透明基板监测装置和透明基板监测方法
【专利摘要】本发明提供了一种透明基板监测装置和透明基板监测方法。所述透明基板监测装置包括：用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以使光能够从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，所述光学检测单元测量形成在屏幕平面上的干涉图样的强度轮廓或位置；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算光学相位差或光程差。
【专利说明】透明基板监测装置和透明基板监测方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种厚度变化测量装置和厚度变化测量方法，更加具体地，涉及一种能够使用双狭缝精确测量厚度变化的厚度变化测量装置和厚度变化测量方法。
[0002]本发明还涉及一种透明基板监测装置和透明基板监测方法，更加具体地，涉及一种能够使用双狭缝精确监测光程差的变化的透明基板监测装置和透明基板监测方法。
【背景技术】
[0003]由玻璃等制成的基板用于诸如液晶显示器(IXD)或有机发光二极管(OLED)显示器件等平板显示器件。随着最近的朝着更大面积和更高分辨率显示器件的趋势，显示器件中包含的基板的面积变得更大。这样的基板厚度的不均匀性可能对显示器件的图像质量造成不利影响。因此，保持基板的整个表面的均匀厚度是重要的。
[0004]一般而言，反射式厚度测量装置用来测量几纳米(nm)至几十纳米(nm)的厚度变化。反射式厚度测量装置利用从基板的正面反射的光和从基板背面反射的光之间的干涉。然而，大面积的基板可能导致基板在基板厚度测量期间内翘曲。根据基板的翘曲程度，从基板反射的光的路径发生改变，这使得精确地测量基板厚度变得困难。
【发明内容】
技术问题
[0005]本发明的实施例提供了能够通过使用双狭缝精确测量测量目标的厚度变化的厚度变化测量装置和厚度变化测量器件。
[0006]本发明的实施例还提供了这样的透明基板监测装置和透明基板监测方法:上述装置和方法使用双狭缝测量光学相位差，并且通过使透明基板在双狭缝的方向上移动双狭缝的间隔并连接所有的测量位置来提供光学相位差的空间分布。
解决该技术问题的技术方案
[0007]根据本发明实施例的透明基板监测装置可以包括:用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交；光学检测单元，所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算穿过所述透明基板的所述第一位置与所述第二位置的光线的光学相位差或光程差。
[0008]在本发明的实施例中，所述信号处理单元可以使用所述干涉图样在所述第一方向上的位置来计算所述光程差。
[0009]在本发明的实施例中，在所述第一方向上移动的所述透明基板是玻璃基板。
[0010]在本发明的实施例中，所述光学检测单元可以包括位置敏感检测器。所述透明基板监测装置还可以包括光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方以使所述干涉图样的主极大图样能够从该光圈中穿过。所述位置敏感检测器可以输出所述主极大图样的中心位置。
[0011]在本发明的实施例中，所述透明基板监测装置还可以包括第一光圈和第二光圈，所述第一光圈和所述第二光圈布置在所述光学检测单元的前方并在所述第一方向上彼此间隔开。所述光学检测单元可以包括布置在所述第一光圈后方的第一光学检测单元和布置在所述第二光圈后方的第二检测单元。所述第一光圈与所述第二光圈之间的间隔可以小于所述主极大图样的宽度。
[0012]在本发明的实施例中，所述透明基板监测装置还可以包括光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方。所述光学检测单元可以包括布置在所述光圈的后方并且在所述第一方向上排列的光学传感器阵列。
[0013]在本发明的实施例中，所述透明基板监测装置还可以包括透镜单元，所述透镜单元布置在所述双狭缝与所述光学检测单元之间。所述光学检测单元可以布置在所述透镜单元的焦点处。
