用于收集颗粒的单元和方法以及包括该单元的设备的制作方法

专利名称：用于收集颗粒的单元和方法以及包括该单元的设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于收集颗粒的单元、包括该单元的设备以及利用该 单元收集颗粒的方法。
背景技术：
通常，利用在半导体晶片上形成包括电路的半导体芯片的制造过 程、将半导体芯片分类为良好芯片或者不合格芯片的电子芯片分选过 程以及将半导体芯片互相分离并利用环氧树脂密封良好芯片的封装过 程，可以制造半导体器件。
制造过程可以包括在该半导体晶片上形成材料层的薄膜沉积过 程、用于使该材料层平坦的化学机械抛光(CMP)过程、在该材料层 上形成光致抗蚀剂图形的光刻过程、利用该光致抗蚀剂图形作为蚀刻 掩模形成材料图形的蚀刻过程、将杂质注入该半导体晶片或者该材料 层上的预定区域的离子注入过程、去除该半导体晶片上的颗粒的清洁 过程以及用于去除该半导体晶片上的化学溶液或者去离子水的干燥过 程。
可以利用各种化学气体和/或者各种化学溶液实现该制造过程，而 且通过安装在处理设备上的一些排出管可以排出该制造过程使用的化学气体和/或者化学溶液。利用排出风扇，可以强制该化学气体和/或者 化学溶液流入排出管，而且可以将它们排出该处理设备位于其内的洁 净室。在排出洁净室之前，可以在最终处理系统中对该化学气体和/或 者化学溶液进行处理。
为了平滑排出该化学气体和/或者化学溶液，应该使各排出管内的 压力保持恒定且稳定的值。当在该排出管内存在某些障碍时，该障碍 可能干扰诸如化学气体和/或者化学溶液的液体在该排出管内的流动。 例如，从该处理设备排出的化学气体和/或者化学溶液可能与该排出管 内的空气或者其他化学物质发生反应而产生副产品，该副产品可能沉 积在该排出管的内壁上，这样可能导致该排出管内的压力发生变化， 而且可能腐蚀该排出管。
特别是，在流过该排出管的液体是易燃材料时，该易燃材料可能 自燃，而产生颗粒，而且该颗粒可能沉积在该排出管的内壁上，从而 产生不希望的问题。

发明内容
本发明的典型实施例涉及用于收集颗粒的单元、包括该单元的设 备以及利用该收集单元收集颗粒的方法。
根据第一方面，本发明涉及用于收集颗粒的收集单元。该收集单 元包括排出管，提供工艺气体流过其的通路；以及捕集器，安装在 该排出管上。该捕集器具有该工艺气体中的颗粒通过其被引进入该捕 集器的入口。收集线路连接到该捕集器，该收集线路穿透该排出管的 一部分，以向着该排出管的外部区域延伸。
在一些实施例中，该入口的直径可以小于该排出管的内径，而且 该入口可以布置在该排出管内空间的中心区域。在一些实施例中，该单元可以进一步包括多个安装在该排出管的 外壁上的声波发生器。该声波发生器产生的声波传播到该排出管的内 部区域。可以布置该声波发生器，以在该排出管的截面图上，在它们 之间具有相同距离。该排出管可以具有圆形截面。在这种情况下，可 以布置该声波发生器，以使从该圆形截面的中心点连接到两个相邻声 波发生器的两条直线之间的夹角为90°。作为一种选择，该排出管可以 具有矩形截面。在这种情况下，该声波发生器分别布置在该排出管的 顶板、底板、左侧壁和右侧壁上。
在一些实施例中，该单元可以进一步包括储存室，连接到该收 集线路，以储存该颗粒；以及排出线路，连接到该储存室的顶板，以 排出被引进入该储存室的工艺气体。该储存室可以布置在该排出管下 面。该排出线路可以连接到该排出管。此外，可以布置阻挡板，以向 该储存室的内部区域或者外部区域移动；而且可以布置驱动器，以连 接到该阻挡板，从而使该阻挡板移动。在该阻挡板完全移动到该储存 室内时，该储存室内的空间可以被分割为上部空间和下部空间。该储 存室可以具有进入其侧壁下部，从而接入该下部空间的开口。利用门 关闭或者开启该开口。
