一种判定线性制程不均匀的方法及装置与流程

本发明实施例涉及半导体检测技术领域，尤其涉及一种判定线性制程不均匀的方法及装置。

背景技术：

半导体行业中，在面板制程中，所述面板例如amoled(activematrixorganiclightemittingdiode，有源矩阵有机发光二极体)或者tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)，线性制程不均匀检测是一个比较重要的环节，所述线性制程不均匀具体可以是指面板显示亮度不均匀或者面板有各种痕迹的现象。

目前线性制程不均匀检测主要是通过人眼目视进行检测，这种检测方式主观性强，误判、漏判风险高，且效率低，更无法量化看到的现象。或者通过自动光学检查机进行检测，但是通过自动光学检查机进行检测的方式会因光学噪声干扰而造成检测失效。

技术实现要素：

本发明实施例提供了一种判定线性制程不均匀的方法及装置，提高了线性制程不均匀判定的准确度。

第一方面，本发明实施例提供了一种判定线性制程不均匀的方法，所述方法包括：

获取检测对象的图像；

基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域；

根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度；

基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉；

对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定。

进一步地，所述基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域，包括：

对所述图像进行二值化处理；

统计设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值；

通过将所述比值与阈值进行比较确定所述图像的不均匀区域。

进一步地，所述根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度，包括：

根据预设检测方向从所述不均匀区域中确定一条沿所述特定方向的直线；

计算所述直线与所述预设检测方向之间的夹角；

将所述夹角作为所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度。

进一步地，所述预设检测方向包括x方向和y方向；

当所述预设检测方向为x方向时，所述特定方向为y方向；

当所述预设检测方向为y方向时，所述特定方向为x方向。

进一步地，所述对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定，包括：

统计所述未过滤掉的不均匀区域中黑色像素点数量与白色像素点数量的比值；

根据所述比值进行不均匀判定。

进一步地，所述方法还包括：

根据所述未过滤掉的不均匀区域的不均匀判定结果进行制程异常判断。

第二方面，本发明实施例还提供了一种判定线性制程不均匀的装置，所述装置包括：

获取模块，用于获取检测对象的图像；

识别模块，用于基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域；

计算模块，用于根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度；

过滤模块，用于基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉；

判定模块，用于对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定。

进一步地，所述识别模块包括：

处理单元，用于对所述图像进行二值化处理；

统计单元，用于统计设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值；

识别单元，用于通过将所述比值与阈值进行比较确定所述图像的不均匀区域。

进一步地，所述计算模块包括：

确定单元，用于根据预设检测方向从所述不均匀区域中确定一条沿所述特定方向的直线；

计算单元，用于计算所述直线与所述预设检测方向之间的夹角，并将所述夹角作为所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度。

进一步地，所述预设检测方向包括x方向和y方向；

当所述预设检测方向为x方向时，所述特定方向为y方向；

当所述预设检测方向为y方向时，所述特定方向为x方向；

所述装置还包括：

制程异常判断模块，用于根据所述未过滤掉的不均匀区域的不均匀判定结果进行制程异常判断。

本发明实施例提供的一种判定线性制程不均匀的方法，通过获取检测对象的图像；基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域；根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度；基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉，对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定的技术手段，提高了线性制程不均匀判定的准确度。

附图说明

图1是本发明实施例一提供的一种判定线性制程不均匀的方法流程示意图；

图2是本发明实施例一提供的一种基于线性偏移角度以及设定过滤尺寸确定过滤区域的结构展示示意图；

图3是本发明实施例二提供的一种判定线性制程不均匀的方法流程示意图；

图4是本发明实施例三提供的一种判定线性制程不均匀的装置结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项步骤描述成顺序的处理，但是其中的许多步骤可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项步骤的顺序可以被重新安排。当其步骤完成时所述处理可以被终止，但是还可以具有未包括在附图中的附加步骤。所述处理可以对应于方法、函数、规程、子例程、子程序等等。

实施例一

图1为本发明实施例一提供的一种判定线性制程不均匀的方法流程示意图，该方法可适用于在半导体显示面板的制程中对线性制程不均匀进行判定的情况，该方法可以由判定线性制程不均匀的装置执行，所述装置可以通过软件和/或硬件的方式实现。具体参见图1所示，该方法具体包括如下步骤：

