技术特征：
技术总结
一种双反射式飞行时间质谱光电子速度成像仪，设有激光溅射离子源、冷却离子阱、飞行时间质谱和负离子光电子速度成像系统；激光溅射离子源用于生成团簇离子，产生的团簇离子进入冷却离子阱囚禁冷却后被加速场垂直加速进入飞行时间质谱，负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测，得中性团簇电子结构的光电子能谱。利用激光溅射离子源生成团簇离子，产生的团簇离子进入线性离子阱囚禁冷却后被加速场垂直加速进入飞行时间质谱，通过质谱探测获得产生团簇离子的强度分布。分析质谱后，选择特定团簇负离子，与脱附激光相互作用，产生中性分子和光电子。利用负离子光电子速度成像系统对出射光电子进行探测，得中性团簇电子结构的光电子能谱。
技术研发人员：唐紫超;王永天;施再发;张将乐;刘方刚;王可
受保护的技术使用者：厦门大学
技术研发日：2017.11.29
技术公布日：2018.02.23