根据另一个方面，本发明涉及具有该收集单元的设备。该设备包 括处理室，在其内进行处理；排出管，连接到该处理室，以排出该 处理室内的工艺气体；以及收集单元，安装在该排出管上，以收集流 过该排出管的工艺气体中的颗粒。
根据另一个方面，本发明涉及一种用于收集流过排出管的工艺气 体中的颗粒的方法。根据该方法，将具有入口的捕集器安装在该排出 管内，而且收集通过该入口进入该捕集器的工艺气体中的颗粒。
在一些实施例中，该入口可能具有小于该排出管的内径的直径， 而且该入口可能布置在该排出管内空间的中心区域。通过产生传播到该排出管的内部区域的声波，可以收集该颗粒。可以利用多个布置在 该排出管的外壁上的声波发生器产生该声波。在产生该声波期间，该 工艺气体中的颗粒集聚在该入口之前的空间的中心区域，而且该集聚 颗粒可以通过该入口流入该捕集器。
在一些实施例中，该方法可以进一步包括将该捕集器内的收集 颗粒储存在布置在该排出管下面的储存室内。通过将该储存室连接到 该捕集器的收集线路，使该捕集器内的收集颗粒可以被引进入该储存 室，而且通过将该储存室连接到该排出管的排出线路，使流入该储存 室、具有颗粒的工艺气体排出该储存室。此外，该方法可以进一步包 括将阻挡板插入该储存室，以在空间上将该储存室分割为上部空间 和下部空间；以及去除储存在该下部空间内的颗粒。


通过更具体描述本发明的优选方面，本发明的上述以及其他目的、 特征和优点将显而易见，如附图所示，在不同视图中，相同的参考编 号表示相同的部分。该附图未必按比例示出，而是将重点放在说明本 发明原理上。
图1是示出根据本发明实施例的设备的示意框图。
图2是示出图1所示第一室的示意图。
图3是示出根据本发明实施例的收集单元的示意图。
图4至6是示出沿图3所示线I-I'取的截面图。
图7至9是示出利用图3所示收集单元收集颗粒的方法的示意图。
图io是示出根据本发明另一个实施例的收集单元的示意图。
具体实施例方式
下面，将参考附图更全面说明本发明，附图示出本发明优选的实 施例。然而，可以以许多不同方式实现本发明，因此，不应该认为本 发明局限于在此描述的实施例。其实，提供这些实施例是为了使本公开彻底和全面，并向本技术领域内的技术人员完全传达本发明范围。 附图中，为了清楚起见，元件的形状被放大。
图1是示出根据本发明实施例的衬底处理设备的示意框图。
参考图1，衬底处理设备1可以包括第一和第二室100a和100b; 第一和第二分排出管280，分别连接到第一和第二室100a和100b;以 及主排出管290，连接到第一和第二分排出管280。在本实施例中，假 定衬底处理设备1包括两个室，例如，图1所示的第一和第二室100a 和100b。然而，根据本发明的衬底处理设备1可以包括三个或者更多 个室。
第一和第二室100a和100b分别在其内提供第一和第二空间，而 且可以在该第一和第二空间内执行预定处理。在第一空间内执行的第 一处理可以是与在第二空间内执行的第二处理相同的处理。作为一种 选择，第一处理可以是与第二处理不同的处理。可以在第一处理之后 执行第二处理，反之亦然。此外，第一分排出管280可以与第二分排 出管280具有相同的配置和结构。因此，下面仅说明第一室100a，而 不重复赘述第二室100b。
第一室100a连接到第一分排出管280的一端，如上所述。通过第 一分排出管280，可以将第一室100a中包括反应气体、未反应气体以 及副产品的工艺气体排出第一室100a。可以在第一室100a内执行预定 处理的同时，排出第一室100a内的工艺气体。甚至可以在该预定处理 之前或者之后，排出第一室100a内的工艺气体。
