插入所述真空腔的前端，所述离子传输毛细管上设有所述进样阀3，所述真空泵系统与所述真空腔连接，所述真空腔内依次设有所述阵列离子阱质量分析器6和所述离子检测器7。所述真空泵系统为一级真空泵系统52。所述真空腔为一级真空腔42，所述离子传输毛细管2的后端插入所述一级真空腔42，所述阵列离子阱质量分析器6设置在所述一级真空腔42内。离子源I产生的离子在进样阀3开通时，通过离子传输毛细管2直接进入真空腔中的阵列离子阱质量分析器6中进行质量分析，最后被弹射到离子检测器7中被检测。
[0057]与实施例1的不同之处在于:(I)此阵列质谱系统只有一级真空腔42 ; (2)没有导引系统，离子传输毛细管2直接进入真空腔，与阵列离子阱的端盖电极连接。
[0058]本实施例中，进行质谱分析过程如下:请继续参阅图3并结合图4，图4为本发明所述的一种离子进样方法在实施例2中的离子进样时序示意图。如图3和图4所示，离子化阶段开始，第一个进样阀和第三个进样阀开通，分别对第一条离子通道和第三条离子通道进行离子注入，第二个进样阀和第四个进样阀处于关断状态，持续四分之一离子化阶段时间；所述第一个进样阀和第三个进样阀关断的同时，所述第二个进样阀和第四个进样阀开通，分别对第二条离子通道和第四条离子通道进行离子注入，持续四分之一离子化阶段时间；重复一次以上过程；第二个进样阀和第四个进样阀关断，离子化阶段结束。每个进样阀3开通两次，每次开通时间为离子化时间的四分之一，所有通道的开通时间相当于阵列离子阱中两个离子通道在离子化过程中处于完全开通状态，优于传统阵列离子阱系统中四个离子通道同时完全处于开通状态的情况。其他分析阶段所有进样阀处于关断状态。其他阶段的操作方式与实施例1相同，不再赘述。
[0059]实施例3
[0060]请参阅图5，图5为多通道阵列离子阱质谱系统在实施例3中的结构示意图。如图5所示，所述多通道阵列离子阱质谱系统，包括:离子源1、离子传输毛细管2、进样阀3、真空腔、真空泵系统、阵列离子阱质量分析器6和离子检测器7，所述离子传输毛细管2的前端连接所述离子源1，所述离子传输毛细管2的后端插入所述真空腔的前端，所述离子传输毛细管上设有所述进样阀3，所述真空泵系统与所述真空腔连接，所述真空腔内依次设有所述阵列离子阱质量分析器6和所述离子检测器7。所述真空泵系统为一级真空泵系统52。所述真空腔为一级真空腔43，所述离子传输毛细管2的后端插入所述一级真空腔43，所述阵列离子阱质量分析器6设置在所述一级真空腔43内。所述多通道阵列离子阱质谱系统还包括圆筒离子导引10，所述圆筒离子导引10设置在所述一级真空腔43内，所述圆筒离子导引10的前端连接所述离子传输毛细管2，所述圆筒离子导引10的后端连接所述阵列离子阱质量分析器6。离子源I产生的离子在进样阀3开通时，通过离子传输毛细管2进入圆筒导引系统即所述圆筒离子导引10，再进入阵列离子阱质量分析器6中进行质量分析，最后被弹射到离子检测器7中被检测。
[0061]与实施例2—样，均采用一级真空腔42，与实施例2的不同之处在于:采用圆筒导引系统，离子传输毛细管2进入真空腔与圆筒离子导引10连接，传输离子。
[0062]本实施例中，进行质谱分析过程如下:请继续参阅图5，并结合图6，图6为本发明所述的一种离子进样方法在实施例3中的离子进样时序示意图。如图5和图6所示，离子化阶段开始，第一个进样阀开通，第一条离子通道开始注入离子，其他进样阀处于关断状态，时间持续八分之一离子化阶段时间；第一个进样阀关闭，第二个进样阀开通，第二条离子通道开始注入离子，时间持续八分之一离子化阶段时间；第二个进样阀关闭，第三个进样阀开通，第三条离子通道开始注入离子，时间持续八分之一离子化阶段时间；第三个进样阀关闭，第四个进样阀开通，第四条离子通道开始注入离子，时间八分之一离子化阶段时间；重复一次以上过程；离子化阶段结束。整个离子化过程中，每个进样阀3开通两次，所有通道开通的时间相当于阵列离子阱中一个离子通道在离子化阶段中完全处于开通状态，保持真空腔中的气压稳定。其他分析阶段的所有进样阀3处于关闭状态，真空腔中的气压进一步降低，准备进行下一步分析。其他阶段的操作方式与实施例1相同，不再赘述。
