本发明涉及一种闭环控制靶台温度的方法，涉及离子注入机，属于半导体装备制造领域。
背景技术：
离子注入机隶属于半导体装备领域，随着集成电路的迅猛发展，半导体装备制造的发展趋势日益明显。离子注入机设备由许多运动部件构成，为保证设备的正常运行，需要对运动部件进行降温冷却，一般采取的方法都是在运动部件周围安装水冷系统，以此降低运动部件的温度。为了保证运动部件维持在一个恒定温度，本系统设计了一种闭环控制方法，可用于精确控制离子注入机运动部件的温度。
本控制系统结构简单，测量与控制精确、可靠。
技术实现要素：
本发明公开了一种闭环控制靶台温度的方法，该发明应用于离子注入机，该系统用于精确控制离子注入机靶台的温度，保证设备正常运行。
本发明专利通过以下技术方案来实现：
1.根据设备要求，工控机设定冷却装置温度值(1)。
2.工控机设定冷却装置温度值(1)通过控制器(2)实现d/a转换传输给冷却装置(3)，冷却装置(3)通过改变自身功率大小调节靶台温度，靶台反馈温度(4)经过控制器(5)的a/d转换，然后经过pid算法(6)计算得到温度值(7)。
3.比较工控机设定冷却装置温度值(1)和pid算法得到的温度值(7)，如果工控机设定靶台冷却温度值过高，则减小冷却装置功率，从而使靶台温度升高，也使pid算法得到的温度值增加；如果工控机设定靶台冷却温度值过低，则增大冷却装置功率，从而使靶台温度降低，也使pid算法得到的温度值降低。通过闭环控制，最后使pid算法得到的温度值无限接近工控机设定值，减小温度误差。
本发明具有如下显著优点：
1.通过工控机设定冷却装置温度值(1)和pid算法得到的温度值(7)多次比较，得到温度值无限接近工控机设定冷却装置温度值，有效的减少误差。
2.本方法采用闭环控制，控制器实时采集靶台当前温度值，实现与设置值的连续比较，保证靶台温度维持在恒温状态。
附图说明
图1是本发明所述一种闭环控制靶台温度的方案实施图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方法对本发明作进一步的介绍，但不作为对本发明的限定。
如图1中所示，根据设备要求，工控机设定靶台冷却温度值(1)，设定值通过控制器(2)实现d/a转换将数据传送于冷却装置(3)，冷却装置接收到命令进而改变功率大小调节靶台冷却水温度，同时，靶台反馈温度(4)通过控制器实现a/d转换(5)，之后经过pid算法(6)计算得到温度值(7)。通过pid算法得到的温度值(7)会和工控机设定的靶台冷却温度值(1)进行比较。如果工控机设定靶台冷却温度值过高，则减小冷却装置功率，从而使靶台温度升高，也使pid算法得到的温度值增加；如果工控机设定靶台冷却温度值过低，则增大冷却装置功率，从而使靶台温度降低，也使pid算法得到的温度值降低。通过闭环控制，最后使pid算法得到的温度值无限接近工控机设定值，减小温度误差。
本发明专利的特定实施例已对本发明专利的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本发明专利精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本发明专利的侵犯，将承担相应的法律责任。