泵282和洗涤器284可以安装在第一分排出管280内。主排出管 290连接到第一分排出管280的另一端。因此，通过第一分排出管280， 可以使第一室100a内的工艺气体被引进入主排出管290。可以在安装 在预定位置(例如，衬底处理设备1安装在其内的洁净室的天花板上)的最终处理系统中处理主排出管290内的工艺气体。然后，可以使处 理后的工艺气体排出该洁净室。该最终处理系统可以处理该工艺气体， 以排出满足环境规范的纯净气体。
图2是示出图1所示第一室的实施例以及安装在其上的附件的示
意图。下面，尽管结合沉积室描述了第一室，但是第一室并不局限于 沉积室。例如，第一室可以相当于蚀刻室或者清洁室。
第一室100a可以提供在其内执行预定处理的空间。可以对装载在 第一室100a内的晶片W实施预定处理。第一室100a可以包括内管 120和围绕该内管120的外管140。内管120和外管140可以是石英管。 内管120可以是具有顶部开口和底部开口的圆柱形管。外管140也可 以是圆柱形的。然而，外管140可以仅具有底部开口，而没有顶部开 口。即，外管140的顶部可以是封闭的。此外，圆柱形的法兰200可 以附着在外管140的下部。法兰200也可以具有顶部开口和底部开口。
加热器160可以布置在外管140的外部。例如，可以安装加热器 160，以便包围外管140的侧壁。加热器160可以加热第一室100a，以 在预定处理期间，使第一室100a内的气温保持处理温度。
将晶片W装载在舟皿300内，然后，进行预定处理。舟皿300可 以具有上板312;下板314，对着上板312;以及多个垂直支撑320， 安装在上板312与下板314之间。在第一室100a是垂直室时，上板312 和下板314平行于水平线。每个垂直支撑320分别具有多个其内用于 插入晶片W的槽。各支撑320上的槽的数量约为50至100。可以在下 板314的下面设置多个热辐射板342。该热辐射板342可以由石英构成， 而且可以平行于下板314地安装该热辐射板342。
舟皿300被罩盖344支承。g卩，舟皿300安装在罩盖344上。罩 盖344可以是水平板形的。因此，在将舟皿300装载在内管120内时，
12罩盖344可以接触法兰200的下部，以密封第一室100a内的空间。驱 动单元380可以附着在罩盖344上。驱动单元380可以包括电机382， 用于使罩盖344旋转；以及升降器384，用于上/下移动罩盖344。升降 器384可以具有由电机384c使其旋转的垂直螺杆384b和螺杆384b插 入其内的托架384a。电机382可以布置在罩盖344与托架384a之间。 因此，在将电机384c固定在预定位置，且使电机384c运行从而使螺杆 384b旋转时，托架384a可以向上或者向下移动。结果，如果电机384c 运行，则罩盖344和舟皿300可以向上或者向下移动。
在法兰200的下面设置备用室(未示出)。在执行预定处理之前 将晶片W装载在位于备用室内的舟皿300上，且具有晶片W的舟皿 300可以向上移动到管120内。法兰200可以包括圆柱形的主体；外 环222，从该主体的上部向该主体的外部凸出；以及内环224，从该主 体的内壁向该主体的内侧凸出。外环224附着在外管140的下端，以 支承外管140。同样，内环224附着在内管120的下端，以支承内管 120。
工艺气体供给管240安装在法兰200的外侧，而且可以将工艺气 体供给管240连接到工艺气体端口 242。工艺气体端口 242可以延伸， 以进入法兰200的主体。因此，通过工艺气体供给管240和工艺气体 端口 242，工艺气体可以进入内管120。此外，净化气体供给管260安 装在法兰200的外侧，而净化气体供给管260可以连接到净化气体端 口 262。净化气体端口 262可以延伸，以进入法兰200的主体。因此， 通过净化气体供给管260和净化气体端口 262，净化气体可以进入内管 120。此外，第一分排出管280安装在法兰200的外侧，而且第一分排 出管280可以延伸，以进入法兰200的主体。第一分排出管280可以 进入外环222与内环224之间的主体。
