专利名称：等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种保护膜性能测试方法及其装置，尤其是一种等 离子显示屏保护膜的性能测试的方法及其装置，具体的说是等离子显示 屏保护膜耐溅射性的测试装置。
背景技术：
目前，在等离子显示屏(PDP)技术中，惰性放电气体被密封在分别 具有扫描电极和寻址电极的前、后基板中，放电气体被电离成等离子体， 在此电离过程中放电气体被激发发射出紫外线，并且紫外线激发在特定 位置放置的荧光粉发射可见光。
在前、后基板的扫描电极和寻址电极的表面需要形成一层厚度约 20 30um的介质层，储存壁电荷以维持气体放电，同时也起绝缘作用。 当电极间被施加特定波形的高频交流电压时，放电气体被电离成等离子 体，阳离子会射向阴极电极，而制作介质层的材料，通常耐离子轰击能 力很差。为了不使介质层被离子轰击而迅速破坏，在介质层表面还需要 再覆盖一层保护膜，以保护介质层不受阳离子的轰击。由于保护膜直接 和放电气体接触，保护膜的电气性能对等离子显示屏的性能也有很大影 响，这种保护膜要有很高的耐溅射性。目前，测试保护膜的耐溅射性，通常有两种方法
第一种方法，是直接通过长时间点亮等离子显示屏来测试保护膜的 耐溅射性，在等离子显示屏封屏前测量保护膜的厚度，将等离子屏接到 老炼电路上，用高于正常驱动电路频率的电路来点亮等离子屏。在经过 长时间的老炼后，打开等离子屏，再次测量保护膜的厚度，用封屏前测 得的厚度值减掉老炼后测得的厚度值可以得到保护膜被离子轰击溅射掉 的厚度。
这种方法需要经过数千小时的老炼才可以得到结果，不能及时的获 知测试结果，效率不高。
第二种方法，将保护膜制备在玻璃基片上，测量保护膜的厚度，然 后将玻璃基片放置到离子源下，在真空室里用离子源轰击玻璃基片，经 过一定时间后再测量被轰击过的保护膜厚度，对比两次测量厚度差可以 得到被离子轰击掉的保护膜厚度。
这种方法的采用的离子源轰击的模式和保护膜在等离子屏里面受离 子轰击的模式完全不同。由于保护膜材料是绝缘体，在受到离子轰击后 表面会积累正电荷而排斥后续离子，因此需要大幅度提高离子束强度， 这样测试得到的结果不能完全代表保护膜的性能，测试结果不准确。
发明内容本实用新型目的是针对目前测试等离子显示屏保护膜的耐溅射性的 方法，所存在的测试周期过长，测试模式与保护膜实际工作模式差别过 大造成效率低、测试结果不准确的问题，提供了一种可以高效高速并且 测试方法模式与保护膜实际工作模式类似的等离子显示屏保护膜耐溅射 性的测试装置。
本实用新型的技术方案是-
一种等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置，其特征是它包括射 频溅射镀膜机、循环冷水装置、靶、电极和节流阀，靶安装在射频溅射 镀膜机的腔体内，电极安装在靶的上侧，循环冷水装置安装在电极的上 侧，节流阀安装在射频溅射镀膜机的外壳上。
本实用新型的有益效果-
1、 本实用新型采用射频溅射镀膜机，可以较近似的模拟等离子显示 屏保护膜的工作状态，能够高效、准确的进行保护膜耐溅射性的测试。
2、 本实用新型采用金属掩膜覆盖部分保护膜，使被覆盖的部分完全 不受离子溅射，这样测量被溅射掉的厚度值准确性。
3、 本实用新型采用高频溅射镀膜方法模拟等离子屏保护膜受离子轰 击的模式，两种状态工作原理基本相同，由于采用高頻电场，无需考虑 由于保护膜为绝缘体，受离子轰击后一段时间会产生正电荷积累而排斥后续正离子的现象。可以自由选择离子轰击能量，真实的反应出保护膜 的耐溅射性能，测试结果准确，高速高效。
图1是本实用新型的等离子显示屏保护膜耐溅射性测试装置示意图。
图2是本实用新型的等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试示意图。
具体实施方式
