专利名称：晶圆机台调节器的制作方法
技术领域：
本实用新型为提供一种晶圆机台调节器，尤指一种藉由第三支点体与数个承载体达成一平面，并可藉由承载体作精确的调节晶圆机台，如此可迅速调整晶圆机台至平衡定位，无须花费大量时间于调整上，进而加速制程时间，并且平衡度准确度极高，更有效降低因调整过度而发生螺帽损坏问题，另外，也可藉由纪录握持体上面的刻度，让使用者可直接于下次调整时直接旋转调整至得以让晶圆薄膜达平衡最佳状态的位置处，大大减少了调整时间的晶圆机台调节器。
背景技术：
目前，晶圆制程的技术已相当的纯熟，也造就现今的晶圆王国，而晶圆在制造的过程中亦采用了一些机台进行制造，而以晶圆成形的部分来说，将晶圆基板放于反应室内，且于高温下于表面产生薄膜，其内包括特殊的气体，但因薄膜受限各种因素，使其成长的速度不同，因此导致薄膜的厚度不一致，而常超出公差范围，藉此，必须再做第二次的晶圆面平衡调整设定，以达晶圆基板上的薄膜于公差范围内，其中调整晶圆基板承载体各点的高度的技术多采用螺帽进行旋转调整高低，且因调整高低的精密度非常高，因此相关技术人员于调整螺帽时大多依靠个人经验法则采大约值范围内即算完成调整工作，亦也造成不易调至完全平衡状态，瑕疵因而产生，再一问题即相关技术人员若因经验不足则时有将螺帽锁固过紧问题，使螺帽损坏，再者，抵持平衡板的弹簧产生疲乏现象时，亦会导致平衡板失去弹簧推力的问题。
实用新型内容本实用新型的主要目的在于提供一种晶圆机台调节器，通过第三支点体及数个承载体经由平衡板对反应室内的晶圆进行平衡。本实用新型主要结构包括一设于预定处的平面，该平面上设有一供收容抵持柱的纵向穿孔，再该纵向穿孔与一收容抵持块的容置空间相连通，此容置空间又与一设于承载体一侧的横向穿孔相连通，并横向穿孔穿设一杆体，其杆体一端与抵持块相互组接，以提供抵持块进行前、后活动，承载体一侧设有一旋转调整组，其旋转调整组与该杆体背离组设该杆体的端处相接设，以提供杆体进行旋转，并且旋转调整组包括有一与该承载体相锁固的底座，并该底座被杆体所穿设，而该底座环设有一旋转开关，另该底座上设有一齿盘座，该齿盘座顶面周围形成有齿部，齿部与一设于齿盘座上、并被其设有啮合部的齿盘相互啮合， 且于齿盘上设有一弹片；再者，该底座、齿盘座、齿盘及弹片被一旋转套体所套设，且旋转套体套接一握持体；藉此，当欲对晶圆基板进行平衡时，置放于第三支点体及承载体上的平衡板，即可藉由第三支点体为支撑基准，予以转动旋转调整组进行调整，于调整过程中使用者即可手握握持体，此后即可转动旋转调整组，并于此同时杆体即被转动而使抵持块因螺纹作动使其位移，并顶推抵持柱使其上升或抵持块退位使抵持柱下降，并进而带动平衡板进行上升、下降，连带使晶圆基板进行平衡调整。[0005]本实用新型通过机台调节器经由平衡板对反应室内的晶圆做角度调整，具体包括数个承载体，该承载体一预定处设有一供承置上述平衡板预定位置处的平面，该平面上设有一纵向穿孔，再该纵向穿孔与一容置空间相连通，又该承载体一侧设有一与容置空间连通的横向穿孔；一穿设该纵向穿孔的抵持柱；一收容于该容置空间内、并与抵持柱相互抵触的抵持块，且该抵持块上设有一螺孔；一穿设该横向穿孔、并一端与螺孔相组接的杆体；一旋转调整组，该旋转调整组设于该承载体一侧，且该旋转调整组与该杆体背离组设该螺孔的端处相接设。该旋转调整组包括有一与该承载体相锁固并被杆体所穿设的底座；一环设于该底座的旋转开关；一设于该底座上、并被杆体所穿设的齿盘座，该齿盘座顶面周围形成有齿部，而该齿盘座背面设有至少一与底座相抵固的抵固部；一设于该齿盘座上、并被杆体所穿设的齿盘，该齿盘底面设有与齿部相啮合的啮合部，且该齿盘上设有至少一孔洞；一设于齿盘上被杆体所穿设的弹片；一于表面设有刻度的旋转套体，其内设有容置空间，用于套设该底座、齿盘座、齿盘及弹片；一套接于旋转套体上，以供使用者握持的握持体。