缺陷原因工序分析装置和缺陷原因工序分析方法

文档序号:6214445阅读:201来源:国知局
缺陷原因工序分析装置和缺陷原因工序分析方法
【专利摘要】缺陷原因工序分析装置(16)的关联部(17)针对1个液晶显示面板从信息管理数据库(9)读出点亮缺陷信息和TFT修正信息,进行两结果的联系(所谓的关联)。分类部(18)按上述TFT修正信息对上述点亮缺陷信息进行分类。重叠映射部(19)针对1批次或者数批次的上述液晶显示面板,使上述被分类的点亮缺陷信息重叠、映射到同一坐标上。映射显示部(20)显示如上所述得到的多个重叠映射中的、预先设定的或者由操作者指定的1个或者多个重叠映射。这样来分析在最终检查中检测出的缺陷的原因是由工艺工序导致,还是由检查工序导致。
【专利说明】缺陷原因工序分析装置和缺陷原因工序分析方法

【技术领域】
[0001]本发明涉及在液晶显示面板等的制造工序中对成为缺陷的原因的制造工序的推测进行支援的缺陷原因工序分析装置和缺陷原因工序分析方法。

【背景技术】
[0002]作为将各制造工序各自的检查结果和最终检查结果进行对照来推测缺陷原因工序的装置,有在特开2009-264865号公报(专利文献I)中公开的“平板显示器的缺陷检查盤晋”
目.ο
[0003]在上述平板显示器的缺陷检查装置中,在TFT(薄膜晶体管:Thin FilmTransistor)工艺的各工序的紧后进行缺陷检查,将检查结果保存于缺陷分析数据库的缺陷检查数据库。同样地,在彩色滤光片工艺的各工序的紧后进行缺陷检查,将检查结果保存于上述缺陷检查数据库。然后,通过组装,将在TFT工艺中完成的TFT基板和用彩色滤光片工艺完成的彩色滤光片基板贴合后以面板为单位进行分割并注入液晶,在密封后进行点亮检查。将该点亮检查的检查结果保存于上述点亮检查数据库。
[0004]并且,将在上述组装中的以面板为单位的点亮检查结果合计后作为以基板为单位的点亮检查结果,与在TFT工艺中的检查结果和在彩色滤光片工艺中的检查结果进行对照,由此确定点亮检查结果中的缺陷是在哪个工艺和工序中发生的。
[0005]但是,在上述平板显示器的缺陷检查装置中存在以下问题。
[0006]S卩,存在如下问题:即使确定了上述点亮缺陷是在上述TFT工艺中的哪个工序中发生的,也无法区别产生上述点亮缺陷的原因是由发生工序中的工艺工序导致,还是由检查工序导致。
_7] 现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1:特开2009-264865号公报


【发明内容】

[0010]发明要解决的问题
[0011]因此,本发明的问题在于,提供缺陷原因工序分析装置和缺陷原因工序分析方法,其能分析产生在最终检查时检测出的缺陷的原因是由工艺工序导致,还是由检查工序导致。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]为了解决上述问题,本发明的缺陷原因工序分析装置的特征在于,具备:
[0014]关联部,其在对构件进行加工处理后进行中间检查、修正检测出的缺陷、之后进行最终检查的制造工序中,取得上述最终检查中的缺陷信息及其位置和上述修正中的修正信息及其位置,将上述缺陷信息映射到对上述构件设定的坐标上,并且基于上述缺陷信息的位置和上述修正信息的位置进行上述缺陷信息与上述修正信息的关联;
[0015]分类部,其基于上述关联部的上述关联的结果,按上述修正信息对上述缺陷信息进行分类;
[0016]重叠映射部,其基于上述分类部的上述分类的结果,将与预先设定的设定数量的构件有关的上述缺陷信息按照上述修正信息的类别重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上;以及
