一种用于手表表盘的清洗装置的制作方法

本实用新型涉及清洗装置技术领域，特别涉及一种用于手表表盘的清洗装置。

背景技术：

手表不仅是我们日常工作与生活查看时间的工具，也是我们的一种装饰品。表盘是手表必不可少的一个组成部分，随着人们对手表的要求越来越高，手表也成为了一个时尚品，所以手表表盘表面都会进行图案加工。一般表盘在浇铸成型后需要进行表面的打磨后再根据需要的颜色对表盘表面进行镀膜。手表表盘镀膜之后会有多余的残留的镀膜料，所以必须对手表表盘进行清洗。

目前，表盘的清洗都是采用一直开启水龙头进行清洗，且在操作人员一盘一盘清洗的过程中，其中交替拿取表盘清洗中会存在间隙，但是水龙头一直开启会导致水资源浪费。

技术实现要素：

一种用于手表表盘的清洗装置，具有智能清洗、节约了水资源的优点。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种用于手表表盘的清洗装置，包括清洗框以及安装于清洗框上的喷淋装置，所述喷淋装置上安装有、用于检测表盘并形成检测信号的接近开关传感器以及耦接于所述接近开关传感器以接收检测信号并形成控制信号的控制装置，所述接近开关传感器检测表盘并形成检测信号，所述控制装置根据检测信号控制喷淋装置启闭。

采用上述方案，将表盘放置于清洗框内，接近开关传感器检测到表盘则形成检测信号发送到控制装置，控制装置控制喷淋装置启动，从而对表盘清洗，当表盘取出后，接近开关传感器未检测到接近开关传感器则输出检测信号到控制装置，控制装置控制喷淋装置关闭，通过智能化控制喷淋装置启闭，节省了水资源，防止水资源浪费。

作为优选，所述控制装置包括：控制单元，耦接于所述接近开关传感器以接收检测信号，并输出控制信号；照明单元，耦接于所述控制单元以接收控制信号，并形成照明信号。

采用上述方案，控制单元接收检测信号，且形成控制信号输出到喷淋装置的供电回路与照明单元，根据表盘是否放置于清洗框内再启动喷淋装置清洗，同时照明单元对表盘进行照射，便于操作人员能够观察表盘进而清洗更加干净，且表盘清洗具有针对性，节省水资源。

作为优选，所述接近开关传感器设置有若干个，且若干所述接近开关传感器一同耦接有、用于处理若干个接近开关传感器输出信号的处理单元，处理单元的另一端耦接所述控制单元。

采用上述方案，通过接近开关传感器设置有若干个，且多个接近开关传感器耦接于处理后接控制单元，有利于多个接近开关传感器对表盘的检测地更加准确，通过处理单元只有一个接近开关传感器检测到表盘处理单元都输出高电平，从而控制喷淋装置喷淋，提高了表盘检测的灵敏性。

作为优选，所述控制单元包括三极管以及继电器，所述三极管的基极耦接于所述接近开关传感器；所述三极管的集电极耦接于所述继电器的线圈后连接电源；所述继电器的常开触点耦接于所述喷淋装置的供电回路；所述三极管的发射极接地。

采用上述方案，当接近开关传感器检测到表盘时输出高电平，三极管基极接高电平所以三极管导通，继电器接通开关喷淋装置启动，当接近开关传感器未检测到表盘时，三极管截至则继电器断开喷淋装置关闭，喷淋装置控制简易、方便。

作为优选，所述照明单元为LED灯，LED灯串联于喷淋装置的供电回路。

采用上述方案，通过LED灯串联喷淋装置的供电回路，当喷淋装置启动时LED灯才点亮照射表盘清洗，有利于操作人员能够清洗时才需要观察表盘清洗状况，不清洗时无须点亮，能够节省LED灯的耗电量。

作为优选，所述喷淋装置包括：安装于所述清洗框内壁上的水管；安装于水管上的喷头以及驱动水管与喷头进行喷水的增压泵。

采用上述方案，通过当增压泵通电后抽取水运送到水管上，再通过水管运送水到喷头上对表盘进行喷洗，且水管安装于清洗框内壁，从多面对表盘进行清洗，使表盘清洗更加干净。

作为优选，所述清洗框的内底面为向中心倾斜，且倾斜中心处开设有漏孔。

采用上述方案，当表盘在清洗的过程，清洗后的污水将从清洗框的倾斜底面流到漏孔处，再从漏孔处流出，便于清洗后污水的排放。

作为优选，所述清洗框的底面上安装有、用于过滤杂质的过滤框，且所述过滤框位于漏孔下方。

采用上述方案，当表盘清洗的过程也会将表盘上的镀膜料冲洗流出，但是镀膜料会造成土壤和水污染，所以通过过滤网将镀膜料过滤掉，再一起将过滤掉的镀膜料进行集中处理。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