[0014]在本发明的实施例中，所述发光单元可以包括:光源；和反射组件，所述反射组件改变所述光源的输出光的光路并将光路改变的光提供至所述双狭缝。
[0015]在本发明的实施例中，所述发光单元可以包括:光源；光纤，所述光纤接收所述光源的输出光；和准直透镜，所述准直透镜将从所述光纤输出的光转换成准直光并将所述准直光提供至所述双狭缝。
[0016]在本发明的实施例中，所述发光单兀可以包括:第一光源，所述第一光源发出第一波长的光；第二光源，所述第二光源发出第二波长的光，所述第一波长不同于所述第一波长；定向耦合器，所述定向耦合器将所述第一光源的光路与所述第二光源的光路耦合；和准直透镜，所述准直透镜将所述定向耦合器的输出光提供至所述双狭缝。
[0017]在本发明的实施例中，所述第一光源和所述第二光源可以以脉冲模式工作。所述第一光源和所述第二光源可以依次将输出光提供至所述双狭缝。
[0018]根据本发明实施例的透明基板监测方法可以包括:设置双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播相交；通过让具有相干性的第一波长的光相继穿过透明基板和所述双狭缝来形成第一干涉图样；测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的所述第一干涉图样的位置，所述第一光透过布置在所述双狭缝前方的所述透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；并且通过分析所述第一波长的光的所述第一干涉图样的位置来测量由所述透明基板造成的第一相位差。
[0019]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:在狭缝分隔方向上使所述透明基板移动所述双狭缝的狭缝间隔。
[0020]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:通过对在之前位置处测量的所述第一相位差求和来计算所述透明基板的第一累积相位差的空间分布。
[0021]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:通过让具有相干性的第二波长的光相继通过所述透明基板和所述双狭缝来形成第二干涉图样；通过测量所述第二波长的光的所述第二图样的位置来测量由所述透明基板造成的第二相位差；并且通过使用所述第一相位差和所述第二相位差来提取出所述透明基板的所述第一位置与所述第二位置之间的折射率差和厚度差。
[0022]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:在狭缝分隔方向上使所述透明基板移动所述双狭缝的狭缝间隔。
[0023]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:通过对在之前位置处测量的所述折射率差求和来提取折射率差的空间分布，并且通过对在之前位置处测量的所述厚度差求和来提取厚度差的空间分布。
[0024]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:在所述双狭缝的后方安装透镜以具有在所述屏幕平面上的焦点。
[0025]在本发明的实施例中，所述透明基板监测方法还可以包括:在所述屏幕平面上设置光圈以仅允许所述第一干涉图样中的主极大图样从所述光圈中穿过。
[0026]根据本发明实施例的光学相位差测量装置可以包括:用于发光的发光单元；双狭缝，其布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播相交；光学检测单元，其测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的测量目标的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述测量目标的第二位置并穿过所述第二狭缝；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算穿过所述透明基板的所述第一位置和所述第二位置的光线的光学相位差。