步骤110、获取检测对象的图像。

其中，所述检测对象可以是显示面板，例如amoled或者tft。获取检测对象的图像可以通过ccd(chargecoupleddevice，电荷耦合器件)相机对检测对象进行持续扫描获得，例如假设检测对象为amoled，amoled保持固定位置不动，ccd相机以合适的角度并保持一定的移动速度对amoled进行持续拍摄，获得多张图像；所述角度以及移动速度以拍摄的图像清晰度满足要求为基准进行调节。

步骤120、基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域。

具体的，识别所述检测对象的不均匀区域可以通过对检测对象的图像进行特征提取，通过提取的特征进一步识别所述检测对象的不均匀区域；或者将所述图像与标准图像进行比对，与标准图像不相同的区域被认为是不均匀区域，所述标准图像与所述图像是来自同一规格的检测对象，所述标准图像对应的检测对象不存在不均匀区域。还可以通过图像的信噪比识别不均匀区域，或者首先通过对所述图像进行二值化处理，然后通过统计黑色像素点数量与白色像素点数量的比值去识别检测对象的不均匀区域，具体可以参见实施例二所述。

步骤130、根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度。

其中，所述预设检测方向包括x方向和y方向；

当所述预设检测方向为x方向时，所述特定方向为y方向；

当所述预设检测方向为y方向时，所述特定方向为x方向。

示例性地，根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度，包括：

根据预设检测方向从所述不均匀区域中确定一条沿所述特定方向的直线；

计算所述直线与所述预设检测方向之间的夹角；

将所述夹角作为所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度。

假设所述预设检测方向为x方向，则所述特定方向为y方向，具体可以参见图2所示的基于线性偏移角度以及设定过滤尺寸确定过滤区域的结构展示示意图。所述确定一条沿特定方向的直线可以通过找黑色像素点的方式实现。所述过滤尺寸可以由工作人员进行设定。

步骤140、基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉。

将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉的目的是为了避免横向(x方向)和纵向(y方向)的线性不均匀混在一起而造成误判的情况，通过将一个方向上不均匀区域过滤掉，提高了对剩余的不均匀区域进行不均匀判定的准确度。

同时，在半导体制程领域中，一件成品通常需要经过很多工艺过程，例如刻蚀或者ela(excimerlaserannealing，准分子激光退火)，每个工艺过程可能会对产品在哪个方向上产生不均匀影响，相关技术人员是可以预料的。因此，通过将特定方向上不均匀区域过滤掉，依据剩余的未过滤掉的区域的不均匀判定结果可以追溯及分辨具体是哪个制程产生的异常，同时还可以避免前制程或者非监控制程造成的线性不均匀误判的情况，进而降低了前制程或非监控制程的线性不均匀影响造成的拦检难度。所述前制程具体指进行线性制程不均匀判定时产品已经经历过的工艺制程，例如完成一件成品共需要经过工艺1-工艺2-工艺3，三个工艺过程，在进行完工艺2时对产品进行不均匀判定，则所述前制程具体指工艺1和工艺2。所述非监控制程指一些对下一工艺制程不具有关键影响的制程，例如ccd扫描过程中产生的光学噪声，在其获得的图像上也会有体现，造成图像上存在生产制程以外的异常，此类异常并非生产所致，而且对下一生产制程也不会造成工艺上的影响，并不需要监控，也不希望出现在扫描图像上。又例如，面板经过多道制程后，可能存在a和b两种异常，但是仅异常b会对下一制程产生影响，此时导致异常a的制程也是非监控制程。

步骤150、对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定。

对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定的方法可以参见步骤120的解释说明，同时，实施例二中也给出了一种具体实现方式。

本实施例提供的一种判定线性制程不均匀的方法，通过根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度，并将基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉，最后对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定，避免了横向(x方向)和纵向(y方向)的线性不均匀混在一起而造成误判的情况，同时提高了对剩余的不均匀区域进行不均匀判定的准确度，且依据剩余的未过滤掉的区域的不均匀判定结果可以追溯及分辨具体是哪个制程产生的异常，同时还实现了避免前制程或者非监控制程造成的线性不均匀误判的情况，进而降低了前制程或非监控制程的线性不均匀影响造成的拦检难度。