根据上面描述的第一室100a和附件，可以使工艺气体被引进入法 兰200的主体包围的空间。被引进入法兰200的工艺气体可以向上流动，而且在内管120内发生反应，以在晶片W上形成薄膜。当工艺气 体在内管120内发生反应时，可能产生一种或者多种副产品。内管120 内的工艺气体和副产品可以通过内管120与外管140之间的空间向下 流动，然后，可以通过第一分排出管280排出。
图3是示出根据本发明实施例的收集单元的示意图，而图4至6 是示出沿图3所示线I-I'取的截面图。
如上所述，通过第一分排出管280和主排出管290，可以排出工艺 气体，例如，反应气体、未反应气体以及副产品。在这种情况下，该 工艺气体可能与第一分排出管280和主排出管290内的空气发生反应 而产生颗粒。该颗粒可能沉积在第一分排出管280和主排出管290的 内壁上，从而导致排出管280和290内的压力发生变化，而且可能腐 蚀排出管280和290。特别是，诸如硅垸(SiH4)气体和氢气的易燃气 体可能自燃而产生颗粒。因此，为了防止排出管280和290内的压力 发生变化并防止排出管280和2卯被腐蚀，应该去除颗粒。
收集单元可以安装在分排出管280 (例如，第一分排出管280)或 者主排出管290上，以收集颗粒。下面，假定收集单元安装在主排出 管290上。然而，根据本发明的收集单元可以安装在分排出管280上， 如上面所描述的。此外，在本实施例中，假定单个分排出管连接到一 个室(例如，第一室100a)。然而，分排出管280的数量并不局限于 一个。例如，多个分排出管可以连接到第一室100a。在这种情况下， 分别流过分排出管的工艺气体可能互相不同。例如，在第一至第三分 排出管连接到第一室100a时，第一分排出管可以排出含有酸性化合物 的第一气体，第二分排出管可以排出含有有机化合物的第二气体，第 三分排出管可以排出含有易燃材料的第三气体。
在第一室100a连接到多个分排出管，而收集单元安装在分排出管 之一上时，该收集单元优选安装在排出易燃气体的分排出管上。这是因为，易燃气体可能发生自燃而产生如上所述的大量颗粒。
该颗粒主要沉积在该排出管的弯曲部分的内壁上。例如，大多数 颗粒可能沉积在该分排出管与主排出管互相连接的接头位置的内壁 上。此外，大多数颗粒可能沉积在安装在排出管上用于控制该工艺气 体的流速的阻尼器上。因此，该收集单元优选安装在该工艺气体的通 路上位于该阻尼器或者该排出管的弯曲部分之前的位置。在这种情况 下，该收集单元可以在颗粒到达该阻尼器或者该排出管的弯曲部分之 前，捕获大多数颗粒。
如图3所示，该收集单元可以包括捕集器420、收集线路440、 储存室460以及排出线路480。捕集器420具有入口 422和出口。该捕 集器可以安装在主排出管290上。此外，布置该捕集器420，以使捕集 器420的入口 422对着该工艺气体的移动方向的相反方向。捕集器420 可以具有漏斗形配置。即，入口 422的面积可以大于出口的面积。在 这种情况下，入口 422的直径M小于主排出管290的内径D，而且入 口 422可以位于主排出管290包围的空间的中心区域上。SP，捕集器 420的任意部分都不接触主排出管290的内壁。因此，流过主排出管 290的一部分工艺气体可以被引进入捕集器420，而且另一部分工艺气 体可能流过捕集器420与主排出管290的内壁之间的空间。
