专利名称：一种便于晶体片调节测试定位装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及石英晶片角度测量技术领域，具体属于一种便于晶体片调节测试定位装置。
背景技术：
晶体片是利用石英晶体具有各向异性的特点，从而方位不同、电场设置、几何形状不同，温度特性也很大的差异，因此在制造过程中必须准确地对晶体片方位和角度进行检测，才能提高产品性能的稳定性。现有的石英晶片检测装置，设计结构不合理，检测时操作不方便，检测效率低。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种便于晶体片调节测试定位装置，解决了现有晶片检测装置操作不方便的问题，设计简单，结构合理，通过将检测调节结构通过滑动块和固定块配合设置，固定块与滑动块之间移动通过调节齿轮啮合，调节方便，同时调节高度便于控制。本实用新型采用的技术方案如下:一种便于晶体片调节测试定位装置，包括固定底座、调节工作台和吸附装置，所述的调节工作台设置于固定底座上，所述的调节工作台，由一固定块和与其配合的滑动块构成，滑动块内侧面具有齿槽，固定块上设有与齿槽配合的齿轮轴，吸附装置设置于滑动块上端外侧。所述的吸附装置前端设有三个呈三角形分布的吸管。与已有技术相比，本实用新型的有益效果如下:本实用新型通过将检测调节结构通过滑动块和固定块配合设置，固定块与滑动块之间移动通过调节齿轮啮合，调节方便，同时调节高度便于控制。
图1为本实用新型的结构示意图；图2为本实用新型的剖视结构示意图。
具体实施方式
参见附图，一种便于晶体片调节测试定位装置，包括固定底座1、调节工作台2和吸附装置3，调节工作台2设置于固定底座I上，调节工作台2，由一固定块201和与其配合的滑动块202构成，滑动块202内侧面具有齿槽2021，固定块201上设有与齿槽2021配合的齿轮轴2011，吸附装置3设置于滑动块202上端外侧，吸附装置3前端设有三个呈三角形分布的吸管301，晶体片4通过吸管301吸附固定，便于检测机构检测。
权利要求1.一种便于晶体片调节测试定位装置，包括固定底座、调节工作台和吸附装置，其特征在于:所述的调节工作台设置于固定底座上，所述的调节工作台，由一固定块和与其配合的滑动块构成，滑动块内侧面具有齿槽，固定块上设有与齿槽配合的齿轮轴，吸附装置设置于滑动块上端外侧。
2.根据权利要求1所述一种便于晶体片调节测试定位装置，其特征在于:所述的吸附装置前端设有三个呈三角形分布的吸管。
专利摘要本实用新型公开了一种便于晶体片调节测试定位装置，包括固定底座、调节工作台和吸附装置，调节工作台设置于固定底座上，调节工作台，由一固定块和与其配合的滑动块构成，滑动块内侧面具有齿槽，固定块上设有与齿槽配合的齿轮轴，吸附装置设置于滑动块上端外侧。本实用新型解决了现有晶片检测装置操作不方便的问题，设计简单，结构合理，通过将检测调节结构通过滑动块和固定块配合设置，固定块与滑动块之间移动通过调节齿轮啮合，调节方便，同时调节高度便于控制。
文档编号G01B21/22GK203083553SQ20122074660
公开日2013年7月24日 申请日期2012年12月29日 优先权日2012年12月29日
发明者卢玉席 申请人:铜陵市方远电子科技有限公司