画幅式色散成像光谱装置及其探测方法_2

文档序号:9614661阅读:来源:国知局
单次获取探测场景三维光谱立方体的一个斜切面,该斜切面包含完整的探测场景的二维图像信息,通过系统整体推扫获取探测场景完整的三维光谱立方体。
[0029]实施例2
[0030]本发明画幅式色散成像光谱装置,包括沿光路方向依次放置的前置光学系统1、半透半反镜2、色散元件3、第一成像物镜4、反射狭缝5、第二成像物镜6、面阵探测器7 (市购)和信号处理系统8 ;其中,前置光学系统1包括共光轴依次设置的前置物镜11和准直物镜12,前置成像物镜11的像面和准直物镜12的前焦面重合;反射狭缝5位于第一成像物镜4的后焦面处,面阵探测器7的探测靶面位于第二成像物镜6的后焦面处;所有光学元件相对于基底同轴等高,即相对于光学平台或仪器底座同轴等高。色散元件3为色散棱镜。
[0031]本发明画幅式色散成像光谱装置,光路走向如下:探测场景物点的出射光束经过前置物镜11确定目标视场,消除杂散光进入准直物镜12形成的准直光束后入射到半透半反镜2,其中透射光束第一次通过色散元件3,发生色散;色散光束随后第一次经过第一成像物镜4成像在其后焦面的反射狭缝5上,色散图像的一列图像的光被反射狭缝5反射,第二次经过第一成像物镜4,再次到达色散元件3,发生第二次色散,随后第二次色散的光束第二次入射到半透半透镜2,其中反射光束经过第二成像物镜6后成像在其后焦面的面阵探测器7上,光信号转化为电信号并传到信号处理系统8。
[0032]本发明画幅式色散成像光谱装置及方法,包括以下步骤:
[0033]步骤一:来自探测场景各点的入射光进入前置光学系统1,通过前置成像物镜11成像在其像面上,消除杂散光,随后经过准直物镜12,形成准直光束,以准直光束形式入射到半透半反镜2 ;
[0034]步骤二:通过前置光学系统1的准直光束入射到半透半反镜2,其中透射光束第一次经过色散元件3,发射第一次色散,随后色散光束经过第一成像物镜4成像在其后焦面处的反射狭缝5上面;
[0035]步骤三:反射狭缝5将第一成像物镜4所成的色散图像的一列图像的光束反射,光束第二次经过成像物镜4形成平行光束,然后再次经过色散元件3发生第二次色散,色散后的光束第二次入射到半透半反镜2,其中的反射光束入射到第二成像物镜6。
[0036]步骤四:入射到第二成像物镜6的色散光束成像在其后焦面处的面阵探测器7的靶面上,光信号转化为电信号,进入信号处理系统8,单次获取探测场景三维光谱立方体的一个斜切面,该斜切面包含完整的探测场景的二维图像信息,通过沿垂直于第二成像物镜4的光轴方向平移反射狭缝5,获取探测场景完整的三维光谱立方体。
[0037]结合图2,传统的色散成像光谱仪单次获取的目标场景的一个纵向切面,只能获取探测场景一个维度的图像信息,如图2(a)所示;本发明单次获取探测场景三维光谱立方体的一个斜切面,包含完整的探测场景的二维图像信息,如图2(b)所示。本发明获取的目标光谱图像无需拼接,且空间分辨率不受狭缝宽度的影响。
【主权项】
1.一种画幅式色散成像光谱装置,其特征在于:包括前置光学系统(1)、半透半反镜(2)、色散元件(3)、第一成像物镜(4)、反射狭缝(5)、第二成像物镜(6)、面阵探测器(7)和信号处理系统(8);沿光路方向依次设置前置光学系统(1)、半透半反镜(2)、色散元件(3)、第一成像物镜(4)、反射狭缝(5),前置光学系统(1)包括共光轴依次设置的前置物镜(11)和准直物镜(12),前置成像物镜(11)的像面和准直物镜(12)的前焦面重合;反射狭缝(5)位于第一成像物镜(4)的后焦面处,第二成像物镜(6)位于半透半反镜(2)的第二次反射光路上,面阵探测器(7)的探测靶面位于第二成像物镜(6)的后焦面处,面阵探测器(7)和信号处理系统(8)通过导线连接;所有光学元件相对于基底同轴等高,即相对于光学平台或仪器底座同轴等高;光路走向