[0063]综上所述，本发明公开了一种离子进样方法和多通道阵列离子阱质谱系统，在进样系统中加入阀门，控制离子通道只在离子化进样时开通，其他分析阶段关断，在进样时采用分时轮流开通的方式，逐次开通和关断离子通道，克服阵列系统真空度难以保持的缺陷，稳定真空腔中的气压，提高进样效率，从而提高多通道离子阱质谱系统的分析性能。
[0064]应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
【主权项】
1.一种离子进样方法，其步骤包括: (1)在多通道阵列离子阱的离子通道上设置进样阀，采用分时轮流开通方式即开启离子源与真空腔之间的部分所述进样阀，部分所述离子通道开通； (2)离子通过所述进样阀进入真空腔，完成离子进样过程。
2.根据权利要求1所述的一种离子进样方法，其特征在于，步骤(I)中所述进样阀的个数与所述离子通道数相同，每条离子通道对应一个进样阀。
3.根据权利要求1所述的一种离子进样方法，其特征在于，步骤(I)中所述进样阀的个数为n，所述η大于或等于2。
4.根据权利要求3所述的一种离子进样方法，其特征在于，在离子通过所述进样阀全部进入所述真空腔的过程中，同一时间段所述进样阀的开启个数大于或等于1，所述进样阀的关闭个数大于或等于I。
5.根据权利要求3所述的一种离子进样方法，其特征在于，在离子通过所述进样阀全部进入所述真空腔的过程中，任意所述进样阀的开启次数大于或等于I。
6.根据权利要求3所述的一种离子进样方法，其特征在于，所述η个进样阀的开启时间的总和等于离子通过所述进样阀全部进入所述真空腔中的时间，所述η个进样阀开启的时间均相同。
7.根据权利要求1所述的一种离子进样方法，其特征在于，所述进样阀为电磁阀、夹管阀和气压阀中的一种或几种。
8.多通道阵列离子阱质谱系统，其特征在于，应用于权利要求1-7任意一项所述的离子进样方法，所述多通道阵列离子阱质谱系统包括:离子源、离子传输毛细管、进样阀、真空腔、真空泵系统、阵列离子阱质量分析器和离子检测器，所述离子传输毛细管的前端连接所述离子源，所述离子传输毛细管的后端与所述真空腔连接，所述离子传输毛细管上设有所述进样阀，所述真空泵系统与所述真空腔连接，所述真空腔内依次设有所述阵列离子阱质量分析器和所述离子检测器。
【专利摘要】本发明公开了一种离子进样方法，其步骤包括：在多通道阵列离子阱的离子通道上设置进样阀，采用分时轮流开通方式即开启离子源与真空腔之间的部分所述进样阀，部分所述离子通道开通；离子通过所述进样阀进入真空腔，完成离子进样过程。本发明还公开了多通道阵列离子阱质谱系统，包括离子源、离子传输毛细管、进样阀、真空腔、真空泵系统、阵列离子阱质量分析器和离子检测器，所述离子传输毛细管的前端连接所述离子源，所述离子传输毛细管的后端与真空腔连接，所述离子传输毛细管上设有所述进样阀，所述真空泵系统与所述真空腔连接，所述真空腔内依次设有阵列离子阱质量分析器和离子检测器。该方法和设备可提高进样效率和质谱分辨率。
【IPC分类】G01N27-64, G01N1-28, H01J49-04
【公开号】CN104792856
【申请号】CN201510191534
【发明人】姚如娇, 李晓旭, 李艺, 何洋, 朱勇勇, 钱洁, 苗伟, 张英军
【申请人】苏州大学
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年4月21日