触摸感应元件及其制作方法与流程

本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触摸感应元件及其制作方法。

背景技术：

在形成触摸屏的触摸感应元件时，通常先在提供的基底的一表面形成ITO导电层，其中，基底包括中部的可视区以及位于可视区外侧周边的边缘区。再对ITO导电层进行处理，在基底的可视区形成具有预设导电图案的透明导电膜。然后在基底的非可视区形成与透明导电膜电连接的银浆导线。在测试过程中，发现相间隔的相邻两根银浆导线容易导通，造成绝缘下降乃至短路，进而影响产品的性能。

技术实现要素：

基于此，有必要提供一种能有效避免导线导通的触摸感应元件及其制作方法。

一种触摸感应元件，包括：

基底，包括中部的可视区以及位于所述可视区外侧的边缘区，所述基底具有相对的第一表面及第二表面；

透明导电膜，设于所述第一表面上，并位于所述可视区上，用于确定触摸点坐标；

引线，设于所述第一表面上，并位于所述边缘区上，且与所述透明导电膜电连接；以及

感光绝缘层，设于所述第一表面上，并位于所述边缘区上，并覆盖于所述引线上。

在上述触摸感应元件中，通过在第一表面上增设感光绝缘层以覆盖引线，从而能避免水汽渗入引线中，进而能较好的保护引线，从而避免相邻两根引线导通，进而提高了触摸屏的生产良率。而且形成感光绝缘层的材料具有感光性 能，从而可以通过使用掩模板及光阻将一定的图形转移至感光层上，再通曝光及显影处理，即可以得到感光绝缘层。整个制程工艺简单，适合量产化作业。

在其中一个实施例中，所述感光绝缘层为感光隔热绝缘层。

在其中一个实施例中，所述感光绝缘层为透明感光隔热绝缘层。

在其中一个实施例中，所述感光绝缘层为碱性透明感光隔热绝缘层。

在其中一个实施例中，所述感光绝缘层的透光率大于91％，雾度小于5％，反射率小于5％。

在其中一个实施例中，所述引线为感光银浆线。

在其中一个实施例中，所述感光绝缘层的厚度大于所述引线的厚度，所述引线的厚度为0.003～0.005毫米，所述感光绝缘层的厚度为0.005～0.015毫米。

在其中一个实施例中，所述感光绝缘层的厚度为0.008毫米。

在其中一个实施例中，所述第一表面具有绑定部及功能部，所述绑定部及所述功能部均位于所述边缘区上；

所述透明导电膜包括多条间隔排布的触控电极，所述引线的数目与所述触控电极的数目相同，且每一引线的一端与一触控电极电连接，另一端汇集至所述绑定部；

所述感光绝缘层设于所述功能部上，且所述感光绝缘层的形状与多条所述引线位于所述功能部上的部分确定的图形的形状相似。

一种触摸感应元件的制备方法，包括如下步骤：

提供待加工件，所述待加工件包括基底、透明导电膜及引线，所述基底包括中部的可视区以及位于所述可视区外侧的边缘区，所述基底具有相对的第一表面及第二表面，所述第一表面具有位于所述边缘区上的绑定部及功能部；所述透明导电膜设于所述第一表面上，并位于所述可视区上；所述引线设于所述功能部上，且一端与所述透明导电膜电连接，另一端汇集至所述绑定部；

在所述待加工件具有所述透明导电膜及所述引线的一侧形成感光绝缘基质，所述感光绝缘基质覆盖所述第一表面；以及

对所述感光绝缘基质依次进行曝光及显影处理，得到感光绝缘层，所述感光绝缘层位于所述功能部上，且所述感光绝缘层的形状与所述引线位于所述功 能部上的部分确定的图形的形状相似。

附图说明

图1为一实施方式的触摸感应元件的结构示意图；

图2为图1中的触摸感应元件无感光绝缘层时的结构示意图；

图3为在图2上增设感光绝缘基质后的剖面图；

图4为图1的剖面图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对触摸感应元件及其制作方法进行进一步说明。

如图1及图2所示，一实施方式的触摸感应元件10。该触摸感应元件10包括基底100、透明导电膜200、引线300及感光绝缘层400。

基底100包括中部的可视区110以及位于可视区110外侧的边缘区120。基底100具有相对的第一表面130及第二表面(图未示)。其中，第一表面130具有绑定部132及功能部134，绑定部132及功能部134均位于边缘区120上。具体的，在本实施方式中，基底100为聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)膜。在其他实施方式中，基底100可以为玻璃板。

