触控装置的制作方法

本发明涉及电子电机领域，尤其涉及一种触控装置。

背景技术：

传统的触控面板，其具有触控层、以及作为显示功能的阵列电极及共用电极，由于在面板四周与面板中央电极的布局不相同，容易造成电场不均。因此，在信号传送时，容易有噪声产生。

这些现象，尤其在触控面板的主动区(显示区)的周边特别明显，噪声较大，而干扰到触控的灵敏度。

特别在使用触控笔操作时，这些噪声会导致明显的灵敏度失效，而造成触控操作上的不便。

技术实现要素：

有鉴于此，在此提供一种触控装置。触控装置包含阵列基板、显示介质层、滤光基板、触控电极层、以及遮蔽电极层。显示介质层位于阵列基板上。滤光基板位于显示介质层上，对应于阵列基板，滤光基板定义出主动区及周边区，周边区环绕主动区。触控电极层位于滤光基板上。遮蔽电极层，位于滤光基板与显示介质层之间，且遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影是位于周边区中，并围绕主动区。

在一些实施例中，遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影与主动区之间的间距至少一像素。进一步地，在一些实施例中，间距为30至700μm。

在一些实施例中，遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影与滤光基板的边缘之间为第一间距，阵列基板包含下基板及阵列电极层，阵列电极层位于下基板及显示介质层之间，阵列电极层至下基板的垂直投影至边缘的距离为第二间距，第一间距小于第二间距。进一步地，在一些实施例中，遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影与滤光基板的边缘切齐。在另一些实施例中，触控电极层至滤光基板边缘的距离为第三间距，第一间距小于第三间距。

在一些实施例中，滤光基板包含上基板及平坦层，平坦层位于上基板及显示介质层之间，且遮蔽电极层位于平坦层与显示介质层之间。进一步地，阵列基板包含下基板及阵列电极层，阵列电极层位于下基板及显示介质层之间，遮蔽电极层电性连接至阵列电极层中的接地电极或共用电极。

在一些实施例中，滤光基板包含上基板及平坦层，平坦层位于上基板及显示介质层之间，且遮蔽电极层位于上基板及平坦层之间。

在一些实施例中，遮蔽电极层包含第一侧边、第二侧边、第三侧边及第四侧边，第一侧边位于第二侧边的相对侧，第三侧边位于第四侧边的相对侧，且第三侧边及第四侧边分别连接第一侧边及第二侧边。进一步地，在一些实施例中，第一侧边、第二侧边、第三侧边及第四侧边中至少两个的宽度不相同。

在一些实施例中，遮蔽电极为铟锡氧化物(indiumtinoxide，ito)或金属。在一些实施例中，遮蔽电极层为实心结构。而在另一些实施例中，遮蔽电极层包含多个第一狭缝。

进一步地，在一些实施例中，阵列基板包含下基板及阵列电极层，阵列电极层位于下基板及显示介质层之间。更进一步地，在一些实施例中，阵列电极层包含多个第二狭缝，且第二狭缝的形状与第一狭缝的形状相同。

进一步地，触控装置还包含触控笔，触控笔产生触控信号，触控信号与触控电极层相互感应。

综上所述，通过在滤光基板与显示介质层之间，在垂直投影于在滤光基板的周边区的位置设置遮蔽电极层。遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影，可以围绕主动区，从而达到遮蔽的效果，大幅降低触控装置在主动区边缘的噪声问题，而提升了触控的灵敏度及精确性。

以下在实施方式中详细叙述本发明的详细特征及优点，其内容足以使任何熟习相关技艺者了解本发明的技术内容并据以实施，且根据本说明书所公开的内容、权利要求及附图，任何熟习相关技艺者可轻易地理解本发明相关的目的及优点。

