专利名称：一种用于sq200型水汽喷射真空泵的漏盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种针对SQ200型水汽喷射真空泵中的漏盘的改造。
技术背景水汽喷射真空泵广泛应用于化工、皮革、医药、食品、电子等行业。是多种类真空泵中，具有操作方便，维修使用成本低，效果明显的一种独特的设备。水汽喷射真空泵是利用流体力学的不可压缩液体及可压缩的气体原理达到真空的效果。其主要部件漏盘是决定真空度高低的关键部件。现有设计中的漏盘大都是在圆形漏盘上设有若干锥形且中心线与中心孔中心线相交于一点的喷射孔。以SQ200型水汽喷射真空泵为例，Sq200的含义是sq代表水汽；200代表标准状况下每分钟排出气体200升，SQ200型水汽喷射真空泵原设计的漏盘为多孔型，以直径为270mm的漏盘为例，如图I所示，其上喷射孔的设计如表I所示，共四种喷射孔即上Φ8. 5/下Φ6. 5的锥形喷射孔(11) 5个，上Φ7. 5/下Φ5. 5锥形喷射孔(14) 5个，上Φ6. 5/下Φ4. 5锥形喷射孔(13) 5个，Φ8. 6喷射孔(12) I个。可见漏盘
(10)上喷射孔数量多，存在的问题是制造加工成本高，且在使用过程中，由于所抽取真空气体或水中存在杂质，经常造成一孔或多孔堵塞或半堵塞状态，造成真空度明显下降，达不到生产要求，迫使停泵停产修理，给企业造成一定的经济损失。因此，实施对漏盘的技术改造是解决上述问题的关键所在。表I原漏盘型式及面积计算表
I ；Φ8.5/Φ6,5; 5 丨283,58/W5. S3
Γ 2 !Φ7.5/Φ5.5； 5 I220.78/118.73i . i
3丨Φ&.5/Φ4 5; 5 165.83/79,48
4丨Φ8.6丨 i :58.06/58. OS
5；__； 16 I_728. 25/422.1_|
发明内容为了解决上述问题，本实用新型针对用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘进行改进，提供一种一孔代替多孔，能达到最佳真空度的用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘。本实用新型采用的技术方案是一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘，包括漏盘主体，漏盘主体为圆形，在漏盘主体上设有一个同轴的喷射孔，喷射孔为圆柱形，漏盘主体的直径为270mm时，喷射孔的直径为27mm。从表I可以看出，锥形孔上限截面积合计为728. 25，下限为422. I。为了一孔代替多孔，以达到最佳状态。针对喷射孔的孔径做了实验，已找到最佳喷射孔的孔径。结果见表2。[0008]表2 单孔板实验数据(漏盘直径为270mm)从表2可见，当漏盘的直径为270mm时，喷射孔的孔径为Φ 27时，产生的绝压为5mmHg,为最佳状态。本实用新型效果是本实用新型针对SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘进行了改进。改进后的水力喷射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高(绝压为5mmHg)，漏盘不堵塞，制造加工方便，成本低，比原来每台设备成本降低三分之一左右。
图I是现有技术中用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘结构示意图。图2是本实用新型经改造的用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘结构示意图。
具体实施方式
如图2所示,一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘,包括漏盘主体(I )，漏盘主体(I)为圆形，在漏盘主体(I)上设有一个同轴的喷射孔(2)，喷射孔(2)为圆柱形，漏盘主体(I)的直径为270mm时，喷射孔(2)的直径为27mm。
权利要求1.一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘,包括漏盘主体(I),漏盘主体(I)为圆形，其特征在于在漏盘主体(I)上设有一个同轴的喷射孔(2)，喷射孔(2)为圆柱形，漏盘主体(!)的直径为270mm时，喷射孔(2)的直径为27mm。
专利摘要本实用新型涉及一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘。采用的技术方案是包括漏盘主体，漏盘主体为圆形，在漏盘主体上设有一个同轴的喷射孔，喷射孔为圆柱形，漏盘主体的直径为270mm时，喷射孔的直径为27mm。本实用新型针对SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘进行了改进。改进后的水力喷射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高(绝压为5mmHg)，漏盘不堵塞，制造加工方便，成本低，比原来每台设备成本降低三分之一左右。
文档编号F04F5/44GK202756319SQ20122041106
公开日2013年2月27日 申请日期2012年8月20日 优先权日2012年8月20日
发明者王长龙, 姜岩, 曹东辉, 丛日升, 王寅 申请人:王长龙