[0017]映射显示部,其显示由上述重叠映射部生成的重叠映射。
[0018]在此,上述“上述缺陷信息与上述修正信息的关联”是指“上述缺陷信息与上述修正息的联系”。
[0019]根据上述构成,能显示将上述缺陷信息重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上而生成的重叠映射,上述缺陷信息与按照上述修正信息的类别分类的上述设定数量的构件有关。因而,本缺陷原因工序分析装置的操作者根据从上述修正信息类别的重叠映射而得到的关联分类结果和上述缺陷信息的分布状态,能从视觉上迅速地判断在上述最终检查中检测出的缺陷是由上述中间检查导致,还是由其之前的上述加工处理导致。
[0020]另外,在一种实施方式的缺陷原因工序分析装置中,
[0021]具备数据库,上述数据库保存上述最终检查中的缺陷信息及其位置和上述修正中的修正信息及其位置,
[0022]上述关联部从上述数据库取得上述缺陷信息及其位置和上述修正信息及其位置。
[0023]根据该实施方式,上述关联部能容易地取得与多个上述构件有关的上述缺陷信息及其位置和上述修正信息及其位置。
[0024]另外,在一种实施方式的缺陷原因工序分析装置中,
[0025]上述制造工序是液晶显不面板制造工序,其中,
[0026]将上述构件设为玻璃基板,
[0027]将上述加工处理设为对上述玻璃基板进行成膜、曝光、蚀刻、取向膜形成来制造TFT基板的加工处理,
[0028]将上述中间检查设为针对上述TFT基板的检查,
[0029]将上述最终检查设为针对使用上述TFT基板制造的液晶显示面板的点亮检查。
[0030]根据该实施方式,在对玻璃基板进行加工处理来制造TFT基板后、进行上述TFT基板的检查、修正检测出的缺陷、进行针对用上述TFT基板制造的液晶显示面板的点亮检查的液晶显示面板制造工序中,能从视觉上迅速地判断在上述点亮检查中检测出的点亮缺陷是由上述TFT基板的检查导致,还是由其之前的制造上述TFT基板的加工处理导致。
[0031]另外,本发明的缺陷原因工序分析方法的特征在于,具备:
[0032]关联工序,其在对构件进行加工处理后进行中间检查、修正检测出的缺陷、之后进行最终检查的制造工序中,利用关联部取得上述最终检查中的缺陷信息及其位置和上述修正中的修正信息及其位置,将上述缺陷信息映射到对上述构件设定的坐标上,并且基于上述缺陷信息的位置和上述修正信息的位置进行上述缺陷信息与上述修正信息的关联;
[0033]分类工序,其利用分类部基于上述关联工序中的上述关联的结果按上述修正信息对上述缺陷信息进行分类;
[0034]重叠映射工序,其利用重叠映射部基于上述分类工序中的上述分类的结果将与预先设定的设定数量的构件有关的上述缺陷信息按照上述修正信息的类别重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上;以及
[0035]映射显不工序,其利用上述映射显不部显不在上述重置映射工序中生成的重置映射。
[0036]根据上述构成,能显示将上述缺陷信息重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上而生成的重叠映射,上述缺陷信息与按照上述修正信息的类别分类的上述设定数量的构件有关。因而,根据从上述修正信息类别的重叠映射而得到的关联分类结果和上述缺陷信息的分布状态,能从视觉上迅速地判断在上述最终检查中检测出的缺陷是由上述中间检查导致,还是由其之前的上述加工处理导致。
[0037]发明效果
