一种血液分析仪液流系统流动室的制作方法

本实用新型涉及光学器件加工技术领域，尤其涉及一种血液分析仪液流系统流动室。

背景技术：

血液分析仪又称全自动血液分析仪（Automated hematology analyzer AHA）、血细胞自动计数仪（Automated blood cell counter，ABCC），是现代临床血液检验常用的检测仪器，能够进行全血细胞的分析及相关项目的检测。血液分析仪中包括光学系统、液流系统、自动上样系统、信号检测传输系统和软件分析系统等。液流系统中的核心部件称为流动室，当血液在一定的压力条件下流入流动室中，激光器发出的激光从流动室垂直穿射后能够呈现出不同颜色，能够利用颜色区分血液的成分含量来分析判断血液病变情况。

流动室通常由石英玻璃材料制成，以前常用的是整体式流动室，流动室内孔尺寸小、精度要求高，其加工难度大，加工时容易变形，导致国内许多厂家都无法批量生产出合格的流动室，大部分的流动室产品都需要从国外进口。

技术实现要素：

为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种精度高、强度好、耐酸碱性能好的血液分析仪液流系统流动室。

本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种血液分析仪液流系统流动室，包括第一抛光基片，所述第一抛光基片上设有两个平行的第二抛光基片、第三抛光基片，所述第二抛光基片和第三抛光基片上设有第四抛光基片，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片之间设有构成流动室内孔的缝隙孔，所述第二抛光基片和第三抛光基片之间预留的距离为缝隙孔的宽度，研磨抛光后的所述第二抛光基片和第三抛光基片的厚度为缝隙孔的高度，所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片通过高温键合连接在一起形成一个整体，所述缝隙孔的两端设有圆形扩孔，所述圆形扩孔中设有与所述缝隙孔相连的过渡锥孔。

所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中每个平面的平面度误差小于λ/8，其中λ为632.8nm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相对面的平行度误差小于0.0005mm；所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片中相邻面的垂直度误差小于0.001mm。

构成流动室内孔的所述缝隙孔尺寸小于0.2x0.2mm。

所述第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10。

本实用新型的有益效果是：

1、通过利用第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温键合形成一个整体的流动室，流动室由四个基片分批光胶键合和抛光研磨加工而成，加工过程精度可控，融合后质量稳定、精度高；

2、第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片都为平板结构，其精度容易加工保证，适合大批稳定生产；

3、通过利用第一抛光基片、第二抛光基片、第三抛光基片和第四抛光基片高温融合采用键合工艺，键合工艺经过不断研究改进，键合融合后的形成整体的流动室精度高、强度好、耐酸碱性能好。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：

图1是本实用新型血液分析仪液流系统流动室的端面示意图；

图2是本实用新型血液分析仪液流系统流动室的剖视示意图。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。

请参阅图1及图2所示，本实用新型血液分析仪液流系统流动室包括第一抛光基片1，所述第一抛光基片1上设有两个平行的第二抛光基片2、第三抛光基片3，所述第二抛光基片2和第三抛光基片3上设有第四抛光基片4，所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4之间设有构成流动室内孔的缝隙孔5，所述第二抛光基片2和第三抛光基片3之间预留的距离为缝隙孔5的宽度，研磨抛光后的所述第二抛光基片2和第三抛光基片2的厚度为缝隙孔5的高度，所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4通过高温键合连接在一起形成一个整体，所述缝隙孔5的两端设有圆形扩孔6，所述圆形扩孔6中设有与所述缝隙孔5相连的过渡锥孔61。

所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4中每个平面的平面度误差小于λ/8，其中λ为632.8nm；所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片2和第四抛光基片4中相对面的平行度误差小于0.0005mm；所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片4中相邻面的垂直度误差小于0.001mm。

构成流动室内孔的所述缝隙孔5尺寸小于0.2x0.2mm。

所述第一抛光基片1、第二抛光基片2、第三抛光基片3和第四抛光基片3表面的划痕和麻点的质量要求为<20-10，其检测标准参考美国军用标准MIL-PRF-13830B。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。