透明导电膜200用于确定触摸点的坐标。透明导电膜200设于第一表面130上，并位于可视区110上。具体的，在本实施方式中，透明导电膜200包括多条间隔排布的触控电极210。透明导电膜200为氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)膜。

引线300设于第一表面130上，并位于边缘区120上，且与透明导电膜200电连接。具体的，在本实施方式中，引线300的数目为多条，且与触控电极210的数目相同，多条引线300相互间隔。每一引线300的一端与一触控电极210电连接，另一端汇集至绑定部132。从而可以在绑定部132处通过柔性电路板与外部电路连通。

感光绝缘层400设于第一表面130上，并位于边缘区120上，并覆盖于引 线300上。需要说明的是，感光绝缘层400是指其具有绝缘性能以及形成感光绝缘层400的材料具有感光性能。

具体的，在本实施方式中，感光绝缘层400设于功能部134上，且感光绝缘层400的形状与多条引线300位于功能部134上的部分确定的图形的形状相似。也即感光绝缘层400只覆盖位于功能部134上的引线300，而不覆盖透明导电膜200、位于绑定部132上的引线300以及没有引线300的功能部134。

感光绝缘层400的形状与多条引线300位于功能部134上的部分确定的图形的形状相似，而不是使感光绝缘层400覆盖整个功能部134，也即感光绝缘层400的面积小于功能部134的面积，从而在确保感光绝缘层400能覆盖引线300的同时使用面积尽可能小的感光绝缘层400，从而可以降低位于边缘区120上的感光绝缘层400对整个触摸感应元件10的光学效果的影响。可以理解，在其他实施方式中，感光绝缘层400也可以覆盖整个功能部134。

在对传统的触摸屏进行出厂前的各项测试时，发现相间隔的相邻两根银浆导线容易导通，造成绝缘下降乃至短路。究其原因发现，引线300通常为银浆线，其存在银迁移现象。其中，银迁移现象是指在存在直流电压梯度的潮湿环境中，水分子渗入含银导体表面，导致水分子电解形成氢离子和氢氧根离子，银在电场及氢氧根离子的作用下离解产生银离子，并产生一系列可逆反应，银离子的迁移会造成无电气连接的导体间形成旁路，造成绝缘下降乃至短路。

在上述触摸感应元件10中，通过在第一表面130上增设感光绝缘层400以覆盖引线300，从而能避免水汽渗入引线300中，进而能较好的保护引线300，从而避免相邻两根引线300导通，进而提高了触摸屏的生产良率。而且形成感光绝缘层400的材料具有感光性能，从而可以通过使用掩模板及光阻将一定的图形(在本实施方式中，该图形与引线300确定的图形相似)转移至感光层上，再通曝光及显影处理，即可以得到感光绝缘层400。整个制程工艺简单，适合量产化作业。

进一步，在本实施方式中，感光绝缘层400为感光隔热绝缘层。需要说明的是，感光隔热绝缘层是指其具有隔热性能(其隔热性能确保触摸感应元件10通过出厂前的老化测试即可)、绝缘性能，以及形成感光绝缘层400的材料具有 感光性能。感光绝缘层400具有绝热性能，从而可以避免在老化试验中，感光绝缘层400因长时间受热而失效的问题，从而具有较长的使用寿命。

进一步，在本实施方式中，感光绝缘层400为透明感光隔热绝缘层。需要说明的是，透明感光隔热绝缘层是指其具有透光性。相对于形成于引线300上的油墨层(不透光)，其能进一步降低位于边缘区120上的感光绝缘层400对整个触摸感应元件10的光学效果的影响。

进一步，在本实施方式中，感光绝缘层400为碱性透明感光隔热绝缘层。需要说明的是，透明感光隔热绝缘层是指形成感光绝缘层400的材料呈碱性。从而在采用曝光显影的方式形成感光绝缘层400时，可以采用碱性显影液。

感光绝缘层400的透光率大于91％，雾度小于5％，反射率小于5％。也即感光绝缘层400具有高透光性、低雾度及低反射等优点，从而使得上述触摸感应元件10具有更好的光学效果。

具体的，在本实施方式中，感光绝缘层400为碱性可加工的透明感光胶片(Transparent Photosensitive Film，TPF)。TPF的供应商为日立化成(Hitachi Chemical Co.,Ltd.)，货号为Raycast MS-5532series。

