光盘装置、控制方法、控制程序以及信息存储介质的制作方法_2

文档序号:8320311阅读:来源:国知局
号的处理器。
[0034]基于由焦点检测器35输出的模拟信号,信号输出电路17输出各种信号。更具体地说,信号输出电路17对通过以预定增益(放大系数)放大由每个光接收设备输出的光而获得的经放大信号进行处理,以便输出包括聚焦错误信号(FE信号)、跟踪错误信号(TE信号)和用于数据再生的RF信号的信号。聚焦错误信号是表示光盘介质M的信号表面与物镜34的焦点位置之间的聚焦方向偏移的信号。跟踪错误信号是表示物镜34的焦点位置与光盘介质M的轨道位置之间的跟踪方向偏移的信号。另外,信号输出电路17还输出通过放大由多个光接收设备输出的信号并加总经放大信号而获得的进站(pull-1n)信号(PI信号)。
[0035]基于诸如由信号输出电路17输出的PI信号、FE信号和TE信号的信号,伺服信号处理部分18生成用于伺服控制的各种信号并将所生成的信号输出至控制部分20。另外,根据从控制部分20接收的命令,伺服信号处理部分18向驱动电路16输出用于驱动物镜驱动部分36、进给电机15和主轴电机12的控制信号。
[0036]具体地,伺服信号处理部分18根据从控制部分20接收的命令进行伺服控制。更具体地说,当从控制部分20接收用以开始伺服控制的命令时,伺服信号处理部分18根据从信号输出电路17接收的FE信号,输出用于控制物镜驱动部分36的控制信号,以便进行用于在聚焦方向上调整物镜34的位置的聚焦伺服控制。由此,可以维持物镜34的焦点匹配光盘介质M的信号表面的状态。另外,伺服信号处理部分18根据从信号输出电路17接收的TE信号,输出用于控制物镜驱动部分36的控制信号,以便进行用于在跟踪方向上改变物镜34的位置的跟踪伺服控制。由此,可以驱动物镜34以使得相对于介质表面移动,使得物镜34的焦点总是跟随数据记录层中的轨道(track)。这样,伺服信号处理部分18进行伺服控制,以控制物镜34相对于光盘介质M的表面的位置。由此,可以维持光学拾取器13能够从光盘介质M读出信息的状态,从而,在此状态中,读出信息。
[0037]基于由信号输出电路17输出的RF信号,记录信号处理部分19解调表不记录在光盘介质M上的信息的数字信号,并将解调的结果输出至控制部分20。另外,记录信号处理部分19还计算精度的评估值(诸如RF振幅和抖动值)以使用光学拾取器13从光盘介质M读出信息,并将评估值输出至控制部分20。
[0038]控制部分20典型地被配置为具有微机,并包括执行模块和存储设备。控制部分20中采用的存储设备用于存储待执行程序和各种参数。控制部分20中采用的执行模块根据存储设备中存储的程序进行处理。更具体地说,控制部分20确定光盘装置I中设置的光盘介质M的类型。
[0039]另外,控制部分20连接至诸如个人计算机、家用游戏机单元或视频解码器的主机。根据由主机产生的请求,控制部分20将用于驱动进给电机15和物镜驱动部分36的指令输出至伺服信号处理部分18,以便将物镜34的焦点移动至光盘介质M上的期望位置(物镜34的焦点是从光盘介质M读出信息的位置)。另外,控制部分20还将用于改变主轴电机12的旋转速度的指令输出至伺服信号处理部分18,以便调整光盘介质M的旋转速度。于是,在此状态中,控制部分20将经调制信号输出至主机。经调制信号是作为从光盘介质M读出的信号的解调结果、由记录信号处理部分19生成的信号。
[0040]确定光盘介质的类型的处理
[0041]以下描述说明根据此实施例的光盘装置I进行的用以确定光盘介质M的类型的处理的具体示例。例如,当光盘介质M被重新设置在光盘装置I上时、或者当光盘装置I的电源被接通时,由光盘装置I进行用以确定光盘介质M的类型的处理。另外,用于确定光盘介质M的类型的此处理由控制部分20通过根据存储设备中存储的程序控制各部分来实施。这些程序也可以表现为存储在可以被各种计算机读取的信息存储介质中的程序。