储存室460可以布置在主排出管290下面，而收集线路440可以 将捕集器420连接到储存室460。收集线路440进入部分主排出管290 内，而且收集线路440的一端连接到捕集器420的出口，而收集线路 440的另一端连接到储存室460的顶板。储存室460内可以具有空空间， 而且捕集器420捕获的工艺气体中的颗粒可以存储在储存室460内。 储存室460可以具有进入其侧壁上部的缝隙462。缝隙462提供用于插 入阻挡板520的空间。此外，储存室460可以具有进入其侧壁下部的 开口 464。可以利用门468关闭或者开启开口 464。排出线路480的一端可以连接到储存室460的顶板，而排出线路 480的另一端可以连接到部分主排出管290上。
阻挡板520可以连接到驱动器540。阻挡板520和驱动器540构成 活门部件500。驱动器540可以使阻挡板520水平移动。在阻挡板520 通过缝隙462完全插入储存室460内时，可以将储存室460内的空空 间分割为上部空间和下部空间。在这种情况下，在开口 464被打开时， 下部空间可以通过开口 464连接到储存室460的外部区域。即，开口 464可以用作从储存室460的外部区域接入下部空间的通路。
可以将多个声波发生器490布置在主排出管290的外壁上。每个 声波发生器490都可以产生传播到主排出管290的内部的声波。该颗 粒对该声波起反应，因为每个颗粒都具有自己的体积和质量。因此， 来自发生器490的声波可以使主排出管290内的颗粒向特定方向移动。 例如，来自发生器490的声波可以使主排出管290内的颗粒移动到主 排出管290内的中心区域。该颗粒的移动方向取决于声波的传播方向。
可以布置声波发生器490，在主排出管290的截面图上，在它们之 间具有相同的距离，如图4至6所示。例如，在主排出管290是如图4 所示的圆形管道，而声波发生器490包括4个声波发生器时，可以将 这4个声波发生器4卯分别布置在主排出管2卯的上部、下部、左侧 和右侧。在这种情况下，连接该圆形截面的中心点与2个相邻发生器 490的两条直线之间的夹角可以是90度。在另一个实施例中，主排出 管290可以是如图5所示的圆形管道，而且声波发生器490可以包括8 个声波发生器，例如，第一至第八声波发生器。在这种情况下，第一 至第四发生器490可以分别布置在主排出管290的上部、下部、左侧 和右侧，如参考图4所述，而第五至第八发生器可以分别布置在两个 相邻发生器之间。因此，连接该圆形截面的中心点与2个相邻发生器 490的两条直线之间的夹角可以是45度。在又一个实施例中，主排出 管290可以是如图6所示的矩形管道，而且声波发生器490可以包括4个声波发生器，例如，第一至第四声波发生器。在这种情况下，可以
将第一至第四发生器490布置在主排出管290的顶板、底版、左侧壁 和右侧壁上。
如图4至6所示，在所有声波发生器490产生的声波传播到主排 出管290的中心区域时，可以使主排出管290中的颗粒集聚在主排出 管290的空间内的中心区域。发生器490的数量越多，颗粒的收集效 率越高。例如，与图4所示具有4个发生器的收集单元相比，图5所 示具有8个发生器的收集单元展示较高的收集效率，因为图5所示发 生器490的数量大于图4所示发生器的数量。
根据图4至6所示的实施例，该收集单元可以具有4个至8个声 波发生器。然而，该声波发生器的数量并不局限于4个或者8个。例 如，根据本发明的收集单元可以具有2、 3、 5至7、 9或者更多个发生 器。此外，可以将该发生器布置在与图4至6所示实施例不同的位置。 此外，可以适当调节该声波发生器的输出功率，以调整颗粒的移动速 度。
图7至9是示出根据本发明实施例利用图3所示收集单元收集颗 粒的方法的示意图。