如下:探测场景物点的出射光束经过前置物镜(11)确定目标视场,消除杂散光进入准直物镜(12)形成的准直光束后入射到半透半反镜(2),其中透射光束第一次通过色散元件(3),发生色散;色散光束随后第一次经过第一成像物镜(4)成像在其后焦面的反射狭缝(5)上,色散图像的一列图像的光被反射狭缝(5)反射,第二次经过第一成像物镜(4),再次到达色散元件(3),发生第二次色散,随后第二次色散的光束第二次入射到半透半透镜(2),其中反射光束经过第二成像物镜(6)后成像在其后焦面的面阵探测器(7)上,光信号转化为电信号并传到信号处理系统(8),单次获取探测场景三维光谱立方体的一个斜切面,该斜切面包含完整的探测场景的二维图像信息,最终获取探测场景完整的三维光谱立方体。2.根据权利要求1所述的画幅式色散成像光谱装置,其特征在于:上述色散元件(3)为透射式色散光栅、反射式色散光栅或色散棱镜。3.根据权利要求1所述的画幅式色散成像光谱装置,其特征在于:上述反射狭缝(5)能够反射成像物镜(4)后焦面上面一列图像的光线,让这一列反射光束返回成像物镜(4)。4.根据权利要求1所述的画幅式色散成像光谱装置,其特征在于:上述信号处理系统(8)通过系统整体推扫或者沿垂直于第二成像物镜(4)的光轴方向平移反射狭缝(5),获取探测场景完整的三维光谱立方体。5.一种基于权利要求1所述的画幅式色散成像光谱装置的成像光谱探测方法,其特征在于,包括以下步骤: 步骤一:来自探测场景各点的入射光进入前置光学系统(1),通过前置成像物镜(11)成像在其像面上,消除杂散光,随后经过准直物镜(12),形成准直光束,以准直光束形式入射到半透半反镜(2); 步骤二:通过前置光学系统(1)的准直光束入射到半透半反镜(2),其中透射光束第一次经过色散元件(3),发射第一次色散,随后色散光束经过第一成像物镜(4)成像在其后焦面处的反射狭缝(5)上面; 步骤三:反射狭缝(5)将第一成像物镜(4)所成的色散图像中的一列图像的光束反射,光束第二次经过成像物镜(4)形成平行光束,然后再次经过色散元件(3)发生第二次色散,色散后的光束第二次入射到半透半反镜(2),其中的反射光束入射到第二成像物镜(6); 步骤四:入射到第二成像物镜¢)的色散光束成像在其后焦面处的面阵探测器(7)的靶面上,光信号转化为电信号,进入信号处理系统(8),单次获取探测场景三维光谱立方体的一个斜切面,该斜切面包含完整的探测场景的二维图像信息,通过系统整体推扫或者沿垂直于第二成像物镜(4)的光轴方向平移反射狭缝(5),获取探测场景完整的三维光谱立 bo U 广广
【专利摘要】本发明公开了一种画幅式色散成像光谱装置及其探测方法,入射光经过前置光学系统后,以平行光形式第一次通过半透半反镜,其中透射光束第一次通过色散元件,发生色散;色散光束随后第一次经过第一成像物镜成像在其后焦面的反射狭缝上;色散图像的一列图像的光被反射狭缝反射,第二次经过第一成像物镜,再次到达色散元件,发生第二次色散,随后二次色散光束沿入射方向第二次通过半透半透镜,反射光束经过第二成像物镜后成像在后焦面的面阵探测器上,光信号转化为电信号并传到信号处理系统,通过系统整体推扫或者平移反射狭缝,可以获取探测场景完整的三维光谱立方体。本发明不需要图像拼接,空间分辨率不受狭缝宽度限制,具有高空间分辨率的优点。
【IPC分类】G01J3/02, G01J3/28
【公开号】CN105371949
【申请号】CN201410385661
【发明人】李建欣, 孟鑫, 孙宇声, 刘德芳, 朱日宏, 郭仁慧, 沈华, 马骏, 陈磊, 何勇
【申请人】南京理工大学
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2014年8月6日
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