附图说明

图1为触控装置第一实施例的剖面示意图。

图2为触控装置第一实施例的局部俯视图。

图3为触控装置第一实施例的局部剖面示意图。

图4为触控装置第二实施例的局部剖面示意图。

图5a为触控装置第三实施例的局部剖面示意图。

图5b为触控装置第四实施例的局部剖面示意图。

图6为触控装置第五实施例的局部剖面示意图。

图7为触控装置第六实施例的局部俯视图。

图8a为触控装置第五实施例的局部剖面示意图。

图8b为图8a中共用电极/接地电极的单元图案。

图8c为图8a中遮蔽电极的单元图案。

附图标记说明：

1触控装置10阵列基板

11下基板13阵列电极层

131接地电极/共用电极133第一绝缘层

135像素电极层137第二绝缘层

150第二狭缝155第二电极图案

160连接线路s触控信号

20显示介质层30滤光基板

31上基板321主动区

323周边区33平坦层

35滤光层40触控电极层

50遮蔽电极层511第一侧边

512第二侧边513第三侧边

514第四侧边550第一狭缝

555第一电极图案61上偏光片

63下偏光片70保护盖板

200触控笔d1横向间距

d2纵向间距d1第一间距

d2第二间距d3第三间距

a主动区f外框线路区

82金球84银或铝

具体实施方式

在附图中，为了清楚起见，放大了部分元件、区域等的宽度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。

应当理解，尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可以用于描述各种元件、部件、区域、或部分，但是这些元件、部件、区域、及/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区分开。因此，下面讨论的“第一元件”、“部件”、“区域”、或“部分”可以被称为第二元件、部件、区域、或部分而不脱离本文的教导。

此外，诸如“下”或“底部”和“上”或“顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个元件与另一元件的关系，如图所示。应当理解，相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其他元件的“下”侧的元件将被定向在其他元件的“上”侧。因此，示例性术语“下”可以包括“下”和“上”的取向，取决于附图的特定取向。类似地，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件“下方”的元件将被定向为在其它元件“上方”。因此，示例性术语“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。

图1为触控装置第一实施例的剖面示意图。图2为触控装置第一实施例的局部俯视图。如图1所示，触控装置1包含阵列基板10、显示介质层20、滤光基板30、触控电极层40以及遮蔽电极层50。显示介质层20位于阵列基板10上。滤光基板30位于显示介质层20上，且对应于阵列基板10，滤光基板30定义出主动区321及周边区323，周边区323环绕主动区321。触控电极层40位于滤光基板30上。遮蔽电极层50位于滤光基板30与显示介质层20之间，且遮蔽电极层50朝向滤光基板30的垂直投影，位于周边区323，并围绕主动区321。在此，显示介质层20可以为液晶、蓝相液晶、或是led等。

在图2中省略了图1中的部分元件，仅呈现滤光基板30与遮蔽电极层50的相对关系。遮蔽电极层50位于滤光基板30的下方，且遮蔽电极层50的垂直投影位于主动区321的外围，呈矩形图案，然而，这仅为示例，而非用以限制。遮蔽电极层50向滤光基板30的垂直投影，也就是垂直投影到滤光基板30上的位置，与主动区321之间的间距至少一像素。在此，间距可以指图2中的横向间距d1，也可以是图2中的纵向间距d2。更详细地，间距为30至700μm，优选为50至300μm。

图3为触控装置第一实施例的局部剖面示意图。在图3中，仅考量一侧，接近于边缘的区域。如图3所示，遮蔽电极层50向滤光基板30的垂直投影与滤光基板30的边缘之间为一第一间距d1。更详细地，阵列基板10包含下基板11及阵列电极层13，阵列电极层13位于下基板11及显示介质层20之间，阵列电极层13与下基板11的边缘的距离为第二间距d2，第一间距d1小于第二间距d2。在此表示，遮蔽电极层50向边缘所附盖的范围，大于阵列电极层13所覆盖的范围，从而可以达到对于周边区323更大的屏蔽区域，达到更好的遮蔽效果，从而能减少周边区323受触控时产生的噪声，进而提升触控的灵敏度。

图4为触控装置第二实施例的局部剖面示意图。更进一步地，在第二实施例中，遮蔽电极层50向滤光基板30的垂直投影与滤光基板30的边缘切齐，也就是，遮蔽电极层50一直延伸到滤光基板30边缘的下方，从而实现更大的遮蔽区域。

再次参阅图3及图4，触控电极层40，尤其是其外部的扇出(fanout)区域至滤光基板30边缘的距离为第三间距d3，第一间距d1小于第三间距d3。也就是，遮蔽电极层50更进一步地达到屏蔽触控电极层40与阵列电极层13之间的区域，而避免噪声，例如串扰(crosstalk)的产生。

更进一步地，再次参照图1，滤光基板30包含上基板31、平坦层33、及滤光层35，滤光层35位于上基板31与平坦层33之间，平坦层33位于上基板31及显示介质层20之间，且遮蔽电极层50位于平坦层33与显示介质层20之间。滤光层35可以包含r、g、b及bm等图案，平坦层33可以包覆滤光层35。更详细地，触控装置1还包含上偏光片61、下偏光片63、以及保护盖板70。上偏光片61位于触控电极层40上，而保护盖板70位于上偏光片61上，下偏光片63位于下基板11的下方。