[0042]首先,以与现有光盘装置相同的方式,控制部分20测量从光盘介质M的介质表面到信号表面的距离L,以便确定光盘介质M的类型。更具体地说,在让第二发光设备32发射小波长光的同时,控制部分20控制物镜驱动部分36,从而物镜34以恒定速度在聚焦方向上移动。移动的聚焦方向可以是物镜34靠近光盘介质M的介质表面的方向、或者物镜34远离光盘介质M的介质表面的方向。在此情况下,假设移动的聚焦方向为物镜34靠近光盘介质M的介质表面的方向。在以下描述中,用以以此方式以恒定速度在该方向上将物镜34移动至光盘介质M的操作称为扫描(swe印)操作。图3是示出扫描操作中物镜34相对于光盘介质M的移动的模型的图。
[0043]在扫描操作中,物镜34的焦点对于每一度通过光盘介质M的介质表面和信号表面。那时,由于从光盘介质M反射的光,在PI信号上出现峰值。在以下描述中,使用小波长光的类型确定处理称为一次(primary)类型确定处理。
[0044]图4是示出通过在输出小波长光的同时进行扫描操作而获得的典型PI信号波形的图(PI信号的波形表示PI信号沿时间轴的变化)。如图4中所示,在PI信号上出现两个峰值。两个峰值是介质表面反射信号S和信号表面反射信号T。介质表面反射信号S由介质表面上的反射导致,而信号表面反射信号T由信号表面上的反射导致。图中所示的标注Thl表示用于峰值检测的阈值(在以下描述中,用于峰值检测的阈值称为阈值Thl)。超过阈值Thl的各个PI信号峰值被检测为介质表面反射信号S和信号表面反射信号T。在扫描操作中,物镜34正以恒定速度靠近光盘介质M。因此,介质表面反射信号S的检测时刻tl与信号表面反射信号T的检测时刻t2之间的时间间隔Λ t对应于光盘介质M的介质表面与信号表面之间的距离L。如果可以计算距离L,则可以确定光盘介质M的类型。应注意,在一次类型确定处理中,使用小波长光替代大波长光。这是因为,如果使用大波长光,则焦点距离变得更长,从而,在具有短距离L的BD的情况下,介质表面反射信号S和信号表面反射信号T不再能彼此独立地被检测。
[0045]如果长期使用光盘装置1,则空气中的灰尘、香烟焦油等粘附到光学拾取器13的光学系统33,使得光透射系数降低。结果,产生由焦点检测器35检测的信号的电平降低的现象。作为研究的结果,本技术的发明人已经发现如下事实:信号电平大大降低,特别是在使用小波长光的情况下。当这样的现象发生时,介质表面反射信号S的峰值电平不期望地变得低于阈值Thl,从而,在某些情况下,无法检测到介质表面反射信号S。为了解决此问题,在此实施例的情况下,如果在上述一次检测处理中无法检测到介质表面反射信号S,则进行使用大波长光的类型确定处理。在以下描述中,使用大波长光的类型确定处理称为二次类型确定处理。
[0046]如上所述,在通过使用大波长光在BD上进行的扫描操作中,因为BD的距离L相对短,所以介质表面反射信号S和信号表面反射信号T并未彼此分开,而是被检测为一个峰值。图5是示出在BD上通过使用大波长光进行扫描操作而获得的典型PI信号波形的图。如果如图中所示,在使用大波长光的扫描操作中仅检测到一个峰值,则光盘介质M被确定为BD。应注意,控制部分20可以被用作被配置为不仅基于峰值的数目、而且还基于所检测的峰值的信号电平确定光盘介质M的类型的部分。更具体地说,如果第一个所检测的峰值电平高于为BD预定的BD确定阈值Th2,则控制部分20可以确定光盘介质M是BD。在此情况下,将为BD预定的BD确定阈值Th2设置在通过将介质表面反射信号S的预期峰值电平乘以典型地为1.5的预定系数而获得的值,从而作为介质表面反射信号S单独出现的峰值不被错误地确定为由信号表面反射信号T导致的峰值。可以在光盘装置I的出厂(shipping)时设置为BD预定的BD确定阈值Th2。
[0047]相反,如果介质表面反射信号S和信号表面反射信号T可以在二次类型确定处理中被彼此独立地检测到,则控制部分20确定光盘介质M不是BD。图6是示出在CD上通过使用大波长光进行扫描操作而获得的典型PI信号波形的图。如果由介质表面反射信号S和信号表面反射信号T导致的峰值如图中所示均被检测到,则控制部分20确定光盘介质M不是BD。更具体地说,如果第一个所检测的峰值电平不高于为BD预定的BD确定阈值Th2,则控制部分20可以确定该峰值是由介质表面反射信号S导致的峰值,并且光盘介质M不是BD。此外,在此情况下,以与第一类型确定处理相同的方式,可以基于介质表面反射
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