[0027]根据本发明实施例的厚度变化测量装置可以包括:用于发光的发光单元；双狭缝，所述双狭缝包括在与光的传播方向相交的方向上彼此间隔开的第一开口和第二开口 ；测量目标，所述测量目标布置在所述发光单元与所述双狭缝之间以使能够透过；光学位置检测单元，所述光学位置检测单元接收由穿过所述第一开口和所述第二开口的光生成的干涉光以检测干涉图样的位置变化；和信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学位置检测单元的信号以计算所述测量目标的厚度变化。
[0028]在本发明的实施例中，所述干涉光的强度可以根据所述测量目标的与所述第一开口相对应的第一区域的厚度和所述测量目标的与所述第二开口相对应的第二区域的厚度之间的差值而变化。
[0029]在本发明的实施例中，所述厚度变化测量装置还包括移动控制单元，所述移动控制单元使所述测量目标在与从所述发光单元发出的光的传播方向相交的方向上移动。
[0030]在本发明的实施例中，所述厚度变化测量装置还可以包括正透镜，所述正透镜布置在所述双狭缝与所述光学位置检测单元之间。
[0031]在本发明的实施例中，所述厚度变化测量装置还可以包括光学组件，所述光学组件布置在所述发光单元与所述测量目标之间并将从所述发光单元发出的光转换成平行光。
[0032]在本发明的实施例中，所述光学位置检测单元可以包括第一光学检测器和第二光学检测器。所述第一光学检测器和所述第二光学检测器可以布置在与光的传播方向相交的方向上以使所述第一光学检测器和所述第二光学检测器与干涉光强度最大的位置间隔相同的距离。
[0033]根据本发明实施例的厚度变化测量方法可以包括:布置透光的测量目标以及允许光从中穿过并包括彼此间隔开的第一开口和第二开口的双狭缝；发出光以使光相继通过所述测量目标和所述双狭缝；并且令光学位置检测单元接收由穿过所述第一开口和第二开口的光产生的干涉光；并且接收来自所述光学位置检测单元的信号以计算所述测量目标的厚度变化。
[0034]在本发明的实施例中，所述测量目标可以在与所述发光单元发出的光的传播方向相交的方向上移动。
[0035]在本发明的实施例中，正透镜可以布置在所述双狭缝与所述光学位置检测单元之间以使穿过所述双狭缝的光聚焦。
[0036]在本发明的实施例中，光学组件布置在所述发光单元与所述测量目标之间以将所述发光单元发出的光转换成平行光。
[0037]在本发明的实施例中，令光学位置检测单元接收干涉光可以包括:由包括第一光学检测器和第二光学检测器的光学位置检测单元接收干涉光，所述第一光学检测器和所述第二光学检测器布置在与光的传播方向相交的方向上来使它们与干涉光强度最大的位置间隔相同的距离。
本发明的有效效果
[0038]通过上述的厚度变化测量装置和厚度变化测量方法，能够精确测量测量目标的厚度变化并且能够测量测量目标的整个表面的厚度变化的形势。
[0039]根据本发明实施例的透明基板监测装置能够抗振动地测量光学相位差。
[0040]根据本发明实施例的透明基板监测装置能够通过使用两个波长将光学相位差分离成折射率和厚度。
【专利附图】
【附图说明】
[0041]参照附图及随附的详细说明，本发明将变得更加显然。通过示例的方式而非通过限制的方式提供本文中所描述的实施例，其中，相似得参考符号表示相同或相似的元件。附图未必按照比例绘制，而是将重点放在图示本发明的方面。
[0042]图1是关于本发明实施例的厚度变化测量装置的透视图。
[0043]图2是图示了通过双狭缝的光的干涉图样的曲线图。
[0044]图3是通过放大图2的A区域而图示了干涉光的强度变化的曲线图。
[0045]图4是图示了根据图1的厚度变化测量装置中的相位差的信号变化的曲线图。
[0046]图5是图示了使用图1的根据实施例的厚度变化测量装置的厚度变化测量方法的步骤的流程图。
[0047]图6A图示了根据本发明实施例的透明基板监测装置。
[0048]图6B是图6A的透明基板监测装置的立体图。
[0049]图7A图示了当图6的透明基板监测装置中存在相位差时的干涉图样。
[0050]图7B示出了依赖于时间的干涉图样移动量。
[0051]图7C将取决于时间的干涉图样移动量显示为依赖于位置的光学相位差。
[0052]图7D示出了对图7C的光学相位差进行求和的结果。
