去离子水泄漏检测控制的装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造设备领域，特别涉及一种用于DPS金属刻蚀机台中VDS系统的去离子水泄漏检测控制的装置。
【背景技术】
[0002]在DPS 金属刻蚀机台(DPS metal tool, DPS:decouple plasma source 去稱等离子体源)中，通过主反应腔来蚀刻铝等金属，通过副反应腔来去除光阻，制程中需要用到的水蒸气，是由该机台设置的一种将去离子水(DIW)转化成水蒸气的VDS系统(VDS，vapordelivery system蒸汽输送系统)提供。
[0003]如图1所示，去离子水输送至VDS系统之前，从厂务端通过输入管道进入(例如12微米的)过滤器1，之后设置的三通阀2根据压缩干燥空气CDA的驱动启闭相应的通道，可以将一路去离子水通过水流调节阀3返回到厂务端；而将另一路去离子水送至压力调节阀4，根据压力计5读数，可以将多余的去离子水通过减压阀6排放，而将压力合适的去离子水经过止回阀7输出，最后在输出阀8开启时输送至VDA系统。
[0004]然而，在长时间运行后，由于去离子水压力等原因，容易在去离子水的输入管道与过滤器I之间的交界点(如箭头9所示位置)处发生泄漏。现有的VDS系统在泄漏时没有截止阀来关闭去离子水，去离子水仍然会持续进入输入管道并泄漏。若漏出的去离子水喷涌到机台的主机等位置，可能造成机台关机或短路燃烧；VDS系统及整个机台中也没有设置泄漏互锁的控制机制，不能使机台其他部分停止工作，而导致机台中正在处理的晶片损耗报废。为了恢复机台运行，技术人员需要查找泄漏源，更换浸入水中的零件等，增加了维护的人力及物力成本；尤其是对于被浸水腐蚀的电路部分，往往很难即时发现问题，影响故障排除速度。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种去离子水泄漏检测控制的装置，用于DPS金属刻蚀机台的VDS系统，对发生的去离子水泄漏进行感测、报警并及时停止去离子水输入，并且能够基于互锁机制来调整机台其他系统的工作状态，以便减少晶片损耗，减少器件更换，节省维护成本，延长机台使用寿命。
[0006]为了达到上述目的，本发明的技术方案是提供一种去离子水泄漏检测控制的装置，用于DPS金属刻蚀机台的VDS系统，所述装置包含:
漏水传感器，设置于VDS系统中，来检测是否有去离子水泄漏并发送相应的感测信号；控制器，与所述漏水传感器连接并根据接收到的所述感测信号，生成控制去离子水停止输入或继续输入的控制指令；
电磁阀，与所述控制器连接并根据接收到的所述控制指令，来开启或关闭压缩干燥空气的输气通道；
气动阀，其设有的进口端和出口端接入至去离子水进入VDS系统之前的输入管道上；该气动阀的控制端与压缩干燥空气的输气通道连接；
当所述气动阀的控制端没有压缩干燥空气输入时，进口端和出口端相互连通，使去离子水能经由进口端流向出口端，进而送至与气动阀出口端连通的VDS系统中；当气动阀的控制端有压缩干燥空气输入时，使进口端和出口端阻隔使去离子水不能被输送至VDS系统。
[0007]优选地，所述气动阀的进口端和出口端接入在去离子水输入管道中位于过滤器之前的管段中。
[0008]优选地，所述控制器还与VDS系统的控制系统和/或DPS金属刻蚀机台的主机控制系统连接，并向其发送表示去离子水发生泄漏及停止去离子水输入的通知信息，以便调整VDS系统或DPS金属刻蚀机台中相应设备的工作状态。
[0009]综上所述，本发明所提供的去离子水泄漏检测控制的装置，能够在感测到漏水后及时报警并停止去离子水继续输入，并使DPS金属刻蚀机台及VDS系统中的其他设备，基于互锁机制调整工作状态，以便尽可能地减少漏水的影响，从而有效减少因为漏水更换设备零件、机台停机、晶片损失及额外的维护工作等产生的人力和物力耗费，有效延长设备使用时间。
【附图说明】
[0010]图1是现有VDS系统对去离子水预先处理的装置结构示意图；
图2是本发明所述去离子水泄漏检测控制的装置结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]如图2所示，本发明提供的去离子水泄漏检测控制的装置，用于DPS金属刻蚀机台的VPS系统。
[0012]本装置中，以一个或多个漏水传感器10感测VDS系统中是否有去离子水(DIW)泄漏；一控制器20接收漏水传感器10的感测信号来形成相应的控制指令；一电磁阀30能够根据相应的控制指令来开启或关闭压缩干燥空气(CDA)的输气通道。
