技术特征：
技术总结
本发明涉及具有射频供电的法拉第屏蔽件的包括线圈的衬底处理系统。衬底处理系统包括处理室，该处理室包括电介质窗和布置在其中以支撑衬底的衬底支撑件。线圈被布置在处理室的外部与电介质窗相邻。法拉第屏蔽件布置在线圈和电介质窗之间。RF发生器被配置为向线圈提供RF功率。法拉第屏蔽件通过杂散电容耦合和/或直接耦合到线圈。电容器连接到线圈和法拉第屏蔽件中的一个，以调节沿着线圈的电压驻波的位置。
技术研发人员：沈彭;塔马拉卡·潘达姆所朴恩;安东尼·纽伦;丹·玛罗尔
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2017.03.28
技术公布日：2017.10.10