[0053]图8图示了根据本发明另一个实施例的透明基板监测装置。
[0054]图9图示了根据本发明又一个实施例的透明基板监测装置。
[0055]图10图示了根据本发明再一个实施例的透明基板监测装置。
[0056]图11是图10的透明基板监测装置的时序图。
[0057]图12图示了根据本发明实施例的透明基板监测方法。
[0058]图13示出了使用图12的方法而获得的结果。
[0059]图14是图示了根据本发明实施例的透明基板监测方法的流程图。
[0060]图15是图示了根据本发明另一个实施例的透明基板监测方法的流程图。
[0061]图16是示出了根据本发明实施例的光程差测量结果的曲线图。
【具体实施方式】
[0062]根据本发明的实施例，如果透明基板的厚度不均匀，那么通过透明基板的光的光程长度就发生变化。因此，通过玻璃的光的相位差发生在各自的位置处。为了测量相位差，把从光源发射出的光束转换为平行光并使它们通过透明基板。通过透明基板的光束射在具有狭缝间隔“a”的双狭缝上。通过双狭缝的光被衍射以在屏幕平面上形成干涉条纹，该屏幕平面上布置有光学检测单元。如果不存在由双狭缝的各光程造成的相位差，则干涉条纹的最大峰值位于双狭缝的中心。如果存在由双狭缝的各光程造成的相位差，那么位于双狭缝中心的干涉条纹的最大峰值在χ轴方向，即，狭缝间隔方向上垂直移动。因此，如果使用光学检测单元来测量干涉条纹的峰值点的位置如何变化，就能够知道透明基板的两个位置处的厚度差。
[0063]此外，通过折射率和厚度(或距离)的相乘来表达使用双狭缝测量的光程差。需要额外的测量来从光程差中分离出关于折射率和厚度的信息。如果以不同的两个波长测量同一位置的光程差，就可以获得厚度差和折射率差。
[0064]现在将在下文中参照附图更加全面地说明本发明，在附图中示出了本发明的优选实施例。然而，本发明可以以许多不同的形式来呈现且不应该被理解为限于本文中所述的实施例。确切地说，提供这些实施例以使得本公开将是彻底和完整的，并将本发明的范围完全地传达给本领域技术人员。在附图中，为了清楚图示，放大了元件或组件。在全文中，相似的符号表不相似的兀件。
[0065]图1是关于本发明实施例的厚度变化测量装置的透视图。
[0066]如图1所示，关于本发明实施例的厚度变化测量装置包括发出光的发光单元10、具有第一开口 31和第二开口 32 (发光单元10发出的光穿过这两个开口)的双狭缝30、布置在发光单元10与双狭缝之间以使光能够透过的待测对象(以下被称为“测量目标”)20、接收由穿过双狭缝30的光产生的干涉光以产生信号的光学位置检测单元40以及接收光学位置检测单元40的信号以计算测量目标20的厚度变化的信号处理单元80。
[0067]发光单元10发射用来测量测量目标20的厚度变化的光。该光具有相干性。发光单元10可以被实施为激光光源。发光单元10可以是以单一波长发射激光的激光器或以两个不同波长发射激光的两个激光器。
[0068]双狭缝30在与发光单元10发射的光传播的方向相交的方向上延伸。双狭缝30具有第一开口 31和第二开口 32，第一开口 31和第二开口 32在与从发光单元10发出的光传播的方向相交的方向上彼此被间隔开，以使光能够透过。
[0069]测量目标20被布置在双狭缝30与发光单元10之间。测量目标20是发光单元10发出的光能够穿过的透光材料。
[0070]在发光单元10与测量目标20之间可以布置有光学组件15。光学组件15可以是将从发光单元10发出的光转换为平行光的准直器并且包括两个不同焦距的正透镜。
[0071 ] 发光单元10发出的光穿过测量目标20。穿过测量目标20之后，光分别穿过开口31和32。光在穿过开口 31和32的同时被衍射。衍射光彼此结合而产生干涉光。
[0072]图2所示的预定干涉图样形成虚拟屏幕表面60上，虚拟屏幕表面60被布置为与双狭缝30间隔开。当测量目标20移动时，选出一个或多个干涉图样来测量干涉图样的移动量。光学位置检测单元40被配置在虚拟屏幕表面60上并收集干涉光以测量干涉信号的位置变化量。光学位置检测单元40包括第一光学检测器41和第二光学检测器42。通过选择在测量目标20不存在的状态下由穿过第一开口 31和第二开口 32的光产生的干涉图样中的一个干涉图样，使第一光学检测器41和第二光学检测器42被布置为在与光传播方向相交的方向上与干涉光的最大强度位置间隔相同的距离。