进一步，如图3及图4所示，在本实施方式中，感光绝缘层400的厚度d大于引线300的厚度。引线300的厚度为0.003～0.005毫米，感光绝缘层400的厚度d为0.005～0.015毫米。优选的，感光绝缘层400的厚度d为0.008毫米。需要说明的是，在本实施方式中，感光绝缘层400的厚度d是指第一表面130与感光绝缘层400远离第一表面130的一侧之间的厚度。

由于相邻两引线300之间存在间隙，部分感光绝缘层400直接与第一表面130接触，从而夹于相邻两引线300之间。也即感光绝缘层400与基底100配合将引线300包裹起来。

进一步，在本实施方式中，引线300为感光银浆线。需要说明的是，形成引线300的材料具有感光性能。从而可以通过使用掩模板及光阻将一定的图形转移至感光银浆块上，再依次通过曝光及显影处理，即可以得到引线300。整个制程工艺简单，适合量产化作业。可以理解，在其他实施方式中，形成引线300的材料也可以不具有感光性，此时可以通过丝网印刷等其他的方式形成引线 300。

在本实施方式中，还提供一种触摸感应元件的制作方法，包括如下步骤：

步骤S510，提供的基底，基底包括中部的可视区以及位于可视区外侧的边缘区，基底具有相对的第一表面及第二表面，第一表面具有位于边缘区上的绑定部及功能部。

步骤S520，在基底的第一表面形成透明导电层，并对透明导电层进行图案化处理，在可视区形成具有预设导电图案的透明导电膜。

在本实施方式中，采用磁控溅射的方式在基底上形成ITO层，通过掩模板及光阻将预设导电图案转移至ITO层上，再通过依次通过曝光及显影处理，得到具有预设导电图案的透明导电膜。

具体的，在ITO层上涂覆负型光阻；使光线透过具有与预设导电图案相同的掩模板并对负型光阻进行光照(负型光阻被光照射的部分不会被显影液去除，没有被光照射的部分会溶解在显影液中)；采用弱碱性的显影液(如碳酸钾溶液)对负型光阻进行显影处理，除去负型光阻没有被光照射的部分；采用酸性蚀刻液(如盐酸溶液)对ITO层进行蚀刻，除去没有被负型光阻覆盖的ITO；再采用碱性剥离液(如氢氧化钾溶液)除去负型光阻被光照射的部分，从而得到具有预设导电图案的透明导电膜。

当在ITO层上涂覆正型光阻时，使光线透过具有与预设导电图案互补的掩模板并对正型光阻进行光照(正型光阻被光照射的部分会被显影液去除，没有被光照射的部分不会溶解在显影液中)，再依次采用显影液、蚀刻液及剥离液进行显影、蚀刻及剥离处理。

步骤S530，在基底的第一表面的功能部形成引线，且引线一端与透明导电膜电连接，另一端汇集至绑定部。

具体的，在本实施方式中，在基底的第一表面的边缘区形成感光银块，再依次通过曝光及显影，得感光银浆线。在其他实施方式中，可以采用丝网印刷的方式形成银浆线。步骤S530中的曝光及显影处理原理与步骤S520中的曝光及显影处理原理相同，这里不再介绍。

在完成步骤S510、步骤S520及步骤S530后，得到待加工件，也即图2所 示产品。也即在本实施方式中，生产待加工件。可以理解，在其他实施方式中，可以直接购买待加工件，此时步骤S510、步骤S520及步骤S530可以省略。

步骤S540，在基底具有透明导电膜及引线的一侧形成感光绝缘基质，感光绝缘基质覆盖第一表面，并对感光绝缘基质依次进行曝光及显影处理，得到感光绝缘层，其中，感光绝缘层位于功能部上，且感光绝缘层的形状与引线位于功能部上的部分确定的图形的形状相似。

需要说明的是，感光绝缘基质覆盖整个第一表面，也即感光绝缘基质覆盖可视区及边缘区。

具体的，在本实施方式中，采用压印的方式将薄膜状的感光绝缘基质设于第一表面上。在其他实施方式中，也可以采用涂覆的方式在第一表面上形成感光绝缘基质。步骤S540中的曝光及显影处理原理与步骤S520中的曝光及显影处理原理相同，这里不再介绍。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。