专利名称：：光记录介质的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种通过蓝色或者蓝紫色的激光照射使记录层发生光学变化从而记录数据的光记录介质。
背景技术：
：作为信息记录介质，CD(CompactDisc光盘)，DVD(DigitalVersatileDisc数字通用光盘)等光记录介质被广泛应用。而且，近几年，通过采用波长为(380～450nm的范围的)405nm的蓝色或蓝紫色激光作为照射光，而能够以更高密度来记录大容量的信息的光记录介质在普及中。另外，光记录介质大体分为不可增加和改写数据的ROM(ReadOnlyMemory)型、只能增加记录一次数据的R(Recordable)型，可以改写数据的RW(Rewritable)型。对于R型的光记录介质的记录层，重要的是在通过照射激光而使其光学特性发生变化的基础上，长期保存也不易变质而耐久性优越，以往，有机色素作为R型光记录介质的记录层的材料而被广泛利用。这种以往的有机色素为不易吸收易促进化学反应的紫外线或蓝色、蓝紫色的短波长的可视光线的材料，此性质有助于抑制记录层的变质。然而，因现有的有机色素不易吸收蓝色、蓝紫色的短波长的可视光线，所以使用蓝色或者蓝紫色的激光作为照射光时不能获得充分的光学特性变化，而无法记录数据。另外，在采用蓝色或者蓝紫色的激光作为照射光时，获得充分的光学特性变化的有机色素的开发也很困难。另外，作为记录层的材料，如采用Bi、Mo、Cu、Ag、Pd的氧化物等的无机材料的R型光记录介质也广为人知(例如，参照JP特开2003-48375号公报、JP特开平10-334507号公报)。这些无机材料的一部分虽然在采用蓝色或蓝紫色的激光作为照射光时也能获得光学特性的变化，但是难以可靠地得到用于记录数据的充分的光学特性的变化。对此，通过在记录层的两侧形成电介质层，可以改善记录层的光学特性。然而，形成电介质层等，仅此光记录介质的结构相应地变复杂，同时制造工序增多，就会导致出现生产率降低、光记录介质的成本增加的问题。另外，当形成无机材料的记录层或电介质层等时，要使用例如溅射装置等高价的真空成膜装置，但为了形成材料不同的记录层、电介质层等，需要具备与材料的种类数目相对应的多台真空成膜装置，就从这方面来看，光记录介质的成本也会增加。
发明内容本发明是鉴于上述问题而研制的，其目的在于提供一种在使用蓝色或蓝紫色的激光作为照射光时也能够可靠地进行数据的记录/再现的生产率高的光记录介质。本发明通过这样一种光记录介质来实现上述目的，即该记录介质的记录层包含记录部和覆盖该记录部厚度方向上的至少一侧的覆盖部，这些记录部和覆盖部实质上都由Bi和O构成，覆盖部中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率比记录部中的小，记录部中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62～77％，覆盖部中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60～70％。本发明人在研制本发明的过程中发现，如图7中标有附图标记E的曲线所示那样，当实质上由Bi和O构成的记录层中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62％以上时，8TC/N值显著增大，利用蓝色或者蓝紫色激光作为照射光时也能够得到较大的8TC/N值。此外，8TC/N值在O原子数的比率约为70％时为最大。另外，发明人发现，如图7中标有附图标记F的曲线所示，实质上由Bi和O构成的记录层中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率在60％以上的范围中时，对于反射率也能够得到大的值。此外，在O原子数的比率(比8TC/N值最大时的O原子数的比率、即约70％小)约为67％时反射率最大。为了可靠的实现良好的光学特性，重要的是在8TC/N值以及反射率的值较大的基础上，即使记录层的构成元素的组成比率稍稍变化也可将8TC/N值以及反射率的值的变化抑制得较小，且品质稳定。但是，如图7所示，实质上由Bi和O构成的记录层中相对于O原子数的比率的反射率的变化较大，例如O原子数的比率在67％以上的范围时，若O原子数的比率增加则反射率急剧减少。此外，8TC/N值为最大时的O原子数的比率大于反射率为最大时的O原子数的比率，并且该差较大。