[0073]光学位置检测单元40可以包括多个光电二极管，每个光电二极管具有形成有光圈的正面。
[0074]然而，本发明不限于此，且光学位置检测单元40可以包括光电二极管阵列或电荷耦合二极管(CCD)。
[0075]在双狭缝30与光学位置检测单元40之间可以布置有正透镜50，且光学位置检测单元40可以被布置在与正透镜50的焦距相对应的区域内。
[0076]测量目标20可以被布置为在与发光单元10发出的光的传播方向相交的方向上在发光单元10与双狭缝30之间是可移动的。通过连接至汽缸92的端部的加压组件93对测量目标20加压，汽缸92被驱动组件91灵活地移动。因此，测量目标20可以在与发光单元10的光传播方向相交的方向上移动。
[0077]驱动组件91可以电连接至移动控制单元90且可以被移动控制单元90施加的控制信号操作以使测量目标20能够以恒定的速度移动。
[0078]图2是图示了通过双狭缝的光的干涉图样的曲线图。
[0079]图2示出了当穿过双狭缝30的第一开口 31和第二开口 32的光因为去除了图1中的测量目标20或测量目标20的第一区域的厚度tl等于测量目标20的第二区域的厚度t2而具有相同相位时，形成在虚拟屏幕表面60上的干涉图样。
[0080]在图2中，Θ表示表明了形成在虚拟屏幕表面60上的干涉图样的位置的角度，并且与偏离将双狭缝30的中心与虚拟屏幕表面60连接起来的垂直线的角度相对应。在图2的曲线图中，光强Ι(θ)由下面的方程式⑴表示。当Θ是O时，干涉光的强度是最大的。
[0081]光位置检测单元40的第一光学检测器41和第二光学检测器42被布置为与干涉光的强度最大值位置(在该位置处，Θ对应于O或π)间隔相同的距离。
[0082]方程式(I)
【权利要求】
1.一种透明基板监测装置，其包括: 用于发光的发光单元； 双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播方向相交； 光学检测单元，所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；和 信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算由所述透明基板的所述第一位置和所述第二位置造成的光学相位差或光程差。
2.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述信号处理单元使用所述干涉图样在所述第一方向上的移动位置来计算所述光程差。
3.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，在所述第一方向上移动的所述透明基板是玻璃基板。
4.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述光学检测单元包括位置敏感检测器， 所述透明基板监测装置还包括光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方以使所述干涉图样的主极大图样能够从穿过所述光圈，并且 其中，所述位置敏感检测器输出所述主极大图样的中心位置。
5.如权利要求1所述的透明基板监测装置，还包括: 第一光圈和第二光圈，所述第一光圈和所述第二光圈布置在所述光学检测单元的前方并且在所述第一方向上彼此间隔开， 其中，所述光学检测单元包括布置在所述第一光圈后方的第一光学检测单元和布置在所述第二光圈后方的第二检测单元，并且 其中，所述第一光圈与所述第二光圈之间的间隔小于所述干涉图样的主极大图样的宽度。
6.如权利要求1所述的透明基板监测装置，还包括: 光圈，所述光圈布置在所述光学检测单元的前方， 其中，所述光学检测单元包括布置在所述光圈的后方并且在所述第一方向上排列的光学传感器阵列。
7.如权利要求1所述的透明基板监测装置，还包括: 透镜单元，所述透镜单元布置在所述双狭缝与所述光学检测单元之间， 其中，所述光学检测单元布置在所述透镜单元的焦点处。