以下结合附图1- 2和实施例对本实用新型作进一步的说明。 一种等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法，其特征是它包括以下
步骤
a. 在玻璃基片1上镀制保护膜2;
b. 在镀有保护膜2的玻璃基片1上贴敷特定形状的金属掩膜4，保 护膜2的一部分被贴敷的金属掩膜4覆盖，另一部分没有被贴敷的金属 掩膜4覆盖，将贴敷有金属掩膜4的玻璃基片1放在射频溅射镀膜机3 的靶6位置上；
c. 打开射频溅射镀膜机3的节流阀10引入工作气体；
d. 打开射频溅射镀膜机3开始放电，工作气体受激发产生工作气体 离子8对贴敷有金属掩膜4的玻璃基片1进行高频离子溅射；
e. 溅射一段时间后，将去除金属掩膜4的玻璃基片l放到表面形貌200820038602.6
测定仪上测量被金属掩膜4覆盖部分和未被金属掩膜4覆盖的保护膜2 的厚度差；
f.用厚度差除以溅射时间，得到保护膜的溅射率，从而完成保护膜 耐溅射性的测试。
一种等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置，其特征是它包括射 频溅射镀膜机3、循环冷水装置5、靶6、电极7和节流阀10，靶6安装 在射频溅射镀膜机3的腔体内，电极7安装在靶6的上侧，循环冷水装 置5安装在电极7的上侧，节流阀10安装在射频溅射镀膜机3的外壳上。
具体实施时
首先将保护膜2制备在玻璃基片1上，保护膜2厚度约1000 1500nm，然后在保护膜2表面贴敷一层厚度较厚，溅射产额很低的金属 掩膜4，利用部分遮挡，使部分保护膜2的表面完全没有被金属掩膜4 覆盖。其次，将玻璃基片1安装到射频溅射镀膜机3的靶6位置上，靶 6上装有循环冷水装置5,可以调整靶6的温度，使之与实际等离子屏工 作状态下温度相当，同时该射频溅射镀膜机3带有高频溅射功能，从节 流阀10引入工作气体氩气，气体压强为67Pa，可以施加lOOKHz的高频 电场于靶6下方的电极7上，同时为保证一定的离子轰击能量，溅射能 量密度10W/cm2。然后打开射频溅射镀膜机3开始放电，产生工作气体离 子8,使其以几百电子伏特的能量轰击位于靶6上的玻璃基片1,当溅射 在设定功率下进行一定时间后，停止溅射并取出玻璃基片1。最后，将贴敷在玻璃基片1上的金属掩膜4去除掉，使用测量精度为lmn的表面 形状测定仪9测量被金属掩膜4覆盖的部分和未被掩膜覆盖的保护膜2 的高度差，将此值除以溅射时间就可以得到此种保护膜的溅射率，对不 同种类的保护膜进行相同测试条件下的对比就可以评价不同保护膜的耐 溅射性。
本实用新型未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
权利要求1、一种等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置，其特征是它包括射频溅射镀膜机(3)、循环冷水装置(5)、靶(6)、电极(7)和节流阀(10)，靶(6)安装在射频溅射镀膜机(3)的腔体内，电极(7)安装在靶(6)的上侧，循环冷水装置(5)安装在电极(7)的上侧，节流阀(10)安装在射频溅射镀膜机(3)的外壳上。
专利摘要本实用新型的等离子显示屏保护膜耐溅射性的测试装置，其特征是在镀有一定厚度的保护膜(2)的玻璃基片(1)上覆盖具有特定形状的金属掩膜(4)，将玻璃基片(1)放入射频溅射镀膜机(3)中的靶(6)位置上以高频溅射一定时间后，测量被金属掩膜(4)遮挡的区域和未遮挡区域的保护膜(2)厚度差，可以计算出溅射速率，从而得出保护膜耐溅射性评估方法。本实用新型可以高效、准确的测试等离子显示屏保护膜的耐溅射性能，并且测试原理与等离子屏的工作原理较近似，结果可信度高。
文档编号G01N33/00GK201247233SQ20082003860
公开日2009年5月27日 申请日期2008年8月14日 优先权日2008年8月14日
发明者孙青云, 朱立锋, 霞 李, 林青园, 王保平 申请人:南京华显高科有限公司