因此，很难使良好的8TC/N值和良好的反射率并存。因此，发明人进一步反复努力研究发现，通过将记录层做成包含实质上都由Bi和O构成的记录部和覆盖部的结构，使覆盖部中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率比记录部中的小，使记录部的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62％～77％，使覆盖部的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60～70％，从而，对于8TC/N值以及反射率的任意一方都能够得到较大的值，进而能够将与记录层的构成元素的组成比率的变化相伴的反射率的值的变化抑制得较小。能够得到这种效果的原因不一定要清楚，但是由于O原子数的比率相对较小的覆盖部主要有助于反射率，O原子数的比率相对较大的记录部主要有助于8TC/N值，因此认为良好的8TC/N值和良好的反射率能够并存。进而，由于该光记录介质中记录部和覆盖部实质上都由Bi以及O构成，所以能够通过调节成膜条件而利用共通的真空成膜装置来对记录部和覆盖部进行成膜，从而有助于抑制生产成本。即，通过如下所述的发明可以实现上述目的。(1)一种光记录介质，其特征在于，具有基板和形成在该基板上的记录层，该记录层包含记录部和覆盖该记录部厚度方向上的至少一侧的覆盖部，这些记录部以及覆盖部实质上都由Bi及O构成，上述覆盖部中O原子数相对于Bi以及O的原子数的合计值的比率比上述记录部中的小，上述记录部中O原子数相对于Bi及O的原子数的合计值的比率为62～77％，上述覆盖部中O原子数相对于Bi以及O的原子数的合计值的比率为60～70％。(2)如(1)所述的光记录介质，其特征在于，上述覆盖部中O原子数相对于Bi及O的原子数的合计值的比率为62～68％。(3)如(1)或(2)所述的光记录介质，其特征在于，上述记录层的结构为，上述覆盖部被设置在上述记录部的厚度方向的两侧。(4)如(1)～(3)中任一项所述的光记录介质，其特征在于，为了信息的记录/再现而照射波长为380～450nm的激光。根据本发明，例如即使在使用蓝色或蓝紫色的激光作为照射光时，也可以实现可靠地进行数据的记录/再现的生产率高的光记录介质。图1为示意地表示本发明第一实施方式的光记录介质的结构的侧剖视图。图2为表示该光记录介质的制造工序的概要的流程图。图3为示意地表示本发明的第二实施方式的光记录介质的结构的侧剖视图。图4为示意地表示本发明的第三实施方式的光记录介质的结构的侧剖视图。图5为表示本发明的实施例1以及比较例2的一部分的样品的记录层的覆盖部中O原子数的比率与反射率、8TC/N值的关系的图。图6为表示本发明的实施例3以及比较例2的一部分的样品的记录层的覆盖部中O原子数的比率与反射率、8TC/N值的关系的图。图7为表示比较例1的样品的记录层中O原子数的比率与反射率、8TC/N值的关系的图。具体实施例方式下面，参考附图，针对用于实施本发明的最佳方式进行详细说明。如图1所示，本发明的第一实施方式的光记录介质10为R型光盘，该R型光盘在基板12的单侧面上依次形成记录层14及保护层16，通过照射激光而使记录层14的光学特性发生变化，记录层14的结构为特征点。而且，光记录介质10是外径约为120mm、厚度约为1.2mm的圆板形状。基板12的厚度约为1.1mm、其在记录层14侧的面上形成有循轨用的沟槽。另外，作为基板12的材料可以使用聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、硅树脂、氟类树脂、ABS树脂、氨酯树脂等。记录层14包括记录部18、覆盖在该记录部18的厚度方向上的基板12一侧的第一覆盖部20、覆盖保护层16一侧的第二覆盖部22，并按照基板12的凹凸图案而形成有凹凸图案。这些记录部18、第一覆盖部20以及第二覆盖部22实质上都是由Bi和O构成，第一覆盖部20以及第二覆盖部22中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率小于记录部18的该比率。记录部18中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62～77％。另一方面，第一覆盖部20以及第二覆盖部22中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60～70％。