参考图7，从处理室流出的工艺气体流过主排出管290。工艺气体 可以包括该处理室内产生的颗粒，而且根据图7所示的视图，它可以 从左侧流到右侧。捕集器420可以安装在主排出管290上，而且布置 捕集器420，以使捕集器420的入口 422对着该工艺气体的移动方向的 相反方向，如图所示。
多个声波发生器490可以布置在主排出管290的外壁上。在工艺 气体的移动方向上，声波发生器490可以位于捕集器420之前。声波 发生器490产生的声波传播到主排出管290的中心区域，如虚线箭头所示。该声波可以使工艺气体中的颗粒移动到主排出管290内的中心
区域。因此，可以使工艺气体中的颗粒集聚在捕集器420的入口 422 之前的空间内的中心区域。与流过入口 422的一部分工艺气体一起， 集聚在主排出管290的中心区域的颗粒可以被引进入捕集器420。没有 颗粒的另一部分工艺气体可以流过捕集器420与主排出管290的内壁 之间的空间。因此，尽管捕集器420安装在主排出管290内，但是没 有颗粒的工艺气体仍保持均匀流动。捕集器420具有出口，而且该出 口连接到进入主排出管290的一部分的收集线路440。因此，通过收集 线路440，可以排出具有颗粒的工艺气体。
参考图8，收集线路440连接到布置在主排出管290的下面的储存 室460的顶板上。储存室460可以具有进入其一部分侧壁的缝隙462。 缝隙462提供在其内插入阻挡板520的空间。阻挡板520可以通过缝 隙462水平移动。因此，在阻挡板520完全插入储存室460时，可以 将储存室460内的空空间分割为上部空间和下部空间。然而，在声波 发生器490工作，以捕获工艺气体中的颗粒时，阻挡板520从储存室 460抽出，如图8所示。结果，在声波发生器490工作期间，颗粒和一 部分工艺气体可以被引进入储存室460。
通过如图3所示的排出线路480，储存室460可以连接到主排出管 290的一部分上。颗粒和工艺气体被引进入储存室460的速度可以变得 更低。这是因为储存室460内颗粒和工艺气体的移动通路的截面积大 于颗粒和工艺气体在收集线路440内的移动通路的截面积。因此，自 身具有质量的颗粒可能因为重力沉淀在储存室460的底板上，而且只 有工艺气体可以再一次通过排出线路480流入主排出管290。
根据上面所做的描述，利用声波发生器490、捕集器420和储存室 460，可以收集并储存主排出管290内的颗粒。因此，可以防止颗粒沉 积在主排出管290的内壁上。结果，可以使主排出管290内的压力保 持均匀，而且可以防止腐蚀主排出管290。此外，可以平滑地排出第一室100a内的工艺气体。此外，捕集器420的入口 422具有比主排出管 290的内径小的直径。因此，可以最小化主排出管290内压力的变化， 而且即使不使用附加风扇，也可以排出主排出管290内的工艺气体。 此外，可以安全地将工艺气体内的颗粒储存在储存室460内。在储存 在储存室460内的颗粒的数量增加时，需要清洁储存室460。
参考图9，为了清洁储存室460，可以使阻挡板520通过缝隙462 滑入储存室460。驱动器540可以使阻挡板520移动。如果阻挡板520 完全滑入储存室460，则将储存室460内的空间分割为互相分离的上部 空间和下部空间。因此，储存的颗粒可以位于下部空间内。
储存室460可以具有进入其侧壁下部的开口 464。门468可以关闭 或者开启开口 464。开启开口 464，然后，通过开口 464可以去除储存 在储存室460内的颗粒。可以利用诸如真空清洁器的真空设备，去除 储存室460内的颗粒。结果，完全清洁储存室460。
图IO是示出根据本发明另一个实施例的收集单元的示意图。
