常温远红外均匀辐照测量座的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及非制冷红外焦平面摄像机非均匀性校正的测量，特别涉及一种用于在恒温恒湿箱内以及室内常温环境下对非制冷红外焦平面摄像机进行非均匀性校正的测量座。
【背景技术】
[0002]在传统的红外非均匀性校正测量中，需要一至多台温度可设定的面源黑体炉，通常作法是把两台黑体炉分别设定为高、低两个温度值，然后用红外摄像机采集这两个黑体面的辐照反应量，最后用采集的高、低两组数据矩阵计算非均匀性校正系数。如经典的两点非均匀校正法即是采用类似的工艺方法以实现非均匀性校正。
[0003]该传统工艺方法需要至少两台较高精度的面源黑体炉，而且在产品批量生产时，还要求这些黑体炉在生产期间始终处于开机状态；黑体炉也需要周期性地校正，以保证其温度控制的准确性。
[0004]传统非均匀性校正工艺对黑体炉的要求，使得昂贵的黑体炉本身成为了生产工艺中一个易损的关键设备，一旦黑体炉故障则生产就会停止，这就增大了生产成本和生产工艺的复杂性，不利于大批量生产实施。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的主要目的为提供一种结构简单稳定以及具有均匀红外辐照便于对非制冷红外焦平面摄像机进行非均匀性校正的常温远红外均匀辐照测量座。
[0006]本实用新型提供了一种常温远红外均匀辐照测量座，包括内部为空腔的遮风罩以及设置于所述遮风罩内靠近中部位置并紧密连接所述遮风罩空腔内壁的辐射板;所述辐射板为表面具有均匀红外发射率的辐射板。
[0007]进一步地，所述遮风罩与所述辐射板相对的位置设置为开口，并在所述遮风罩侧面顶部设置有一上部开口。
[0008]进一步地，所述遮风罩的截面为未完全闭合的圆型，且侧面为勺型形状。
[0009]进一步地，所述辐射板为两面圆盘式结构;所述辐射板的两面为具有不同红外发射率的均匀红外辐射面。
[0010]进一步地，所述辐射板的下边缘设置有测量辐射板温度的温度传感器。
[0011]进一步地，所述辐射板与所述遮风罩的空腔内壁可拆卸连接。
[0012]进一步地，所述常温远红外均匀辐照测量座还包括固定架，所述固定架设置于所述遮风罩上部开口对立的下端。
[0013]进一步地，所述固定架为上下调节高度的伸缩机构。
[0014]本实用新型提供的常温远红外均匀辐照测量座，具有以下有益效果:
[0015]本实用新型提供的常温远红外均匀辐照测量座，为无功装置，没有供电以及温度控制等要求，结构简单稳定，其可靠性和稳定性均得到了提高，维护成本低；同时该常温远红外均匀辐照测量座造价成本低廉，在大批量生产中可显著降低成本;辐射板的两面具有不同的红外发射率可适用于常温条件下对非制冷红外焦平面摄像机进行非均匀性校正;辐射板温度随着环境温度变化而变化，辐射板带有温度传感器，可实时记录实际测量时的真实温度值;按照流体力学原理设计的遮风罩可有效降低辐射板受到非匀速温差气流的影响，从而在辐射板表面形成一个均匀的红外辐射面;辐射板与遮风罩之间非固定性安装，可以方便地拆卸，以便用红外发射率不同的两个表面分别采集数据；固定架可伸缩调节常温远红外均匀辐照测量座的固定高度。
【附图说明】
[0016]图1是本实用新型一实施例中的常温远红外均匀辐照测量座整体结构示意图；
[0017]图2是本实用新型一实施例中的常温远红外均匀辐照测量座侧面结构示意图；
[0018]图3是本实用新型一实施例中的常温远红外均匀辐照测量座顶面结构示意图；
[0019]图4是本实用新型一实施例中的辐射板结构示意图；
[0020]图5是本实用新型一实施例中的固定架结构示意图。
[0021 ]本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
【具体实施方式】
[0022]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0023]参照图1，为本实用新型一实施例中的常温远红外均匀辐照测量座整体结构示意图。
[0024]本实用新型提供了一种常温远红外均匀辐照测量座，其中包括，内部为空腔的遮风罩10以及设置于上述遮风罩内10靠近中部位置并紧密连接上述遮风罩空腔内壁的辐射板20;上述辐射板20为表面具有均匀红外发射率的辐射板20，该辐射板20提供均匀辐照用于对非制冷红外焦平面摄像机进行非均匀性校正。上述常温远红外均匀辐照测量座结构简单稳定，可降低生产成本以及维护费用。
[0025]上述辐射板20与上述遮风罩10的空腔内壁可拆卸连接。方便拆卸使用不同红外发射率的两个表面，使用简单，维护方便。
[0026]上述遮风罩10上相对上述辐射板20的位置设置开口 11，并在上述遮风罩10的侧面顶部设置有一上部开口 12。在本实施例中，上述开口为未闭合的圆形形状。
[0027]遮风罩10设置有开口 11以及上部开口 12，使得遮风罩10内部可与外界进行热交换，上述辐射板20设置于上述遮风罩10内部，使得遮风罩10可随着外界温度变化而变化，可适用于在恒温恒湿箱中对非制冷红外焦平面摄像机进行非均匀性校正。同时，在工业批量生产中，需要把非制冷红外焦平面摄像机放置在恒温恒湿箱中，并控制恒温箱内部的温度在一个特定范围内周期性变化或者稳定在某个特定的温度值上。当恒温恒湿箱处于温度变化过程中时，其内部是靠温差气流控制测量室里的温度变化。在本实施例中，按流体力学原理设计的遮风罩10可有效降低辐射板10受到恒温恒湿箱内的非匀速温差气流的影响，从而在辐射板10表面形成一个均匀的红外辐射面。
[0028]进一步地，上述常温远红外均匀辐照测量座还包括固定架30