1.一种接近传感器的校准方法，其特征在于，包括：
获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值，并将第一接近值与预设阈值进行比较，以得到比较结果；
根据所述比较结果调节所述发射参数，以得到调节后的发射参数；
判断所述调节后的发射参数是否满足预设条件；
若是，则根据所述调节后的发射参数修正所述接近传感器的校准参数。
2.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，在判定所述调节后的发射参数满足预设条件之后，根据所述调节后的发射参数修正所述接近传感器的校准参数之前，所述方法还包括：
获取第二接近值与所述预设阈值之间的差值，其中，第二接近值由所述接近传感器基于所述调节后的发射参数生成；
所述根据所述调节后的发射参数修正所述接近传感器的校准参数的步骤，具体包括：
根据所述调节后的发射参数和所述差值，修正所述接近传感器的校准参数。
3.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述测量信号为脉冲信号，所述发射参数为信号发射数量；
所述根据所述比较结果调节所述发射参数的步骤，具体包括：
若比较结果为第一接近值大于预设阈值，则减少脉冲信号的信号发射数量；
若比较结果为第一接近值小于预设阈值，则增加脉冲信号的信号发射数量。
4.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述判断所述调节后的发射参数是否满足预设条件的步骤，具体包括：
调节所述调节后的发射参数，以得到二次调节后的发射参数；
获取所述接近传感器基于所述二次调节后的发射参数生成的第三接近值；
判断第三接近值是否处于预设范围内；
若是，则判定所述调节后的发射参数满足预设条件。
5.如权利要求1-4任一项所述的校准方法，其特征在于，在获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值之前，所述方法还包括：
判断所述接近传感器是否处于遮挡状态；
若否，则执行获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值的步骤。
6.一种接近传感器的校准装置，其特征在于，包括：
比较模块，用于获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值，并将第一接近值与预设阈值进行比较，以得到比较结果；
调节模块，用于根据所述比较结果调节所述发射参数，以得到调节后的发射参数；
第一判断模块，用于判断所述调节后的发射参数是否满足预设条件；
修正模块，用于在第一判断模块判定为是时，根据所述调节后的发射参数修正所述接近传感器的校准参数。
7.如权利要求6所述的校准装置，其特征在于，所述装置还包括：
获取模块，用于在判定所述调节后的发射参数满足预设条件之后，根据所述调节后的发射参数修正所述接近传感器的校准参数之前，获取第二接近值与所述预设阈值之间的差值，其中，第二接近值由所述接近传感器基于所述调节后的发射参数生成；
所述修正模块，具体用于根据所述调节后的发射参数和所述差值，修正所述接近传感器的校准参数。
8.如权利要求6所述的校准装置，其特征在于，所述测量信号为脉冲信号，所述发射参数为信号发射数量；
所述调节模块，具体用于：
若比较结果为第一接近值大于预设阈值，则减少脉冲信号的信号发射数量；
若比较结果为第一接近值小于预设阈值，则增加脉冲信号的信号发射数量。
9.如权利要求6所述的校准装置，其特征在于，第一判断模块包括：
调节子模块，用于调节所述调节后的发射参数，以得到二次调节后的发射参数；
获取子模块，用于获取所述接近传感器基于所述二次调节后的发射参数生成的第三接近值；
判断子模块，用于判断第三接近值是否处于预设范围内；若是，则判定所述调节后的发射参数满足预设条件。
10.如权利要求6-9任一项所述的校准装置，其特征在于，所述装置还包括：
第二判断模块，用于在获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值之前，判断所述接近传感器是否处于遮挡状态；
所述比较模块，具体用于在所述第二判断模块判定为否时，获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值。
11.一种终端，其特征在于，所述终端包括接近传感器，以及与所述接近传感器连接的校准装置，其中，所述校准装置包括：
比较模块，用于获取接近传感器基于测量信号的发射参数生成的第一接近值，并将第一接近值与预设阈值进行比较，以得到比较结果；
调节模块，用于根据所述比较结果调节所述发射参数，以得到调节后的发射参数；
第一判断模块，用于判断所述调节后的发射参数是否满足预设条件；
修正模块，用于在第一判断模块判定为是时，根据所述调节后的发射参数修正所述接近传感器的校准参数。