参考图10，关于排出线路480a的配置，根据本实施例的收集单元 与图3所示收集单元不同。根据本实施例，排出线路480a的一端连接 到储存室460，而排出线路480a的另一端可以直接连接到上面描述的 最终处理系统。因此，可以在最终处理系统内处理储存室460排出的 工艺气体，而不流入主排出管290。该最终处理系统可以净化该工艺气 体，然后，使净化气体排出洁净室。
泵482和洗涤器484可以安装在排出线路480a内。泵482可以强 制排出排出线路480a内的工艺气体，而洗涤器484可以中和流过排出 线路480a的工艺气体内的毒性元素。
尽管该图中没有示出，但是泵482和洗涤器484可以安装在参考图3描述的收集线路440内。
根据本发明，利用声波发生器、捕集器以及储存室，可以收集和 储存主排出管内的颗粒。因此，可以防止颗粒沉积在主排出管的内壁 上。结果，可以使主排出管内的压力保持均匀，而且可以防止腐蚀主 排出管。此外，可以平滑地排出处理室内的工艺气体。此外，可以将 工艺气体中的颗粒安全地储存在储存室内。
尽管结合附图所示的本发明实施例描述了本发明，但是本发明并 不局限于此。本技术领域内的技术人员明白，在不脱离本发明实质范 围的情况下，可以进行各种替换、修改或者变更。
权利要求
1.一种衬底处理设备，包括处理室，在其内进行处理；排出管，连接到所述处理室，以排出所述处理室内的工艺气体；以及收集单元，安装在所述排出管上，以收集流过所述排出管的所述工艺气体中的颗粒，其中，所述收集单元包括捕集器，安装在所述排出管内，所述捕集器具有所述颗粒通过其被引进入的入口和通过其排出所述颗粒的出口；以及收集线路，连接到所述捕集器的所述出口，所述收集线路穿透所述排出管的一部分，以向着所述排出管的外部区域延伸。
2. 根据权利要求l所述的设备，其中，所述入口的直径小于所述 排出管的内直径，而且其中，所述入口布置在所述排出管内的空间的 中心区域。
3. 根据权利要求l所述的设备，其中，所述收集单元还包括安装 在所述排出管的外壁上的多个声波发生器，而且其中，所述声波发生 器产生向着所述排出管的内部区域传播的声波。
4. 根据权利要求3所述的设备，其中，所述声波发生器布置成在 所述排出管的截面图上在所述声波发生器之间具有相同距离。
5. 根据权利要求4所述的设备，其中，所述排出管具有圆形截面，而且其中，所述声波发生器布置成使得从所述圆形截面的中心点连接到相邻的两个声波发生器的两条直线之间的夹角为90°。
6. 根据权利要求4所述的设备，其中，所述排出管具有矩形截面，而且其中，所述声波发生器分别布置在所述排出管的顶板、底板、左 侧壁和右侧壁上。
7. 根据权利要求l所述的设备，其中，所述收集单元还包括储 存室，连接到所述收集线路，以储存所述颗粒；以及排出线路，连接 到所述储存室的顶板，以排出引入所述储存室的所述工艺气体；而且 其中，所述储存室布置在所述排出管下面。
8. 根据权利要求7所述的设备，其中，所述排出线路连接到所述 排出管。
9. 根据权利要求7所述的设备，其中，所述收集单元还包括 阻挡板，向着所述储存室的内部区域或者外部区域移动；以及 驱动器，连接到所述阻挡板，以使所述阻挡板移动，其中，当所述阻挡板完全移动到所述储存室内时，所述储存室内 的空间被分割为上部空间和下部空间。
10. 根据权利要求9所述的设备，其中，所述储存室具有穿透其 侧壁的下部以通向所述下部空间的开口，而且其中，由门关闭或者开 启所述开口。
11. 根据权利要求l所述的设备，其中，所述收集单元还包括 泵，安装在所述收集线路上，以使所述收集线路内的所述工艺气体移动；以及洗涤器，安装在所述收集线路上，用于过滤流过所述收集线路的 所述工艺气体。
12. —种收集单元，包括排出管，提供工艺气体所流过的通路；捕集器，安装在所述排出管中，所述捕集器具有入口，所述工艺气体中的颗粒通过该入口被引入所述捕集器；以及 收集线路，连接到所述捕集器，其中，所述收集线路穿透所述排出管的一部分，以向着所述排出 管的外部区域延伸。
