需要说的是，图2中第一方向和第二方向分别为竖直方向和水平方向，只是为了说明本发明所示的一个个例，在具体实施过程中，第一方向和第二方向并不限于图2所示的竖直方向和水平方向。
[0044]在本发明实施例提供的上述触摸显示屏，由于在触摸显示屏中设置的条状的第一触控电极和第二触控电极分别位于黑矩阵相对应的区域内，也可以理解为，其分别位于黑矩阵的图形所覆盖的区域内，这样可以降低光反射及光吸收，不会对出射光造成很大的影响，提高了出射光的透过率。另外，又由于包括第一触控电极和第二触控电极的触控系统直接设置在对向基板背向液晶层一面，可以使触控系统与对向基板无缝隙贴合，进而提高了贴合精度以及产品良率。
[0045]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，为了触控显示屏可以成像，如图3所示，还可以包括:位于第二触控电极7上方的偏光片8，由于设置有偏光片，不仅无需在触控显示屏上外置保护玻璃，简化了膜层数量，进而减少了产品厚度、产品重量及产品成本，同时将整个触控系统直接置于对向基板与偏光片之间，可以保护整个触控系统。
[0046]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，由于每条第一触控子电极和第二触控子电极分别位于黑矩阵相对应的区域内，因此，如图2所示，每条第一触控子电极51和/或第二触控子电极71的线宽可以小于或等于黑矩阵4的线宽，这样可以进一步降低触控系统对透过率的影响。当然，每条第一触控子电极和/或第二触控子电极的线宽也可以略大于黑矩阵的线宽，只要不影响出射光的透过率即可，在此不作限定。在实际制作过程中，可以根据触控精度的要求来设置第一触控电极和第二触控电极的分布位置和分布密度。
[0047]进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，由于一般黑矩阵的线宽大约为5微米至20微米，为了保证每条第一触控子电极和/或第二触控子电极的线宽不大于黑矩阵的线宽，具体地，将每条第一触控子电极和/或第二触控子电极的线宽可以具体设置为5微米至20微米。在具体实施时，对于每条第一触控子电极和/或第二触控子电极的线宽可以根据实际情况进行设置，在此不作限定。
[0048]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，如图4所示，还可以包括:位于偏光片8与第二触控电极7之间的保护层9，该保护层9起均匀和平坦化作用及保护第二触控电极的作用。具体地，该保护层9的材料可以为PET，PMMA或偏光膜材料其中之一，这些材料均为有机材料，因此保护层可以和偏光片紧密无狭缝贴合，贴合精度高，无需二次贴合，基本不会对光透过率造成影响，相对于现有的触控技术可以提高大于10%的透过率。对于保护层的具体材料可以根据具体情况进行设置，在此不作限定。
[0049]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，第一触控电极可以具体为触控驱动电极，第二触控电极可以具体为触控感应电极；或，第一触控电极可以具体为触控感应电极，第二触控电极可以具体为触控驱动电极，在此不做限定。
[0050]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，由于第一触控电极位于黑矩阵相对应的区域内，不会出现遮挡显示光线的情况，因此，第一触控电极的材料可以具体为透明导电氧化物例如ITO或IZO，或者也可以具体为金属材料，当采用金属材料制作第一触控电极时可以有效的降低其电阻，或者还可以具体为碳纳米管、石墨烯等透明导电材料。在常规的液晶面板生产过程中，为了防止静电，一般会在对向基板外侧玻璃上整面镀一层ITO，这样会影响光的透过率，在本发明实施例提供的上述触摸显示屏中，不需要常规的ITO导电膜，而是将ITO膜层直接形成第一触控电极，具体地，为了增加这层ITO的利用功能，以及提高光的透过率，可以将ITO分割成条状，制备在对向基板的黑矩阵相对应的区域，作为第一触控电极，这样使用现成的ITO工艺，可以减少纳米导电油墨工艺，减少工序，减少成本。此外，绝缘层的材料一般为硬度较大的PMMA或者其他绝缘好、硬度大的有机膜，第二触控电极的材料可以具体为纳米导电油墨材料例如粒径小于50nm的纳米银导电油墨或者其他高导电率导电油墨，在此不作限定。
