半导体装置的制作方法

文档序号:14560411阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明的半导体装置,包括:碳化硅半导体层,其主面侧配置有多个层;以银为主要成分构成的电极层,为所述多个层中的一个层,并且具有与导电性的连接构件相连接的电极连接面;以及以碳化钛为主要成分构成的第一金属层,为所述多个层中的与所述电极层不同的一个层,并且具有:所述电极连接面露出至外部后与所述电极层相接合的第一接合面、以及与所述半导体层电气连接的第二接合面。

技术研发人员:福田祐介
受保护的技术使用者:新电元工业株式会社
技术研发日:2016.09.21
技术公布日:2018.05.29
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1