[0038]从以上内容可知,根据本发明,显示将上述缺陷信息重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上而生成的重叠映射,上述缺陷信息与按照上述修正信息的类别分类的上述设定数量的构件有关,因此根据从上述修正信息类別的重叠映射而得到的关联分类结果和上述缺陷信息的分布状态,能从视觉上迅速地判断在上述最终检查中检测出的缺陷是由上述中间检查导致,还是由其之前的上述加工处理导致。
[0039]因而,能迅速地进行向上述加工处理和上述中间检查的反馈,能防止制造工序中的一次良品率降低。

【专利附图】

【附图说明】
[0040]图1是示出本发明的缺陷原因工序分析装置的概要的图。
[0041]图2是示出由图1的映射显示部显示的重叠映射的一例的图。
[0042]图3是缺陷信息的映射和缺陷信息与修正信息的关联的说明图。
[0043]图4是按修正信息对缺陷信息进行分类的说明图。
[0044]图5是上述重叠映射的说明图。

【具体实施方式】
[0045]以下,通过图示的实施方式更详细地说明本发明。图1是示出本实施方式的缺陷原因工序分析装置的概要的图。此外,在本实施方式中,举出作为上述缺陷原因工序分析装置的一例的液晶显示面板制造中的缺陷原因工序分析装置进行说明。
[0046]如图1所示,缺陷原因工序分析装置16基于利用液晶显示面板制造工序中的检查工序和修正工序得到的信息来分析缺陷原因工序。
[0047]以下,在说明上述缺陷原因工序分析装置16之前说明液晶显示面板的制造工序。
[0048]上述液晶显示面板经过TFT工序1、LCD (Liquid Crystal Display:液晶显示器)工序2以及面板工序3制造,完成的液晶显不面板在点売检查工序4中进行点売检查后,如果有缺陷,则通过激光修理工序5进行修正,无缺陷的液晶显示面板和已修正的液晶显示面板作为成品出厂。
[0049]在图1中,上述TFT工序I是制造液晶显示面板的TFT基板的工序。在该TFT工序I中,在经过针对玻璃基板的成膜、曝光、蚀刻、取向膜形成等制造工艺6后,利用TFT检查工序7对在上述玻璃基板中形成TFT层、配线层以及像素电极等的TFT基板进行检查(TFT检查),对发现的缺陷通过TFT修正工序8进行修正(TFT修正)。并且,得到的TFT缺陷信息和TFT修正信息被保存于信息管理数据库9。
[0050]在这种情况下,作为上述TFT缺陷信息的具体例,有缺陷种类、缺陷坐标、缺陷强度、检查条件等。另外,作为上述TFT修正信息的具体例,有修正成功、不修正(因为是无需修正的缺陷)、跳过修正(不在TFT检查中检测)、不能修正、缺陷位置不明等。
[0051]经过上述TFT工序I的制造工艺6,在TFT检查工序7中没有发现缺陷的TFT基板和在TFT检查工序7中发现缺陷而在TFT修正工序8中进行了修正的TFT基板被输送到LCD工序2。
[0052]上述IXD工序2是对来自TFT工序I的TFT基板进行各种加工处理来制造IXD的工序。在该LCD工序2中,经过彩色滤光片基板制造10、TFT基板与彩色滤光片基板的贴合
11、基板切断12以及液晶注入/密封13等加工处理而形成IXD。这样形成的上述IXD被输送到面板工序3。
[0053]上述面板工序3是对来自IXD工序2的IXD进行各种加工处理来制造液晶显示面板的工序。在该面板工序3中,经过背光源制造14和模块组装15等加工处理而形成液晶显示面板。这样形成的上述液晶显示面板被输送到点亮检查工序4。
[0054]在上述点亮检查工序4中,使来自面板工序3的液晶显示面板中的各像素按顺序点亮,检查是否有点亮缺陷。并且,有点亮缺陷的液晶显示面板通过激光修理工序5进行使用激光的修理。在这种情况下,在点亮检查工序4中得到的点亮缺陷信息和修理信息被保存于信息管理数据库9。