[0013]将一气动阀40安装在去离子水进入VDS系统之前的输入管道50上，优选是接入在该输入管道50中位于过滤器I之前的管段上。所述气动阀40的控制端43与上述压缩干燥空气的输气通道连接。所述气动阀40的进口端41与出口端42是否能够连通，具体是由气动阀40控制端43上是否有压缩干燥空气输入来控制。
[0014]本例中使用的气动阀40，是在控制端43上有压缩干燥空气输入时将进口端41和出口端42阻隔相互间不能连通，而在没有压缩干燥空气输入时使两端可以连通。或者，在另一些示例中的气动阀40也可以使用相反的控制方式，在控制端43上没有压缩干燥空气时使进口端41和出口端42连通，而在有压缩干燥空气输入时将两端阻隔相互不能连通。
[0015]在上述漏水传感器10、控制器20、电磁阀30及其控制的压缩干燥空气的作用下，当没有去离子水泄漏情况发生时，使该气动阀40的进口端41与出口端42连通，则去离子水能够经由进口端41流向出口端42，进而送至与气动阀40出口端42相连通的VDS系统中，用来生成工艺制程中所需的水蒸气；而当有漏水情况发生时，使气动阀40的进口端41与出口端42阻隔，停止去离子水向VDS系统的输送过程，以防止去离子水继续泄漏，尽量减少漏水影响。
[0016]当发生漏水问题时，所述控制器20除了发送停止去离子水输入的控制命令，和指示相连接的报警单元输出报警信号以外，还可以由该控制器20向VDS系统的控制系统和/或DPS金属刻蚀机台的主机控制系统等发送相应的通知信息，从而基于互锁机制调整VDS系统或机台中其他设备的工作状态，对于本身性质及工作状态不同的设备，例如可以使其在漏水时的工作状态调整为暂停、停止、延迟或(如某些防护设备)继续运行，等等。
[0017]本发明所提供的去离子水泄漏检测控制的装置，能够在感测到漏水后及时停止去离子水继续输入，以便尽可能地减少漏水对DPS金属刻蚀机台及VDS系统的影响。
[0018]尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
【主权项】
1.一种去离子水泄漏检测控制的装置，用于DPS金属刻蚀机台的VDS系统，其特征在于，所述装置包含: 漏水传感器(10)，设置于VDS系统中，来检测是否有去离子水泄漏并发送相应的感测信号; 控制器(20)，与所述漏水传感器(10)连接并根据接收到的所述感测信号，生成控制去离子水停止输入或继续输入的控制指令； 电磁阀(30)，与所述控制器(20)连接并根据接收到的所述控制指令，来开启或关闭压缩干燥空气的输气通道； 气动阀(40 )，其设有的进口端(41)和出口端(42 )接入至去离子水进入VDS系统之前的输入管道(50)上；该气动阀(40)的控制端(43)与压缩干燥空气的输气通道连接； 当所述气动阀(40)的控制端(43)没有压缩干燥空气输入时，进口端(41)和出口端(42)相互连通，使去离子水能经由进口端(41)流向出口端(42)，进而送至与气动阀(40)出口端(42 )连通的VDS系统中；当气动阀(40 )的控制端(43 )有压缩干燥空气输入时，使进口端(41)和出口端(42)阻隔使去离子水不能被输送至VDS系统。2.如权利要求1所述去离子水泄漏检测控制的装置，其特征在于， 所述气动阀(40)的进口端(41)和出口端(42)接入在去离子水输入管道(50)中位于过滤器(I)之前的管段中。3.如权利要求1或2所述去离子水泄漏检测控制的装置，其特征在于， 所述控制器(20)还与VDS系统的控制系统和/或DPS金属刻蚀机台的主机控制系统连接，并向其发送表示去离子水发生泄漏及停止去离子水输入的通知信息，以便调整VDS系统或DPS金属刻蚀机台中相应设备的工作状态。
【专利摘要】本发明提供一种去离子水泄漏检测控制的装置，用于DPS金属刻蚀机台的VDS系统，当漏水传感器侦测到VDS系统中有去离子水泄漏时，控制器生成控制去离子水停止输入的控制指令，使电磁阀开启压缩干燥空气的输气通道，将压缩干燥空气输入气动阀的控制端，将气动阀的进口端和出口端阻隔，则去离子水不能继续被输送至VDS系统，从而有效减少漏水的影响。
【IPC分类】F17D5/02, F17D3/01
【公开号】CN104913200
【申请号】CN201410087102
【发明人】林思熏
【申请人】上海华虹宏力半导体制造有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2014年3月11日