而且，所谓“实质上由Bi和O构成”是指Bi及O的原子数的合计值相对于构成记录部18的全体原子的原子数的比率为80％以上，但优选Bi及O的原子数的合计值相对于构成记录部18的全体原子的原子数的比率为90％以上。还有，为获得良好的光学特性，记录部18的厚度优选厚于第一覆盖部20、第二覆盖部22，但只要通过记录用激光的照射而可以获得充分的光学特性变化即可，第一覆盖部20、第二覆盖部22中的一方或两方厚于记录部18也无妨。保护层16的厚度约为100μm。作为保护层16的材料，可以采用具有透光性的丙烯酸类紫外线固化性树脂、环氧类紫外线固化性树脂等的能量射线固化性树脂。在此，所谓“能量射线”，是具有使流动状态的特定的树脂固化的性质的、例如紫外线、电子射线等电磁波、粒子射线的总称。另外，作为保护层16的材料，也可以使用具有透光性的薄膜。下面，对光记录介质10的作用进行说明。在光记录介质10中，记录层14由Bi和O构成，在第一覆盖部20以及第二覆盖部22中，O原子数相对于Bi及O原子数的合计值的比率小于记录部18中的该比率，记录部18中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62～77％以上，第一覆盖部20以及第二覆盖部22中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60～70％，因此利用蓝色或者蓝紫色激光作为照射光时也可得到充分的光学特性的变化，从而能够进行数据的记录/再现。具体地说，如图5以及图6所示，在光记录介质10中，对于以标有附图标记A以及C的曲线所示的8TC/N值以及标有附图标记B以及D的曲线所示的反射率的任意一方，都可以充分得到较大的值。并且，因光记录介质10中伴随记录层14的构成元素的组成比率的变化的8TC/N值以及反射率的值的变化被抑制为较小，从而有助于品质的稳定化。此外认为，在记录层14中，主要是记录部18有助于8TC/N值，承担数据的记录，但是根据Bi、O的组成比率，第一覆盖部20、第二覆盖部22也能够承担数据的记录。并且，在光记录介质10中，由于构成记录层14的记录部18、第一覆盖部20、第二覆盖部22的构成元素是相同的，所以，如后所述，记录层14的成膜容易且生产效率高。另外，从生产效率上看来，第一覆盖部20、第二覆盖部22都优选厚度分别为30nm以下，若为15nm以下则更为优选。下面，参照图2所示的流程图来针对光记录介质10的制造方法的一个例子进行说明。首先，通过注塑成型，形成外径约为120mm、厚度约为1.1mm的圆板形状的基板12(S102)。此时，在基板12的单侧形成沟槽的凹凸图案。接着，在基板12中形成沟槽的面上，形成第一覆盖部20(S104)。具体来说，将基板12设置在配设了Bi靶的阴极溅射装置的容器内，向容器内供给O2气体以及Ar或Xe等的溅射气体，当撞到Bi靶时，Bi粒子飞溅而出，与容器中的O2反应而氧化并堆积在基板12上。由此，按照沟槽的凹凸图案来形成厚度大致均匀的第一覆盖部20。通过调节O2气体的供给流量或成膜功率等溅射条件(成膜条件)，可以调整第一覆盖部20中的Bi、O的比率。此外，记录层14虽然优选主要由Bi和O构成，但如果是为少量的话，也可混入其他的原子、化合物。这样的其他原子、化合物的比率，优选为构成记录层14的全体原子的原子数的20at％以下。当第一覆盖部20的膜厚达到规定膜厚时，暂时停止溅射。接着，在第一覆盖部20上形成记录部18(S106)。具体来说，利用上述第一覆盖部20成膜时所用的溅射装置，变更O2气体的供给流量或成膜功率等的溅射条件来形成记录层14的记录部18。为了获得良好的信号特性，记录部18的厚度优选为15～80nm。当记录部18的膜厚达到规定膜厚时，暂时停止溅射。接着，在记录部18上形成第二覆盖部22(S108)。具体来说，利用第一覆盖部20、记录部18成膜时所用的溅射装置，变更O2气体的供给流量或成膜功率等的溅射条件来形成第二覆盖部22。当第二覆盖部22的膜厚达到规定膜厚时，停止溅射。由此，记录层14的成膜结束。此外，记录层14的厚度(记录部18、第一覆盖部20、第二覆盖部22的合计厚度)优选为16～120nm，更优选为40～80nm。最后，利用旋涂法，在记录层14之上将保护层16延展为约100μm的厚度，并照射紫外线等能量射线使其固化(S110)。并且，也可以粘着预先制造的薄膜而形成保护层16。由此，完成了光记录介质10。