[0055]在这种情况下,作为上述点亮缺陷信息的具体例,有缺陷种类、缺陷坐标等。
[0056]在此,为了知道上述各液晶显示面板是由哪一个TFT基板制造的,对TFT基板或液晶显示面板赋予识别编号。例如,对TFT基板赋予“TFT批次编号”和“TFT基板编号”。另夕卜,对液晶显示面板赋予“面板位置编号”以及原来的TFT基板的“TFT批次编号”和“TFT基板编号”。这样基于对液晶显示面板附加的“TFT批次编号”、“TFT基板编号”以及“面板位置编号”就知道是从哪一个TFT基板的哪一个位置切断的液晶显示面板。
[0057]并且,保存于上述信息管理数据库9的TFT缺陷信息和TFT修正信息与作为TFT识别编号的“TFT批次编号”和“TFT基板编号”对应起来保存。另外,点亮缺陷信息和修理信息与作为面板识别编号的“TFT批次编号”、“TFT基板编号”以及“面板位置编号”对应起来保存。
[0058]此外,上述识别编号只要构成为知道目标液晶显示面板是从哪一个TFT基板的哪一个位置切断的液晶显示面板即可,但不限于上述构成。
[0059]而且,对保存于上述信息管理数据库9的上述TFT缺陷信息、上述TFT修正信息、上述点亮缺陷信息以及上述修理信息赋予为了显示检查位置而预先在上述TFT基板中设定的坐标空间上的位置(坐标)。
[0060]下面,说明上述缺陷原因工序分析装置16。本缺陷原因工序分析装置16基于由上述信息管理数据库9存储的上述TFT缺陷信息、上述TFT修正信息以及上述点亮缺陷信息分析成为上述点亮缺陷的原因的工序。该缺陷原因工序分析装置16构成为包括关联部17、分类部18、重叠映射部19以及映射显示部20。
[0061]在上述构成中,上述关联部17针对I个上述液晶显示面板读出保存于信息管理数据库9的多个上述点亮缺陷信息和多个上述TFT修正信息,基于TFT缺陷坐标和点亮缺陷坐标进行两信息的联系(所谓的关联)。然后,分类部18基于上述关联结果用上述TFT修正信息对上述点亮缺陷信息进行分类。由此分类为:TFT修正工序8中的修正已成功的点亮缺陷组、在TFT检查工序7中检测出的TFT缺陷的位置不明的点亮缺陷组、在TFT检查工序7中没有检测出缺陷的点亮缺陷组等。
[0062]上述重叠映射部19针对I批次或者数批次的上述液晶显示面板,将利用关联部17和分类部18按上述TFT修正信息分类的上述点亮缺陷信息重叠、映射到按照每一上述TFT基板设定的同一坐标上。
[0063]上述映射显示部20将比上述利用重叠映射部19得到的上述TFT修正信息的种类数多I个的重叠映射中的、预先设定的I个或者多个重叠映射,或者由操作者指定的I个或者多个重叠映射显示为缺陷原因工序的分析结果。
[0064]因而,如图2所示,上述操作者能基于由上述映射显示部20显示的重叠映射来推测点亮缺陷的原因工序。
[0065]即,在按图2(a)例示的上述TFT修正信息“修正成功”分类的重叠映射中,特别是在TFT基板21中的带虚线圆(甲)的特定的部位发生多个TFT缺陷,并且没有通过TFT修正被修正而产生的点亮缺陷也较多。在这种情况下,能判断为“由TFT工序I的制造工艺的装置造成”。
[0066]另外,在按图2(b)例示的TFT修正信息“缺陷位置不明”分类的重叠映射中,通过TFT修正工序8判定为“缺陷位置不明”的TFT缺陷在TFT基板21上的坐标与在点亮检查工序4中检测出的点亮缺陷在TFT基板21上的坐标接近。在这种情况下,能判断为在由TFT检查工序7的检查装置检测出的位置处存在错误,有可能上述检查装置的位置错位。
[0067]另外,在按图2 (C)例示的TFT修正信息“跳过修正(不在TFT检查中检测)”分类的重叠映射中,在TFT检查工序7中没有检测出的点亮缺陷较多。在这种情况下,能判断为“TFT检查工序7的检查装置的检测率低”。