其中该旋转开关内设有至少一可与该底座相抵触的肋条，且该肋条一端处设有一第一斜面。其中该抵固部于一预定位置处设有一得以与旋转开关互动的第二斜面。其中该旋转套体内壁具有凸块。其中该机台调节器更包括有一第三支点体，该第三支点体抵触于该平衡板的一端处，且该第三支点体与平衡板所接触面处设有一接触部，该接触部为一抵触面或抵触点其中的一者。其中该抵持柱一侧形成有滑槽，并该滑槽内滑有一柱体。其中该承载体于背离旋转调整组的一侧设有一挡板。其中于该横向穿孔内容设有数个得以与该杆体相互作动的滚珠。其中该抵持块与抵持柱所接触处设有呈倾斜态样的抵持面。本实用新型的优点在于一、通过第三支点体的抵触点(和尚头)或抵触面(欲解决了弹簧疲乏后所衍生出的问题)、二个承载体的三点平衡，亦达到轻易调整晶圆平衡的状态，并具一般无法调到的精确值，且进一步通过设于承载体上的抵持柱、抵持块、杆体、及旋转调整组，使得可轻易并准确的调整晶圆的平衡，因此，达到此种迅速调整至平衡定位，无须花费大量时间于调整上，进而加速制程时间，并且平衡度准确度极高，更有效降低因调整过度而发生损坏问题， 另外，解决了薄膜不平衡问题。二、更降低了成本，而提高了此机台寿命的延长，所达及的优势为一般已有技术所无法达到的。三、其旋转套体上的握持体具有刻度，以供使用者方便记录针对每个晶圆机台所旋转的刻度位置，以于下次使用时可直接旋转调整至得以让薄膜达平衡最佳状态的位置处。
[0020]图1为本实用新型较佳实施例的立体图一。图2为本实用新型较佳实施例的分解图一。图3为本实用新型较佳实施例的立体图二。图4为本实用新型较佳实施例的分解图二。图5为本实用新型较佳实施例的实施示意图。图6为本实用新型较佳实施例的实施剖视示意图。图7为本实用新型三点平衡的实施示意图。图8为本实用新型较佳实施例的动作示意图一。图9为本实用新型较佳实施例的动作示意图二。图10为本实用新型较佳实施例的动作示意图三。图11为本实用新型较佳实施例的动作示意图四。图12为本实用新型另一较佳实施例的实施示意图一。图13为本实用新型另一较佳实施例的实施示意图二。
具体实施方式
如附图1至附图7所示，为本实用新型较佳实施例的立体图、分解图、实施示意图、 实施剖视示意图及三点平衡的实施示意图，由图中可清楚看出本实用新型通过机台调节器经由平衡板10对反应室8内的晶圆基板81做角度调整，其机台调节器主要结构包括有一第三支点体1，抵触该平衡板10的一端处，且该第三支点体1与平衡板所接触面处设有一接触部11，该接触部为一抵触面或抵触点其中的一者；数个承载体2，该承载体2 —预定处设有一供承置上述平衡板10预定位置处的平面21，且该平面21上设有一纵向穿孔22，再该纵向穿孔22与一容置空间23相连通，又该承载体2 —侧设有一与容置空间23连通的横向穿孔M ；一抵持柱3，穿设该纵向穿孔22，且该抵持柱3 —侧形成有滑槽31，并该滑槽31内滑有一柱体32 ；—抵持块4，收容于该容置空间23内、并与抵持柱3相互抵触，并于与抵持柱3所接触处设有呈倾斜态样的抵持面41，再该抵持块4上设有一螺孔42 ；一杆体5，穿设该横向穿孔24、并一端与螺孔42相组接，且于横向穿孔M内容设有数个得以与该杆体5相互作动的滚珠51 ；一旋转调整组6，该旋转调整组6设于该承载体2 —侧，且该旋转调整组6与该杆体5背离组设该螺孔42的端处相接设，其中该旋转调整组6包括有一与该承载体2相锁固的底座61，并该底座61被杆体5所穿设；一环设于该底座61的旋转开关62，该旋转开关 62内设有至少一可与该底座61相抵触的肋条621，且该肋条621 —端处设有一第一斜面 622 ；一设于该底座61上、并被杆体5所穿设之齿盘座63，该齿盘座63顶面周围形成有齿部631，而该齿盘座63背面设有至少一与底座61相抵固的抵固部632，该抵固部632于一预定位置处设有一得以与旋转开关62互动的第二斜面633 ；—设于该齿盘座63上、并被杆体5所穿设的齿盘64，该齿盘64底面设有与齿部631相啮合的啮合部641，并且齿盘64上设有至少一与下述凸块相嵌固的孔洞642 ；—设于齿盘64上的弹片65，该弹片65被杆体5 所穿设；一于表面设有刻度的旋转套体66，其内设有容置空间661，用于套设该底座61、齿盘座63、齿盘64及弹片65，并该旋转套体66内壁具有凸块662 ；—握持体67，套接于旋转套体66上，以供使用者握持。再者，该承载体2于背离旋转调整组6的一侧设有一挡板7。如附图1至附图11所示，为本实用新型较佳实施例的立体图、分解图、实施示意图、三点平衡的实施示意图、动作示意图，由图中可清楚看出，当欲对晶圆基板81进行平衡时，置放于第三支点体1及承载体2的间的平衡板10，即可以藉由第三支点体1为支撑基准，予以转动旋转调整组6进行调整，于调整过程中使用者即可手握握持体67，此后即可转动旋转调整组6 (亦可通过旋转套体66上的刻度进行明确的调整，并记录刻度位置，以便下次平衡调整时达更精准更快速的进步性)，此时即经由凸块662抵持孔洞642侧边将齿盘 64带动，并于此时齿盘64与齿盘座63即通过啮合部641相互作动，以对杆体5进行微调旋转，同时数个滚珠51相互嵌动，此后因杆体5旋转使与杆体5螺接的抵持块4即些微位移， 且因抵持块4的抵持面41为倾斜态样，因此使抵持面41缓慢将抵持柱3进行升降，以此实施例来说，当抵持块4向内移动时，抵持柱3底部即被滑移到抵持块4的斜面顶端，抵持柱 3即被往上顶推，反观，若抵持柱3底部即被滑移到抵持块4斜面的最底部，抵持柱3即被往下降位，而后当晶圆8达到平衡状态时，即可将旋转开关62转至锁固状态(即关闭状态)， 其锁固状态时，肋条621的第一斜面622即与第二斜面633相互抵触并交错使齿盘座63被顶推，同时弹片65产生形变，进而挤压旋转套体66使其产生固定效果，反之，若将旋转开关 62转至开启状态，肋条621的第一斜面622即与第二斜面633即相互分离，并且弹片65将齿盘64往一端顶推，使旋转套体66得以进行旋转活动者。再者，其平衡板10主要以第三支点体1为第三支立点，承载体2为两侧支点，以形成一三角形态的平面，并且第三支点体1因接触部11为倾斜态样，因此使平衡板具有更大的调整空间，使第三支点体1与承载体2达同一平衡高度；此后，由承载体2对平衡板10进行倾斜角度的调整，以物理特性来说，当以第三支点体1为支立点时，承载体2对平衡板10 作两侧高度调整即可使平衡板10达到所须的角度。如附图12及附图13所示，为本实用新型另一较佳实施例的实施示意图一、二，由图中可清楚看出，该第三支点体Ia进一步为一圆形枢接球体态样(和尚头)，使该第三支点体Ia亦与平衡板IOa相互枢接抵触，并且如i^一图可看到平衡板IOa形成三个支点的态样，以达到一种万向作动。本实用新型的晶圆机台调节器改善已有技术关键在于通过第三支点体1、二个承载体2的三点平衡，亦达到轻易调整晶圆9平衡的状态， 亦达到一般已有无法调到的精确值，且进一步通过设于承载体2上的抵持柱3、抵持块4、杆体5、及旋转调整组6，使得可轻易并准确的调整晶圆9的平衡，因此，达到此种迅速调整至水平定位，无须花费大量时间于调整上，进而加速制程时间，并且水平平衡度准确度极高， 更有效降低因调整过度而发生损坏问题，另外，同时因第三支点体1的接触部11倾斜设计， 使其得以抵压平衡板10，而解决了弹簧疲乏后所衍生出的问题的实用进步性者。
