本实用新型涉及LED灯生产设备领域，具体来说是一种外延片清洗台。
背景技术：
外延是半导体工艺当中的一种，硅片最底层时衬底硅，然后在衬底上生长一层单晶硅，这层单晶硅成为外延层，外延片就是在衬底上做好外延层的硅片，而传统工艺中需要对外延片进行清洗，可使现有设备中在清洗外延片是大部分都是直接将外延片放置在一个清洗台上，然后直接进行清洗，如专利号为CN204332926U的一种外延片清洗装置，便是直接将外延片放置在台板上，然后进行清洗，可是在清洗过程中容易造成外延片滑动，甚至掉落，影响工作效率，而且可能会使得清洗液沾附外延片背面，对外延片造成腐蚀，导致外延片报废。
技术实现要素：
本实用新型是提供一种既能够在清洗过程中固定外延片，又能够防止清洗过程中外延片背面被清洗液腐蚀的外延片清洗台。
为了使本实用新型达到所需要的技术效果，本实用新型选用如下技术方案：一种外延片清洗台，包括清洗台，所述清洗台包括底座，所述底座顶部设有凸块，所述底座顶部垂直设有固定板，所述固定板设有取片槽，所述固定板设有渗液孔。
作为优选，所述固定板式有两块横板和一块纵板组成的“匚”型板。
作为优选，所述固定板与所述底座间设有排液孔。
作为优选，所述取片槽设在所述纵板中间位置。
作为优选，所述渗液孔倾斜设在所述固定板上。
作为优选，所述凸块为半球型凸块，所述凸块设在所述底座顶部中心位置。
作为优选，所述凸块连接所述排液孔。
本实用新型工作效果：使用本实用新型进行外延片清洗时，将外延片放在固定板内进行清洗，清洗过程中，清洗液会顺着渗液孔排出，而由于渗液孔清洗设在固定板上，所述清洗液能够及时排除，并且由于底座设有凸块，所以在外延片清洗时，外延片底部不会沾附上清洗液，在外延片清洗结束后，可通过取片槽直接取出外延片，因此，本实用新型不仅能够在清洗过程中固定外延片，还能够防止清洗过程中外延片背面被清洗液腐蚀。
附图说明
图1为本实用新型整体结构图。
图中标注为：1、底座；2、凸块；3、横板；4、纵板；5、取片槽；6、渗液孔；7、排液孔。
具体实施方式
参照附图，为了使本实用新型达到所需要的技术效果，本实用新型采用如下实施方案：一种外延片清洗台，包括清洗台，所述清洗台包括底座，所述底座顶部设有凸块，所述底座顶部垂直设有固定板，所述固定板设有取片槽，所述固定板设有渗液孔。
作为优选，所述固定板式有两块横板和一块纵板组成的“匚”型板。
作为优选，所述固定板与所述底座间设有排液孔。
作为优选，所述取片槽设在所述纵板中间位置。
作为优选，所述渗液孔倾斜设在所述固定板上。
作为优选，所述凸块为半球型凸块，所述凸块设在所述底座顶部中心位置。
作为优选，所述凸块连接所述排液孔。
使用本实用新型进行外延片清洗时，将外延片放在固定板内进行清洗，清洗过程中，清洗液会顺着渗液孔排出，而由于渗液孔清洗设在固定板上，所述清洗液能够及时排除，并且由于底座设有凸块，所以在外延片清洗时，外延片底部不会沾附上清洗液，在外延片清洗结束后，可通过取片槽直接取出外延片，因此，本实用新型不仅能够在清洗过程中固定外延片，还能够防止清洗过程中外延片背面被清洗液腐蚀。