这样，由于第一覆盖部20、记录部18以及第二覆盖部22的构成元素相同，都为Bi以及O，从而可通过调节溅射条件而用相同的溅射装置(真空成膜装置)进行成膜，从而有助于提高生产效率，降低生产成本。另外，在该第一实施方式中，记录层14的记录部18的两侧被第一覆盖部20、第二覆盖部22所覆盖，但如图3所示的本发明的第二实施方式的光记录介质50那样仅在记录部18的基板12一侧被第一覆盖部20覆盖，或如图4所示的本发明的第三实施方式的光记录介质60那样仅在记录部18的保护层16一侧被第二覆盖部22覆盖，也能够使良好的8TC/N值和良好的反射率并存，而获得谋求品质的稳定化的一定的效果。另外，在上述第一～第三实施方式中，虽然在基板12和保护层16之间只具备构成元素相同的第一覆盖部20、记录部18以及第二覆盖部22，但也可以在这些构成元素的基础上具备与这些构成元素不同的反射层、电介质层等。电介质层可以仅在记录层18的单侧成膜，也可以在两侧成膜。另外，在上述第一实施方式中，成膜记录层14时，每当第一覆盖部20、记录部18的成膜结束就暂时停止溅射，而间歇地进行第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜，但也可将成膜条件调节为连续，从而连续地进行这些第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜。这样一来会有如下优点，即，在第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的边界附近，Bi及O的组成比率会连续变化，而在第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的边界不易发生剥离。另一方面，如果如上述第一实施方式那样间歇地进行第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜，则有这样的优点，即，可获得具有高精度的构成元素的组成比率的第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22。可以根据所要求的性能等来适当决定采用哪种成膜方法。另外，在上述第一实施方式中，利用Bi靶并供给O2，从而进行第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜，但也可以利用BiOx靶并供给O2气体，从而进行第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜。另外，在上述第一实施方式中，为了进行第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜而采用了溅射法，但只要能够将这些构成元素的组成比率调节到希望值，则也可以采用例如化学气相沉积法等的其他气相沉积法来进行第一覆盖部20、记录部18、第二覆盖部22的成膜另外，在上述第一～第三实施方式中，光记录介质10、50、60为只形成有一层记录层14的单层记录方式，但本发明也能够适用隔着隔离层而交替形成多个记录层的多层记录方式的光记录介质。另外，在上述第一～第三实施方式中，光记录介质10、50、60为只可以在单面记录信息的单面记录方式，但本发明也能够适用于在两侧面具有记录层的双面记录方式的光记录介质。另外，在上述第一～第三实施方式中，光记录介质10的保护层16比基板12薄，但本发明也能够适用于如同DVD那样的、基板与保护层具有相等的厚度的光记录介质。(实施例1)按照上述第一实施方式，制作了5种光记录介质10的样品W1～W5，它们的记录部18的两侧面被第一覆盖部20、第二覆盖部22所覆盖，第一覆盖部20、记录部18以及第二覆盖部22都由Bi以及O构成，第一覆盖部20以及第二覆盖部22中的Bi、O的组成比率相异。此外，相同样品中的第一覆盖部20的Bi、O的组成比率与第二覆盖部22的Bi、O的组成比率相等。当对制造方法进行详细说明时，首先，通过注塑成型制作出5片厚度为1.1mm、直径为120mm的聚碳酸酯树脂的基板12。接着，将这些基板12依次设定在溅射装置中，并将第一覆盖部20成膜为约15nm的厚度，将记录部18成膜为约20nm的厚度，将第二覆盖部22成膜为约10nm的厚度，从而形成了厚度约为45nm的记录层14。此时，如表1所示，设定Ar气体、O2气体的流量，从而调整构成第一覆盖部20、记录部18、以及第二覆盖部22的Bi、O的比率。