图5a为触控装置第三实施例的局部剖面示意图。图5b为触控装置第四实施例的局部剖面示意图。如图5a及图5b所示，在第三及第四实施例中，阵列基板10、显示介质层20、滤光基板30、触控电极层40以及遮蔽电极层50等元件的位置及排列大致与第一、第二实施例相同，在此不在赘述，第三及第四实施例主要的技术特征在于，遮蔽电极层50连接至阵列电极层13中的接地电极/共用电极131。通过遮蔽电极层50能够过阵列电极层13将遮蔽电极层50连接至接地电压或共用电压，更能进一步达到电荷平衡，而提升了电磁屏蔽的效果。

在此，可以如图5a，设置金球82于遮蔽电极层50与接地电极/共用电极131之间，也就以如图5b，填入银或铝84在遮蔽电极层50与接地电极/共用电极131之间。然而，这些实施方式仅为示例，而非用以限制。

图6为触控装置第五实施例的局部剖面示意图。如图6所示，第五实施例与前述实施例不同者在于，遮蔽电极层50位于上基板31及平坦层33之间，更详细地，遮蔽电极层50可以位于滤光层35与平坦层33之间。在此实施例中，遮蔽电极层50可以为浮接电极(floatingelectrode)。进一步地，如图3至图6所示，遮蔽电极层50的一部分可以与阵列电极层13中的接地电极/共用电极131位置相互对应。

图7为触控装置第六实施例的局部俯视图。如图7如同图2，省略了部分元件，仅呈现滤光基板30与遮蔽电极层50的相对关系。如图7所示，遮蔽电极层50包含第一侧边511、第二侧边512、第三侧边513及第四侧边514，第一侧边511位于第二侧边512的相对侧，第三侧边513位于第四侧边514的相对侧，且第三侧边513及第四侧边514分别连接第一侧边511及第二侧边512，也就是，遮蔽电极层50可以在对应周边区323的区域，围设呈矩形。进一步地，第一侧边511、第二侧边512、第三侧边513及第四侧边514中至少两个的宽度不相同。在此实施例中，仅呈现第一侧边511与第二侧边512宽度不同，是由于一些显示器的设计上，底部的外框会较宽，且内部需设开关接点等，因此，第二侧边512宽度较宽的设计。但此仅为示例，而不限于此。

另外，遮蔽电极50为铟锡氧化物或金属，但这仅为示例，而非用以限制，也就是，遮蔽电极50设置于周边区323，并不需要限制透明、或不透明的材质，任何导电的材料均可以应用。遮蔽电极50可以为实心结构，也可以是图案化的结构。也就是，可以为连续的镀层或厚膜，也可以是经过光刻图案化结构。

图8a为触控装置第五实施例的局部剖面示意图。图8b为图8a中共用电极/接地电极的单元图案。在此，图8a图的下半部，为图8b图中a-a线的剖面，而图8b图的上半部为图8c图中b-b面的剖面。如图8b及图8c所示，遮蔽电极层50包含第一狭缝550及第一电极图案555，第一狭缝550位于二第一电极图案555之间。接地电极/共用电极131包含第二狭缝150及第二电极图案层155，第二狭缝150位于第二电极图案层155之间。然而，这仅为示例，而非用以限制。遮蔽电极层50的第一狭缝550及第一电极图案555的形状可以大致与接地电极/共用电极131包含第二狭缝150及第二电极图案层155相同。

如图8a所示，由剖面方向来看，下基板11上还依序堆叠有第一绝缘层133、像素电极层135、第二绝缘层137，在第二绝缘层137设置有阵列电极层13的接地电极/共用电极131，在下基板11上的电路图案可以区分为主动区a及外框线路区f。在外框线路区f，具有连接线路160，遮蔽电极层50可以位于连接线路160的上方。

再次参阅图1，触控装置1还包含触控笔200，触控笔200产生触控信号s，触控信号s与触控电极层40及阵列电极层13相互感应。通过触控信号s可以精确地对应阵列电极层13，而可达到可轻松书写与绘画等更精细的操作。进一步地，通过遮蔽电极层50可以降低噪声，使得触控笔200的操作更加精确。

综上实施例所述，通过在滤光基板30与显示介质层20之间，在垂直投影于在滤光基板30的周边区323位置设置遮蔽电极层50。遮蔽电极层50向滤光基板30的垂直投影，可以围绕主动区321，从而达到遮蔽的效果，大幅降低触控装置1在主动区321边缘的噪声问题，而提升了触控装置1的灵敏度。

虽然本发明的技术内容已经以优选实施例公开如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神所作些许的变动与润饰，皆应涵盖于本发明的范围内，因此本发明的保护范围当视权利要求所界定者为准。