于盖在半导体制造装置腔体内的泵抽吸端口上。
2.根据权利要求I所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述泵抽吸端口遮挡盖包括环形侧壁、以及布置在环形侧壁外周的密封圈。
3.根据权利要求I或2所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述密封圈是橡胶圈。
4.根据权利要求I或2所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述泵抽吸端口遮挡盖的所述圆形底部和所述环形侧壁的材料是不锈钢。
5.根据权利要求I或2所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述密封圈在环形侧壁的高度方向上的位置位于泵抽吸端口遮挡盖的盖口位置。
6.根据权利要求I或2所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述密封圈在环形侧壁的高度方向上的位置位于泵抽吸端口遮挡盖的盖口位置之外的位置。
7.根据权利要求I或2所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述泵抽吸端口遮挡盖的所述环形侧壁的与所述圆形底部相对的一侧具有内导角。
8.根据权利要求I或2所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，在所述环形侧壁的外壁上布置有洗槽，所述密封圈通过嵌入所述环形侧壁的外壁上的洗槽而固定。
9.根据权利要求8所述的用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖，其特征在于，所述密封圈嵌入环形侧壁的外壁上的洗槽的深度大约为橡胶圈的半径。
全文摘要
本发明提供了一种用于半导体制造的泵抽吸端口的遮挡盖。用于半导体制造的半导体制造设备包括涡轮分子泵、涡轮泵阀门、泵抽吸端口；其中，所述涡轮分子泵通过所述涡轮泵阀门与泵抽吸端口相连。所述泵抽吸端口遮挡盖用于盖在半导体制造装置腔体内的泵抽吸端口上。所述泵抽吸端口遮挡盖包括环形侧壁、以及布置在环形侧壁外周的密封圈。根据本发明，在泵抽吸端口上安装了泵抽吸端口遮挡盖，使聚合物粘附在泵抽吸端口遮挡盖内壁，而不会粘附在泵抽吸端口上。由此，在保养中只需向上取出泵抽吸端口遮挡盖，再对泵抽吸端口遮挡盖进行清洗即可，由此节省了时间和人力，保证了涡轮分子泵的使用寿命并保证了产品良率。
文档编号F04D29/52GK102865250SQ201210366180
公开日2013年1月9日 申请日期2012年9月27日 优先权日2012年9月27日
发明者包中诚, 陈超 申请人:上海宏力半导体制造有限公司