进一步地，在上述实施例技术方案的基础上所述方法还包括：

根据所述未过滤掉的不均匀区域的不均匀判定结果进行制程异常判断。

实施例二

图3为本发明实施例二提供的一种判定线性制程不均匀的方法流程示意图，在实施例一的基础上，本实施例对“步骤120、所述基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域”进行了进一步优化，优化的好处是可以比较准确地识别所述检测对象的不均匀区域。具体参见图3所示，该方法具体包括如下：

步骤310、获取检测对象的图像。

步骤320、对所述图像进行二值化处理。

步骤330、统计设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值。

其中，所述设定面积是从检测对象的图像中依次截取的。假设线性均匀状态下设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值为1/1，通过统计得到的比值为2/3，则可以得出当前设定的面积区域为不均匀区域。

步骤340、通过将所述比值与阈值进行比较确定所述图像的不均匀区域。

其中，所述阈值为线性均匀状态下设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值。

步骤350、根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度。

步骤360、基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉。

步骤370、对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定。

示例性地，所述对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定，包括：

统计所述未过滤掉的不均匀区域中黑色像素点数量与白色像素点数量的比值；

根据所述比值进行不均匀判定。

本实施例提供的一种判定线性制程不均匀的方法，在实施例一的基础上，在基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域的过程中，首先通过对所述图像进行二值化处理，然后统计设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值，通过将所述比值与阈值进行比较确定所述图像的不均匀区域，实现了比较准确地识别所述检测对象的不均匀区域的目的。

实施例三

图4为本发明实施例三提供的一种判定线性制程不均匀的装置结构示意图，所述装置包括：获取模块410，识别模块420，计算模块430，过滤模块440和判定模块450；

其中，获取模块410，用于获取检测对象的图像；识别模块420，用于基于所述图像识别所述检测对象的不均匀区域；计算模块430，用于根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度；过滤模块440，用于基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉；判定模块450，用于对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定。

进一步地，识别模块420包括：

处理单元，用于对所述图像进行二值化处理；

统计单元，用于统计设定面积内黑色像素点数量与白色像素点数量的比值；

识别单元，用于通过将所述比值与阈值进行比较确定所述图像的不均匀区域。

进一步地，计算模块430包括：

确定单元，用于根据预设检测方向从所述不均匀区域中确定一条沿所述特定方向的直线；

计算单元，用于计算所述直线与所述预设检测方向之间的夹角，并将所述夹角作为所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度。

进一步地，所述预设检测方向包括x方向和y方向；

当所述预设检测方向为x方向时，所述特定方向为y方向；

当所述预设检测方向为y方向时，所述特定方向为x方向；

所述装置还包括：

制程异常判断模块，用于根据所述未过滤掉的不均匀区域的不均匀判定结果进行制程异常判断。

本实施例提供的一种判定线性制程不均匀的装置，通过根据预设检测方向计算所述不均匀区域特定方向上的线性偏移角度，并将基于所述线性偏移角度以及设定过滤尺寸将所述特定方向上的不均匀区域过滤掉，最后对未过滤掉的不均匀区域进行不均匀判定，避免了横向(x方向)和纵向(y方向)的线性不均匀混在一起而造成误判的情况，同时提高了对剩余的不均匀区域进行不均匀判定的准确度，且依据剩余的未过滤掉的区域的不均匀判定结果可以追溯及分辨具体是哪个制程产生的异常，同时还实现了避免前制程或者非监控制程造成的线性不均匀误判的情况，进而降低了前制程或非监控制程的线性不均匀影响造成的拦检难度。

上述装置可执行本发明任意实施例所提供的方法，具备执行方法相应的功能模块和有益效果。

本领域技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一个设备(可以是单片机，芯片等)或处理器(processor)执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：u盘、移动硬盘、只读存储器(rom，read-onlymemory)、随机存取存储器(ram，randomaccessmemory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。