技术总结
本发明涉及一种基于光谱干涉装置的测量方法，主要解决现有技术中存在的测量精度不足的技术问题，本发明通过采用所述测量系统包括光源，与光源依次连接的扩束准直透镜、起偏器、检偏器、自聚焦透镜、光谱仪及数据处理单元；待测双折射晶体连接于所述起偏器与检偏器之间；所述起偏器用于将经扩束准直透镜输出的平行光起偏为线偏振光；所述起偏器(的偏振轴与待测双折射晶体的任意偏振轴有夹角θ；检偏器与待测双折射晶体的任意偏振轴夹角为45度的技术方案，较好的解决了该问题，可用于双折射晶体厚度测量。
技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：张家港市欧微自动化研发有限公司
文档号码：201710257791
技术研发日：2017.04.19
技术公布日：2017.06.30