此外，将Bi靶的成膜功率设定为一定、即150W。具体来说，对于第一覆盖部20以及第二覆盖部22，在O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60％～70％的范围内调整为5种比率，使5种样品的组成比率各不相同。另一方面，将记录部18调整为在总样品中O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率约为(62％～77％的范围的)72％。表1最后，利用旋涂法在第二覆盖部22上涂敷紫外线固化性丙烯酸树脂，并将其延展成100μm的厚度，再照射紫外线使它固化。对于这样得到的5种光记录介质10的样品W1～W5，测定反射率以及8TC/N值。具体地说，将这些样品依次设置在光记录介质评估装置DDU1000(帕路斯(pulstecパルステツク)工业株式会社制造)上，在记录层14形成8T长度的记录标记而记录数据。此外，其他的条件设定如下激光波长405nm；物镜的数值孔径NA0.85；调制方式(1、7)RLL；记录线速度4.9m/sec；信道信号位长度0.12μm；信道时钟频率66MHz；记录方式分组记录；再现功率0.7mW；中间功率2.0mW；基础功率1.0mW。接着，利用该光记录介质评估装置，测定了记录层14中的空白部分(没有形成记录标记的部分)的反射率。接着，对形成在记录层14上的8T长度的记录标记进行再现，并测定了再现信号的C/N值。测定C/N值时，使用了光谱分析仪XK180(爱德万(advantestアドバンテスト)株式会社制造)。再现时的条件设定如下激光波长405nm；再现功率Pr0.7mW；物镜的数值孔径NA0.85。表1以及图5中表示反射率以及8TC/N值的测定结果。此外，图5表示第一覆盖部20、第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率、与8TC/N值、反射率的测定结果的关系。在图5中，标有附图标记A的曲线是8TC/N值的测定结果，标有附图标记B的曲线是反射率的测定结果。在此，对于确认记录部18、第一覆盖部20、第二覆盖部22的构成元素的组成比率以及厚度的方法进行说明。首先，剥离保护层16，并在记录层14上涂覆厚度为20nm左右的碳，再根据FIB(FocusedIonBeam聚焦粒子束)法，在厚度方向切断记录层14，使沿着其面方向的宽度为70nm左右，从而制作剖面TEM样本。制作该样本时，可以使用如FB2100(日立高新技术(日立ハイテクノロジ一ズ日立High-Technologies)株式会社制造)等。通过对这样得到的样本在(记录层14的)厚度方向的多个位置上进行TEM(TransmissionElectronMicroscope透射电子显微镜)观察以及EDS(Energy-Dispersivex-raySpectroscopyX射线能谱)分析，从而可以获得曲线图(表示样本中厚度方向的位置与构成元素的组成比率关系的曲线图)。在该测定中，可以使用例如FE-TEM(JEM-2100F日本电子株式会社制造)或FE-STEM(HD2000日立高新技术株式会社制造)。在这样得到的曲线图中，Bi原子数相对于Bi以及O的原子数的合计值的比率与记录部18、第一覆盖部20、第二覆盖部22相对应，在其厚度方向的3个区域的每一个中几乎一定，而在各区域的边界附近Bi原子数的比率急剧变化。在各区域的边界附近，将Bi的组成比率为相邻区域中的Bi的组成比率的平均值的部位判定为记录部18、第一覆盖部20、第二覆盖部22的边界，从而计算出其膜厚。另外，通过FIB法，在厚度方向上切断记录层14来制作针状的样本，该针状的样本的一个面上的宽度(沿着该面的方向)为100nm左右、另一个面上的宽度比该面宽，可通过使用了APFIM(AtomProbeFocusedIonBeamMicroscope原子探针场粒子显微镜)的TOF-MS(TimeOfFlightMassSpectrometry飞行时间质谱)，来测定在(记录层14的)厚度方向的多个位置的样本中的构成元素的组成比率。即使在难以分析氧原子数的组成比率时，通过这样测定氧以外元素的组成比率也可以算出氧的组成比率。