权利要求1.一种晶圆机台调节器，其特征在于包括复数个承载体，该承载体一预定处设有一供承置上述平衡板预定位置处的平面，该平面上设有一纵向穿孔，再该纵向穿孔与一容置空间相连通，又该承载体一侧设有一与容置空间连通的横向穿孔；一穿设该纵向穿孔的抵持柱；一收容于该容置空间内、并与抵持柱相互抵触的抵持块，且该抵持块上设有一螺孔；一穿设该横向穿孔、并一端与螺孔相组接的杆体；一旋转调整组，该旋转调整组设于该承载体一侧，且该旋转调整组与该杆体背离组设该螺孔的端处相接设。
2.根据权利要求1所述的晶圆机台调节器，其特征在于该旋转调整组包括有一与该承载体相锁固并被杆体所穿设的底座；一环设于该底座的旋转开关；一设于该底座上、 并被杆体所穿设的齿盘座，该齿盘座顶面周围形成有齿部，而该齿盘座背面设有至少一与底座相抵固的抵固部；一设于该齿盘座上、并被杆体所穿设的齿盘，该齿盘底面设有与齿部相啮合的啮合部，且该齿盘上设有至少一孔洞；一设于齿盘上被杆体所穿设的弹片；一于表面设有刻度的旋转套体，其内设有容置空间，用于套设该底座、齿盘座、齿盘及弹片； 一套接于旋转套体上，以供使用者握持的握持体。
3.根据权利要求2所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该旋转开关内设有至少一可与该底座相抵触的肋条，且该肋条一端处设有一第一斜面。
4.根据权利要求2所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该抵固部于一预定位置处设有一得以与旋转开关互动的第二斜面。
5.根据权利要求2所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该旋转套体内壁具有凸块。
6.根据权利要求1所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该机台调节器更包括有一第三支点体，该第三支点体抵触于该平衡板的一端处，且该第三支点体与平衡板所接触面处设有一接触部，该接触部为一抵触面或抵触点其中的一者。
7.根据权利要求1所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该抵持柱一侧形成有滑槽，并该滑槽内滑有一柱体。
8.根据权利要求1所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该承载体于背离旋转调整组的一侧设有一挡板。
9.根据权利要求1所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中于该横向穿孔内容设有数个得以与该杆体相互作动的滚珠。
10.根据权利要求1所述的晶圆机台调节器，其特征在于其中该抵持块与抵持柱所接触处设有呈倾斜态样的抵持面。
专利摘要本实用新型为有关一种晶圆机台调节器，属于机械类，主要包括一第三支点体及数个承载体经由平衡板对反应室内的晶圆进行平衡，其中承载体设一供承平衡板的平面，且该平衡板与一设于反应室内的晶圆基板相抵触，另平面上设一收容有抵持柱的纵向穿孔，且纵向穿孔与一容置空间相通，而此容置空间内收容一得以与抵持柱相互作动的抵持块，又容置空间与一横向穿孔相通，其横向穿孔穿设一与抵持块组接的杆体，并杆体另一端接设一旋转调整组，当旋转调整组旋转作动时，则带动杆体旋转并使抵持块位移，进而支撑抵持柱予以进行升降活动，使平衡板得以带动晶圆基板，使达到利用抵持柱将晶圆进行平衡者。
文档编号H01L21/683GK202103034SQ20112013753
公开日2012年1月4日 申请日期2011年5月4日 优先权日2011年5月4日
发明者黄用九 申请人:黄用九