13. 根据权利要求12所述的收集单元，其中，所述入口的直径小 于所述排出管的内直径，而且其中，所述入口布置在所述排出管内的 空间的中心区域。
14. 根据权利要求12所述的收集单元，还包括安装在所述排出管 的外壁上的多个声波发生器，其中，所述声波发生器产生向着所述排出管的内部区域传播的声波。
15. 根据权利要求14所述的收集单元，其中，所述声波发生器布 置成在所述排出管的截面图上在所述声波发生器之间具有相同距离。
16. 根据权利要求15所述的收集单元，其中，所述排出管具有圆 形截面，而且其中，所述声波发生器布置成使得从所述圆形截面的中 心点连接到相邻两个声波发生器的两条直线之间的夹角为90°。
17. 根据权利要求15所述的收集单元，其中，所述排出管具有矩 形截面，而且其中，所述声波发生器分别布置在所述排出管的顶板、 底板、左侧壁和右侧壁上。
18. 根据权利要求12所述的收集单元，还包括 储存室，连接到所述收集线路，以储存所述颗粒；以及 排出线路，连接到所述储存室的顶板，以排出引入所述储存室的所述工艺气体，其中，所述储存室布置在所述排出管下面。
19. 根据权利要求18所述的收集单元，其中，所述排出线路连接到所述排出管。
20. 根据权利要求18所述的收集单元，还包括阻挡板，向着所述储存室的内部区域或者外部区域移动；以及 驱动器，连接到所述阻挡板，以使所述阻挡板移动， 其中，当所述阻挡板完全移动到所述储存室内时，所述储存室内 的空间被分割为上部空间和下部空间。
21. 根据权利要求20所述的收集单元，其中，所述储存室具有穿透其侧壁的下部以通向所述下部空间的开口，而且其中，由门关闭或 者开启所述开口。
22. —种用于收集流过排出管的工艺气体中的颗粒的方法，所述 方法包括将捕集器安装在所述排出管内，所述捕集器具有入口；以及收集通过所述入口进入所述捕集器的所述工艺气体中的所述颗粒。
23. 根据权利要求22所述的方法，其中，所述入口具有小于所述 排出管的内直径的直径，而且所述入口布置在所述排出管内的空间的 中心区域，其中，收集所述颗粒包括利用布置在所述排出管的外壁上的多个 声波发生器产生向着所述排出管的内部区域传播的声波，而且其中，在产生所述声波期间，所述工艺气体中的所述颗粒集 聚在所述入口前的所述空间的所述中心区域，而且所集聚的颗粒通过 所述入口流入所述捕集器。
24. 根据权利要求22所述的方法，还包括将所述捕集器内的所述收集的颗粒储存到布置在所述排出管下面 的储存室内，其中通过将所述储存室连接到所述捕集器的收集线路，所述捕集 器内的所述收集的颗粒被引入所述储存室，而且通过将所述储存室连 接到所述排出管的排出线路，流入所述储存室的具有所述颗粒的所述 工艺气体被排出所述储存室。
25.根据权利要求24所述的方法，还包括将阻挡板插入所述储存室，以在空间上分离所述储存室中的上部空间和下部空间；以及去除储存在所述下部空间内的所述颗粒。
全文摘要
本发明提供用于收集颗粒的单元和方法以及包括该单元的设备。一种收集单元包括排出管，提供工艺气体流过其的通路；捕集器，安装在该排出管上；以及收集线路，连接到该捕集器。该捕集器具有该处理中的颗粒被引入该捕集器的入口，而且该收集线路穿透该排出管的一部分，以向着该排出管的外部区域延伸。还提供了一种包括该收集单元的设备以及利用该收集单元收集颗粒的方法。
文档编号H01L21/00GK101308769SQ20081000375
公开日2008年11月19日 申请日期2008年1月22日 优先权日2007年1月22日
发明者金基洙, 金重铉 申请人:三星电子株式会社