(实施例2)相对于上述实施例1，制作了一种样品W6，该样品中的记录部18的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为约(62％～77％的范围的下限)62％，并且第一覆盖部20以及第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60％。此外，样品W6的其他结构与上述实施例1的样品W1～W5相同。对于该样品W6，与上述实施例1同样的测定了反射率、8TC/N值。样品W6的结构、样品W6的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的成膜条件、反射率、8TC/N值的测定结果一并记载在表1中。(实施例3)相对于上述实施例1，制作了五种样品W7～W11，这些样品中的记录部18的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为约(62％～77％的范围的上限)77％，并且第一覆盖部20以及第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为60％～70％。此外，样品W7～W11的其他结构与上述实施例1的样品W1～W5相同。对于这些样品W7～W11，与上述实施例1同样的测定了反射率、8TC/N值。在表1以及图6中表示样品W7～W11的结构、样品W7～W11的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的成膜条件、反射率、8TC/N值的测定结果。在图6中，标有附图标记C的曲线为8TC/N值的测定结果，标有附图标记D的曲线为反射率的测定结果。(比较例1)针对上述实施例1，制作了五中光记录介质的样品C1～C5，这些样品具有Bi及O的组成比率在整个区域上恒定不变的记录层。此外，这些样品C1～C5的其他的结构与上述实施例1的样品W1～W5相同。这些样品W1～W5的具体的结构如表2中所示。表2对于这些样品C1～C5光记录介质，与上述实施例1同样的测定了反射率、8TC/N值。并将测定结果表示在表2以及图7中。此外，图7也与图5以及图6同样的表示O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率和8TC/N值、反射率的测定结果的关系。在图7中，标有附图标记E的曲线为8TC/N值的测定结果，标有附图标记F的曲线为反射率的测定结果。(比较例2)相对于上述实施例1以及3，制作了两种样品C6以及C7，这两种样品的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为(小于60％)58％。此外，样品C6的其他的结构与上述实施例1的样品W1～W5相同，样品C7的其他的结构与上述实施例3的样品W7～W11相同。对于这些样品C6以及C7，与上述实施例1同样的测定了反射率、8TC/N值。样品C6、C7的结构、样品C6、C7的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的成膜条件、反射率、8TC/N值的测定结果一并表示在表1中。此外，在图5中一并表示样品C6的反射率、8TC/N值的测定结果，在图6中一并表示样品C7的反射率、8TC/N值的测定结果。为了得到良好且稳定的光学特性，优选8TC/N值以及反射率的值较大。具体来说，优选8TC/N值在50dB以上。另外，优选反射率在12％以上，更优选在14％以上。进而，为了得到良好且稳定的光学特性，优选将与记录层的构成元素的组成比率的变化相伴的8TC/N值以及反射率的值的变化抑制为较小。但是，如图7所示，在比较例1中，8TC/N值或反射率的变化相对于O原子数的比率的变化较大，例如O原子数的比率在67％以上的范围时，若O原子数的比率增加则反射率急剧减少。此外，8TC/N值最大时的O原子数的比率大于反射率最大时的O原子数的比率，并且此差较大。并且可得到50dB以上的较大的8TC/N值的O原子数的比率被限定在70％前后的较窄范围内。此外，比较例2的样品C6、C7中8TC/N值明显小于50.0dB，反射率也小于12％。即，对于反射率、8TC/N值的任意一方的光学特性都不能得到良好的结果。对此，在实施例1～3的全部的样品W1～W11中得到了12％以上的反射率、50.0dB以上的8TC/N值。并且，如图5、6所示，在实施例1、3中，与记录层14的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的构成元素的组成比率的变化相伴的8TC/N值以及反射率的值的变化被抑制为较小。