8.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述发光单元包括: 光源；和 反射组件，所述反射组件用于改变所述光源的输出光的光路并将光路改变的光提供至所述双狭缝。
9.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述发光单元包括: 光源； 光纤，所述光纤接收所述光源的输出光；和 准直透镜，所述准直透镜将从所述光纤输出的光转换成准直光并将所述准直光提供给所述双狭缝。
10.如权利要求1所述的透明基板监测装置，其中，所述发光单元包括: 第一光源，所述第一光源发出第一波长的光； 第二光源，所述第二光源发出第二波长的光，所述第二波长不同于所述第一波长； 定向耦合器，所述定向耦合器将所述第一光源的光路与所述第二光源的光路耦合；和 准直透镜，所述准直透镜将所述定向耦合器的输出光提供至所述双狭缝。
11.如权利要求10所述的透明基板监测装置，其中，所述第一光源和所述第二光源以脉冲模式工作，并且 其中，所述第一光源和所述第二光源依次将输出光提供给所述双狭缝。
12.—种透明基板监测方法，其包括以下步骤: 设置双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播相交； 通过让具有相干性的第一波长的光相继穿过透明基板和所述双狭缝来形成第一干涉图样； 测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的所述第一干涉图样的位置，所述第一光透过布置在所述双狭缝前方的所述透明基板的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述透明基板的第二位置并穿过所述第二狭缝；并且 通过分析所述第一波长的光的所述第一干涉图样的位置来测量由所述透明基板造成的第一相位差。
13.如权利要求12所述的透明基板监测方法，还包括: 在狭缝分隔方向上使所述透明基板移动所述双狭缝的狭缝间隔。
14.如权利要求12所述的透明基板监测方法，还包括: 通过对在之前位置处测量的所述第一相位差求和来计算所述透明基板的第一累积相位差的空间分布。
15.如权利要求12所述的透明基板监测方法，还包括: 通过让具有相干性的第二波长的光相继通过所述透明基板和所述双狭缝来形成第二干涉图样； 通过测量所述第二波长的光的所述第二干涉图样的位置来测量由所述透明基板造成的第二相位差；并且 通过使用所述第一相位差和所述第二相位差来提取出所述基板的所述第一位置与所述第二位置之间的折射率差和厚度差。
16.如权利要求15所述的透明基板监测方法，还包括: 在狭缝分隔方向上使所述透明基板移动所述双狭缝的狭缝间隔。
17.如权利要求16所述的透明基板监测方法，还包括: 通过对在之前位置处测量的所述折射率差求和来提取出折射率差的空间分布，并且通过对在之前位置处测量的所述厚度差求和来提取厚度差的空间分布。
18.如权利要求12所述的透明基板监测方法，还包括: 在所述双狭缝的后方安装透镜以具有在所述屏幕平面上的焦点。
19.如权利要求12所述的透明基板监测方法，还包括: 在所述屏幕平面上设置光圈以仅允许所述第一干涉图样中的主极大图样从所述光圈中穿过。
20.一种光学相位差测量装置，其包括: 用于发光的发光单元； 双狭缝，所述双狭缝布置于在第一方向和第二方向上限定的平面上并且包括在所述第一方向上彼此间隔开以允许光从中穿过的第一狭缝和第二狭缝，所述第一方向和所述第二方向与入射光的传播相交； 光学检测单元，所述光学检测单元测量由第一光和第二光在屏幕平面上形成的干涉图样的强度轮廓或位置，所述第一光透过布置在所述发光单元与所述双狭缝之间的测量目标的第一位置并穿过所述第一狭缝，所述第二光透过所述测量目标的第二位置并穿过所述第二狭缝；和 信号处理单元，所述信号处理单元接收来自所述光学检测单元的信号以计算穿过所述透明基板的所述第一位置和所述第二位置的光线的光学相位差。
【文档编号】G01B9/02GK104204720SQ201380015267
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2013年3月18日 优先权日:2012年3月21日
【发明者】金在完, 金钟安, 陈宗汉, 姜宙植, 严泰凤 申请人:韩国标准科学研究院