[0068]另外,在按上述TFT修正信息“不修正(无需修正)”分类的重叠映射中,在TFT检查工序7检测出而在TFT修正工序8中没有修正的TFT缺陷在TFT基板上的坐标与在点亮检查工序4检中测出的点亮缺陷在TFT基板上的坐标接近的情况下,能判断为“TFT检查工序7中的过检测较多,因此压制TFT修正工序8的修正,使TFT缺陷流出”。S卩,能判断为“由TFT检查工序7中的检查装置造成”。
[0069]另外,在按上述TFT修正信息“不能修正”分类的重叠映射中,在TFT修正工序8中判定为“不能修正”的TFT缺陷在TFT基板上的坐标与在点亮检查工序4中检测出的点亮缺陷在TFT基板上的坐标接近的情况下,能判断为“ ‘产生涉及多个TFT的规模性缺陷’、‘由于灰尘等局部地产生大量缺陷’等在TFT工序I的制造工艺的装置中发生问题”。
[0070]此外,在上述实施方式中,作为制造品举出平板状的液晶显示面板的例子。但是,未必一定是平板状,也可以是立体的。另外,作为在TFT检查工序7和点亮检查工序4中进行的检查,举出对二维平面进行检查的例子。但是,未必一定是平面,也可以是得到3维映射的透射型检查、得到表面的二维映射的外观检查。总之,只要是得到能重叠、映射到对制造品设定的坐标上的检查结果的检查方法,且是具有能用该检查方法检查的形状的制造品即可。
[0071]如上所示,在上述实施方式中,如
[0072]“加工处理I” 一 “检查I” 一 “修正”一(“加工处理2”)一 “检查2”
[0073]那样,在
[0074]针对进行了 “加工处理I”的制造物,进行作为上述中间检查的“检查1”,在发现了缺陷部位的情况下,基于缺陷位置的信息或缺陷状态的信息来“修正”缺陷。之后,对没有发现缺陷部位的制造物和已修正的制造物进行“加工处理2”,进行作为上述最终检查的“检查2”来得到缺陷的信息
[0075]的制造工序中,将上述“修正”工序中的修正信息及其位置和上述“检查2”工序中的缺陷信息及其位置保存于信息管理数据库9。
[0076]在此,上述“加工处理I”相当于上述实施方式中的TFT工序I的制造工艺6,上述“检查I”相当于TFT检查工序7,上述“修正”相当于TFT修正工序8。另外,上述“加工处理2”相当于上述实施方式中的IXD工序2和面板工序3,上述“检查2”相当于点亮检查工序4。因而,上述“修正”工序中的修正信息相当于上述实施方式中的TFT修正信息,上述“检查2”工序中的缺陷信息相当于点亮缺陷信息。
[0077]但是,上述“加工处理2”是不会造成“检查2”中检测的缺陷的加工处理。此外,在本发明中,也可以没有上述“加工处理2 ”。
[0078]并且,通过上述缺陷原因工序分析装置16,使用作为上述数据库的一例的上述信息管理数据库9所保存的规定数(例如I批次量)的上述修正信息和上述最终检查的缺陷信息,进行如下缺陷原因工序的分析。
[0079]S卩,利用上述缺陷原因工序分析装置16的关联部17针对I个制造物读出保存于信息管理数据库9的上述缺陷信息及其位置和上述修正信息及其位置,如图3(a)所示,将上述缺陷信息映射到对该制造物设定的坐标上。然后,基于上述缺陷信息的位置和上述修正信息的位置,如图3(b)所示,针对上述缺陷信息建立通过上述“修正”得到哪种修正结果的关联,即进行上述缺陷信息与上述修正信息的关联。此外,在图3(b)中,上述修正信息设为“A”和“B”两个。上述修正信息“C”表示是在“修正”工序中没有进行修正的(即在“检查I”工序中没有被检测出的)缺陷。