在实施例1中，特别对于第一覆盖部20以及第二覆盖部22中的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62～68％的样品W2～W4，反射率的偏差被抑制在1％以内，8TC/N值的偏差也被抑制在1dB以内，为良好。此外，在实施例3中，对于第一覆盖部20以及第二覆盖部22中的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62～68％的样品W8～W10，反射率的偏差被抑制在1％以内，8TC/N值的偏差被抑制在3dB以内，也为良好。认为这是由于，O原子数的比率相对较小的第一覆盖部20以及第二覆盖部22主要有助于反射率，O原子数的比率较大的记录部18主要有助于8TC/N值，而良好的8TC/N值和良好的反射率并存。此外，如在图5中的样品C6以及图6中的样品C7的数据所示，当第一覆盖部20以及第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率小于60％时，8TC/N值有显著降低的趋势，但只要第一覆盖部20以及第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率在60％～70％的范围内，则与记录层14的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的构成元素的组成比率的变化相伴的8TC/N值的变化以及反射率的值的变化都被抑制得较小。特别只要第一覆盖部20以及第二覆盖部22的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率为62％以上，则与记录层14的第一覆盖部20以及第二覆盖部22的构成元素的组成比率的变化相伴的8TC/N值的变化以及反射率的值的变化都被显著地抑制得较小。此外，如图7中的曲线E所示，当O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率小于62％时，实质上由Bi以及O构成的记录层的8TC/N值有显著变小的趋势。并且，很难制造O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率大于77％的记录层。因此认为，主要被认为有助于8TC/N值的记录部18的O原子数相对于Bi和O的原子数的合计值的比率在62～77％即可。本发明可用于通过照射蓝色或者蓝紫色的激光而使记录层的光学特性发生变化来记录数据的光记录介质。权利要求1.一种光记录介质，其特征在于，具有基板和形成在该基板上的记录层，该记录层包含记录部和覆盖该记录部厚度方向上的至少一侧的覆盖部，这些记录部及覆盖部实质上都由Bi及O构成，上述覆盖部中O原子数相对于Bi及O的原子数的合计值的比率比上述记录部中的小，上述记录部中O原子数相对于Bi及O的原子数的合计值的比率为62～77％，上述覆盖部中O原子数相对于Bi及O的原子数的合计值的比率为60～70％。2.如权利要求1所述的光记录介质，其特征在于，上述覆盖部中O原子数相对于Bi及0的原子数的合计值的比率为62～68％。3.如权利要求1所述的光记录介质，其特征在于，上述记录层的结构为，上述覆盖部被设置在上述记录部厚度方向上的两侧。4.如权利要求2所述的光记录介质，其特征在于，上述记录层的结构为，上述覆盖部被设置在上述记录部厚度方向上的两侧。5.如权利要求1～4中任一项所述的光记录介质，其特征在于，为了信息的记录/再现，照射激光的波长为380～450nm。全文摘要本发明提供一种在使用蓝色或蓝紫色的激光作为照射光时也能够可靠地进行数据的记录/再现的生产率高的光记录介质。光记录介质具有基板和形成在基板上的记录层，记录层包括记录部和第一覆盖部、第二覆盖部，这些记录部、第一覆盖部、第二覆盖部实质上都由Bi和O构成，第一覆盖部、第二覆盖部中O原子数相对于Bi以及O的原子数的合计值的比率比记录部中的小，记录部中O原子数相对于Bi以及O原子数的合计值的比率为62％～77％，第一覆盖部以及第二覆盖部中O原子数相对于Bi以及O的原子数的比率为60～70％。文档编号G11B7/24GK101013585SQ20071000738公开日2007年8月8日申请日期2007年1月31日优先权日2006年1月31日发明者由德大介,三岛康儿,田中和志申请人:Tdk股份有限公司