[0051]本发明实施例提供的上述触摸显示屏可以适用于各种模式的液晶显示面板，例如可以适用于能够实现宽视角的平面内开关(IPS，In-Plane Switch)和高级超维场开关(ADS，Advanced Super Dimens1n Switch)型液晶显示面板，也可以适用于传统的扭曲向列(TN，Twisted Nematic)型液晶显示面板，在此不作限定。
[0052]在具体实施时，本发明实施例提供的触摸显示屏中一般在对向基板中还会具有诸如彩膜层、公共电极层、像素电极层等其他膜层结构，以及在阵列基板中还一般形成有薄膜晶体管、栅线、数据线等结构，这些具体结构可以有多种实现方式，在此不做限定。
[0053]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述触摸显示屏的制作方法，由于该方法解决问题的原理与前述一种触摸显示屏相似，因此该方法的实施可以参见触摸显示屏的实施，重复之处不再赘述。
[0054]在具体实施时，本发明实施例提供的触摸显示屏的制作方法，如图5所示，具体包括以下步骤:
[0055]S501、分别形成具有黑矩阵的对向基板的图形和阵列基板的图形；
[0056]S502、通过构图工艺在对向基板除黑矩阵所在一面的另一面形成第一触控电极的图形；第一触控电极设置在所述黑矩阵相对应的区域；第一触控电极包括沿第一方向分布的多条第一触控子电极；
[0057]S503、在第一触控电极上形成绝缘层的图形；
[0058]S504、将对向基板与阵列基板进行对盒工艺；
[0059]S505、通过纳米导电油墨工艺在绝缘层上形成第二触控电极的图形；第二触控电极位于黑矩阵相对应的区域内；第二触控电极包括沿与第一方向垂直的第二方向分布的多条第二触控子电极。
[0060]需要说明的是，在具体实施时，在步骤S504将对向基板与阵列基板进行对盒工艺之后，再将未切割的产品基材直接运输到纳米触控膜生产线上进行第二触控电极的制备制作，这样在形成第二触控电极的图形之前进行对盒工艺，操作方便，简化工艺，可以提高生产效率。
[0061]具体地，在具体实施时，在步骤S502形成第一触控电极或在步骤S505形成第二触控电极的图形之后，还可以包括:对第一触控电极或第二触控电极进行导线检测及修复。检查是否断线，如有断线进行修补，这样可以进一步提高产品良率。
[0062]本发明的实施例中所称的构图工艺包括光刻胶涂布、掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺；所称的纳米导电油墨工艺包括油墨喷涂、3D打印技术等工艺。需要说明的是，在制作工艺中，采用的导电油墨喷印设备可以由取向液涂覆设备改造或彩膜工艺中的喷涂设备改造，具有独立的控制程序，喷头可以采用5 μπι至20 μπι，精度误差小于10 μπι，涂覆导线宽度在5 ym至20微米，也可以根据实际需求改变；高温烧结腔室可以利用Cell产线现有的高温腔室；导线检测设备可以采用Array Test电学检测设备，导线修补利用现有的Array R印air修复设备稍微改造即可。相关的切割与偏光片的贴附在现有产线均可完成；还需增加自动电极化处理设备。
[0063]在具体实施时，本发明实施例提供的触摸显示屏的制作方法，为了不仅省去在触控显示屏上外置的保护玻璃，简化膜层数量，还保护整个触控系统，在步骤S505形成第二触控电极的图形之后，还可以包括:在第二触控电极上形成偏光片的图形。
[0064]进一步地，在具体实施时，本发明实施例提供的触摸显示屏的制作方法，为了保护第二触控电极，在形成第二触控电极的图形之后，在形成第二触控电极上形成偏光片的图形之前，还可以包括:在第二触控电极上