[0080]然后,利用上述分类部18,基于上述关联结果,如图4所示,按照上述修正信息的类别对上述缺陷信息进行分类。此外,图4(a)是在上述修正信息为“A”的情况下的上述缺陷信息组。另外,图4(b)是在上述修正信息为“B”的情况下的上述缺陷信息组。另外,图4(c)是在上述修正信息为“C”的情况下的上述缺陷信息组。
[0081]接着,利用上述重叠映射部19,针对I批次或者数批次的制造物,如图5所示,按照上述修正信息的类别将I批次或者数批次量的上述缺陷信息重叠、映射到同一坐标上。此夕卜,图5(a)是上述修正信息为“A”的情况下的重叠映射。另外,图5(b)是上述修正信息为“B”的情况下的重叠映射。另外,图5(c)是上述修正信息为“C”的情况下的重叠映射。另夕卜,图5(a)和图5(b)中的?标记均表示在使I批次或者数批次量的上述缺陷信息重叠的过程中已经被重叠的上述缺陷信息。另外,〇标记表示与接下来重叠的I个制造物有关的上述缺陷信息。但是,在图5(c)中,上述修正信息“C”是在“修正”工序中没有进行修正的(即在“检查I”工序中没有被检测出的)缺陷,因此仅〇标记的缺陷被映射。
[0082]此外,如图5所示,上述重叠、映射的结果是,生成对上述修正信息的种类数(在本例中为“A”和“B”两个)加上“I”的数量的映射。映射数比上述修正信息的种类数仅增加“ I”的原因是,在“检查2”工序中检测出的缺陷有时在“检查I”工序中没有检测出。
[0083]然后,利用上述映射显示部20,将如上所述得到的多个重叠映射中的、预先指定的I个或者多个上述修正信息类别的重叠映射,或者由操作者指定的I个或者多个上述修正信息类别的重叠映射显示为缺陷原因工序的分析结果。
[0084]因而,操作者根据从I个或者多个上述修正信息类別的重叠映射得到的上述关联分类结果和上述缺陷信息的分布状态,能从视觉上迅速地判断在上述最终检查中检测出的缺陷是由“检查I”工序导致,还是由其之前的“加工处理I”工序导致。
[0085]例如,在按上述“修正”工序中的修正信息“修正成功”分类的重叠映射中,在特定的部位在“检查I”工序和“检查2”工序中检测出的缺陷多的情况下,能判断为“由加工处理I的工艺装置导致”。
[0086]另外,在按上述“修正”工序中的修正信息“缺陷位置不明”分类的重叠映射中,在判断为上述“缺陷位置不明”的“修正”工序中的修正坐标与“检查2”工序中的缺陷坐标接近的情况下,能判断为在“检查I”工序的检查装置的检测位置存在错误,有可能上述检查装置的位置错位。
[0087]另外,在按上述“修正”工序中的修正信息“跳过修正(不在TFT检查中检测)”分类的重叠映射中,在“检查2”工序中的缺陷坐标的附近没有“修正”工序中的修正坐标的情况下,能判断为“‘检查I’工序中的检查装置的检测率低”。
[0088]另外,在按上述“修正”工序中的修正信息“不修正(无需修正)”分类的重叠映射中,在上述修正信息的坐标与“检查2”工序中的缺陷坐标接近的情况下,能判断为“ ‘检查I’工序中的过检测较多,因此压制‘压制修正’工序中的修正,使‘加工处理I’工序中的缺陷流出”,能判断为“由检查I工序中的检查装置导致”。
[0089]另外,在按上述“修正”工序中的修正信息“不能修正”分类的重叠映射中,在判断为上述“不能修正”的修正坐标与“检查2”工序中的缺陷坐标接近的情况下,能判断为“在‘加工处理I’的工艺装置中发生重大问题”。
[0090]因而,根据上述实施方式,能提供缺陷原因工序分析装置和缺陷原因工序分析方法,其能分析产生在最终检查中检测出的缺陷的原因是由工艺工序导致,还是由检查工序导致。
[0091]其结果是,能迅速地进行向上述工艺工序和上述检查工序的反馈,能防止制造工序中的一次良品率降低。
[0092]附图标记说明
[0093]1...TFT 工序
[0094]2...LCD 工序
[0095]3…面板工序
[0096]4…点亮检查工序
