技术特征：
技术总结
本发明提供一种晶圆表面形貌控制系统及控制方法，所述晶圆表面形貌的控制方法包括如下步骤：1）提供一晶圆；2）对所述晶圆的表面进行化学机械抛光；3）依据化学机械抛光过程中对所述晶圆表面不同区域的去除情况设定刻蚀时间；4）依据所述刻蚀时间对所述晶圆表面的不同区域进行刻蚀。本发明通过依据化学机械抛光过程中对晶圆表面不同区域的去除情况设定对晶圆湿法刻蚀的刻蚀时间，湿法刻蚀过程中可以对化学机械抛光过程中对晶圆表面的形貌造成偏差进行补偿，使得湿法刻蚀后的晶圆具有良好的表面形貌，晶圆的表面形貌被有效控制在合理的工艺规格之内，避免了后续工艺中缺陷的产生。
技术研发人员：吕新强;林宗贤;吴孝哲;吴龙江;郭松辉;王海宽
受保护的技术使用者：德淮半导体有限公司
技术研发日：2017.11.07
技术公布日：2018.04.20