技术特征：
技术总结
本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成缓冲层和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：有源层图形，所述缓冲层中设置有第一过孔；其中，所述有源层图形与所述缓冲层中的第一过孔是通过一次构图工艺形成的，所述阵列基板的待切割区域位于所述第一过孔在所述衬底基板的正投影区域内。由于有源层图形与第一过孔是通过一次构图工艺形成的，且阵列基板的待切割区域位于第一过孔在衬底基板的正投影区域内，因此该方法能够去除待切割区域中的缓冲层。本发明用于制造阵列基板。
技术研发人员：乔赟;李付强;赵生伟;蔡志光;方业周;王珍;史大为;杨璐;张寒;王争奎;丛乐乐;秦文文;黄飞
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
技术研发日：2018.03.02
技术公布日：2018.08.07