1.一种工业纯钛TA2的电解腐蚀剂，其特征在于，该电解腐蚀剂中，HF：CH3CH2OH：水的体积比为：(8-10):(19-21):(35-37)；且在该电解腐蚀剂中还添加有(NH4)2S2O8，添加量为：每8-10mL HF添加1-1.2g(NH4)2S2O8。
2.根据权利要求1所述的工业纯钛TA2的电解腐蚀剂，其特征在于，水为蒸馏水。
3.一种工业纯钛TA2的电解抛光腐蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)将经预处理的工业纯钛TA2进行研磨及清洗处理，制成待腐蚀试样；
2)采用电解腐蚀剂在待腐蚀试样表面进行电解抛光腐蚀处理；
其中，所述电解腐蚀剂中，HF：CH3CH2OH：水的体积比为(8-10):(19-21):(35-37)；且在该电解腐蚀剂中还添加有(NH4)2S2O8，添加量为：每8-10mL HF添加1-1.2g(NH4)2S2O8；
所述电解抛光腐蚀处理条件为：
抛光电压：45-55V，电解液流量15-25，抛光时间45-55s；
腐蚀电压：20-25V，电解液流量15-25，腐蚀时间3-7s。
4.根据权利要求3所述的工业纯钛TA2的电解抛光腐蚀方法，其特征在于，步骤1)所述的研磨是依次用120#、320#、600#或1000#的耐水砂纸进行研磨，且每一道研磨结束后都要读样品进行清洗，消除上一道工序的残留磨料。
5.根据权利要求3所述的工业纯钛TA2的电解抛光腐蚀方法，其特征在于，经预处理的工业纯钛TA2是将退火态的工业纯钛TA2用牙托粉进行镶嵌然后固化所得。
6.根据权利要求3所述的工业纯钛TA2的电解抛光腐蚀方法，其特征在于，水为蒸馏水。