一种分子牵引型真空动密封结构和超高速真空旋转设备的制造方法与工艺

技术特征：
1.一种超高速真空旋转设备，包括在转子(01)和真空腔室(07)二者之间设置的多级密封结构，其特征在于，所述多级密封结构包括一级动密封结构(02)、二级动密封结构(03)、三级动密封结构(04)、四级动密封结构(05)、以及停车密封(09)，其中，所述二级动密封结构(03)、三级动密封结构(04)和四级动密封结构(05)均为分子牵引型真空动密封结构，所述一级动密封结构(02)为自摩擦成型密封结构，包括在开机运行前与转子(01)间采用过盈配合的密封块(21)，经过一段时间的旋转运行，通过所述密封块(21)与转子(01)的密封面相互摩擦，形成微米量级的一级密封间隙(23)，所述分子牵引型真空动密封结构用于转子(01)和真空腔室(07)二者之间的动密封，其中，所述转子(01)的密封面和所述真空腔室(07)的密封面二者之间形成密封间隙，所述真空腔室(07)的密封面上设有导引槽，所述导引槽的出口与排气腔连通，其中，高速旋转的所述转子(01)将动量传递给气体分子，所述气体分子在所述导引槽内被牵引至所述排气腔(33)中。2.根据权利要求1所述的超高速真空旋转设备，其特征在于，所述超高速真空旋转设备为氘氚聚变中子源旋转靶系统。3.根据权利要求1所述的超高速真空旋转设备，其特征在于，所述...