1、通过接近开关传感器检测有无表盘且形成检测信号输出到控制装置，控制装置以接收检测信号从而控制喷淋装置启闭，使表盘清洗智能化，节省了水资源；

2、通过三极管控制继电器的开关启闭，从而控制喷淋装置启闭，使表盘智能化清洗简易操作，容易实现；

3、照明单元为LED灯，并耦接于喷淋装置的供电回路，便于再开启喷淋装置的同时LED灯点亮照射到表盘，便于操作人员观察表盘的清洗状况，使表盘请洗得更加干净。

附图说明

图1为本实施例的结构示意图；

图2为本实施例的结构示意图；

图3为本实施例的电路原理图。

图中：1、清洗框；11、漏孔；12、过滤框；2、喷淋装置；21、水管；22、喷头；23、增压泵；3、接近开关传感器；4、控制装置；41、控制单元；42、照明单元;43、处理单元。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。

实施例：一种用于手表表盘的清洗装置，如图1、2所示，包括清洗框1，清洗框1上安装有、用于表盘镀膜后清洗的喷淋装置2，且喷淋装置2上固定安装有接近开关传感器3，本实施例中所采用的接近开关传感器3型号为 LJ18A3-8-Z/A。接近开关传感器3耦接于喷淋装置2并检测喷淋装置2前方有无表盘，由于表盘与承载表盘的放置篮都为金属材质，所以接近开关传感器3检测有无表盘并形成检测信号。接近开关传感器3上耦接有控制装置4，控制装置4接收检测信号并形成控制信号，控制装置4根据检测信号控制喷淋装置2的启闭。通过控制装置4根据接近开关传感器3检测有无表盘从而驱动喷淋装置2启动或关闭，使表盘进行清洗时能节省水资源，为该城市缺水贡献一份力。

喷淋装置2包括：水管21、喷头22以及增压泵23，水管21安装于清洗框1的内侧壁上，且另一根水管21安装于清洗框1上方，且水管21上安装有对表盘喷射清洗的喷头22，增压泵23安装于水管21远离喷头22的一端。通过增压泵23抽取水到水管21，再从清洗框1的三面上的喷头22对表盘进行喷射清洗，便于能够对表盘从多面进行喷射清洗，清洗的更加干净。

清洗框1的内底面向中心倾斜，且清洗框1的倾斜的中心处开设有漏孔11，且清洗框1位于工厂排污水槽下方，便于在清洗表盘的过程中，清洗后的污水能够通过倾斜面流到倾斜面的最低端，并从漏孔11流出清洗框1外，污水从排污槽排出。清洗框1的底部上安装有过滤框12，且过滤框12位于漏孔11下方，有利于过滤点清洗表盘残留的镀膜料，防止镀膜料通过漏孔11流出，造成水污染，且镀膜料通过过滤框12过滤在过滤框12内再一同处理，解决了单独打扫清洗框1的繁琐。

如图2、3所示，控制装置4包括：控制单元41以及照明单元42，控制单元41耦接于接近开关传感器3以接收检测信号，并形成控制信号；通过控制单元41根据检测信号启动或关闭喷淋装置2，同时，照明单元42耦接于控制单元41以接收控制信号，并形成照明信号，照明单元42根据控制信号从而照射表盘，便于表盘清洗干净。接近开关传感器设置有若干个，在本实施例中设置有4个，若干个接近开关传感器3一同耦接有处理单元43，处理单元43另一端耦接控制单元41，处理单元43在本实施例中为MCU处理器,且MUC处理器为74LS32芯片，有利于任何一个接近开关传感器3检测到表盘后控制单元42都能够控制喷淋装置2启动对表盘喷淋清洗，提升了表盘检测的灵敏性。

控制单元41包括三极管Q以及继电器KM，三极管Q的基极耦接于接近开关传感器3，三极管Q的集电极耦接于继电器KM的线圈后连接电源，且三极管Q的发射极接地，继电器KM的常开触点耦接于喷淋装置2中增压泵23的供电回路。当接近开关传感器3检测到表盘时会输出高电平，未检测到表盘时将输出低电平，所以三极管Q基极通高电平时导通，继电器KM开关闭合，则增压泵23启动控制喷淋装置2对表盘喷淋清洗。当接近开关传感器3未检测到表盘时输出低电，则三极管Q截至，所以延时单元42截至，则喷淋装置2不启动。

照明单元42为LED灯，LED灯耦接于增压泵23的供电回路，增压泵23启动时LED灯同时点亮照射表盘，有利于操作人员观察表盘的清洗状况，使表盘清洗更加干净。

大致原理如下所述，当表盘通过承载台一起放置与喷淋装置2前方，接近开关传感器3检测到金属则输出高电平，所以控制单元41中的三极管Q导通，则增压泵23导通控制喷头22对表盘喷水，同时LED灯点亮照射表盘，便于操作人员观察表盘清洗装置。当表盘移出喷淋装置2一边时，接近开关传感器3未检测到表盘时，三极管Q截至，增压泵23不导通，且LED灯没有点亮，所以喷淋装置2关闭。在表盘清洗的过程中，清洗过的污水沿清洗框1的倾斜面流到漏孔11处，且沿漏孔11流出清洗框1外，同时镀膜料沿漏孔11流到过滤框12后，过滤框12将镀膜料过滤在过滤框12上再一起处理。整个手表表盘清洗智能化，节约水资源。