[0097]5…激光修理工序
[0098]6…制造工艺
[0099]7...TFT 检查工序
[0100]8...TFT 修正工序
[0101]9…信息管理数据库
[0102]10…彩色滤光片基板制造
[0103]11…贴合
[0104]12…基板切断
[0105]13…液晶注入/密封
[0106]14…背光源制造
[0107]15…模块组装
[0108]16…缺陷原因工序分析装置
[0109]17…关联部
[0110]18…分类部
[0111]19…重叠映射部
[0112]20…映射显示部
[0113]21...TFT 基板
【权利要求】
1.一种缺陷原因工序分析装置,其特征在于,具备: 关联部(17),其在对构件进行加工处理后进行中间检查、修正检测出的缺陷、之后进行最终检查的制造工序中,取得上述最终检查中的缺陷信息及其位置和上述修正中的修正信息及其位置,将上述缺陷信息映射到对上述构件设定的坐标上,并且基于上述缺陷信息的位置和上述修正信息的位置进行上述缺陷信息与上述修正信息的关联; 分类部(18),其基于上述关联部(17)的上述关联的结果,按上述修正信息对上述缺陷信息进行分类; 重叠映射部(19),其基于上述分类部(18)的上述分类的结果,将与预先设定的设定数量的构件有关的上述缺陷信息按照上述修正信息的类别重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上;以及 映射显示部(20),其显示由上述重叠映射部(19)生成的重叠映射。
2.根据权利要求1所述的缺陷原因工序分析装置,其特征在于, 具备数据库(9),上述数据库(9)保存上述最终检查中的缺陷信息及其位置和上述修正中的修正信息及其位置, 上述关联部(17)从上述数据库(9)取得上述缺陷信息及其位置和上述修正信息及其位置。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的缺陷原因工序分析装置,其特征在于, 上述制造工序是液晶显不面板制造工序,其中, 将上述构件设为玻璃基板, 将上述加工处理设为对上述玻璃基板进行成膜、曝光、蚀刻、取向膜形成来制造薄膜晶体管基板的加工处理, 将上述中间检查设为针对上述薄膜晶体管基板的检查, 将上述最终检查设为针对使用上述薄膜晶体管基板制造的液晶显示面板的点亮检查。
4.一种缺陷原因工序分析方法,其特征在于,具备: 关联工序,其在对构件进行加工处理后进行中间检查、修正检测出的缺陷、之后进行最终检查的制造工序中,利用关联部(17)取得上述最终检查中的缺陷信息及其位置和上述修正中的修正信息及其位置,将上述缺陷信息映射到对上述构件设定的坐标上,并且基于上述缺陷信息的位置和上述修正信息的位置进行上述缺陷信息与上述修正信息的关联;分类工序,其利用分类部(18)基于上述关联工序中的上述关联的结果按上述修正信息对上述缺陷信息进行分类; 重叠映射工序,其利用重叠映射部(19)基于上述分类工序中的上述分类的结果将与预先设定的设定数量的构件有关的上述缺陷信息按照上述修正信息的类别重叠、映射到对上述构件设定的上述坐标上;以及 映射显示工序,其利用上述映射显示部(20)显示在上述重叠映射工序中生成的重叠映射。
【文档编号】G01M11/00GK104335029SQ201380027369
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2013年6月12日 优先权日:2012年6月12日
【发明者】户屋正雄, 今井克树 申请人:夏普株式会社
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