技术总结
本发明公开了一种具有能量补偿的激光退火装置，包括控制系统、载片台，红外激光器和脉冲激光器，所述红外激光器发出红外激光采用布儒斯特角对硅片进行预热，所述脉冲激光器发出脉冲激光，采用布儒斯特角对所述硅片进行退火；所述红外激光和所述脉冲激光二者能量可调可叠加。本发明还公开了一种激光退火方法。本发明提供的具有能量补偿的激光退火装置，采用布儒斯特角对硅片进行退火，温度驻留时间在微秒量级，驻留时间短，可降低离子热扩散；不需要对工件台预热，热预算较小，避免带来热应变，减小热应力变形，减小对套刻精度的影响。红外激光和脉冲激光二者能量可调可叠加，可以避免图案效应问题，简化了机械结构，节约成本。
技术研发人员：兰艳平;宋春峰
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司
文档号码：201510140856
技术研发日：2015.03.27
技术公布日：2016.11.23