技术特征：
技术总结
本发明提供一种干刻蚀设备。该干刻蚀设备包括腔体、设于所述腔体内并相对间隔设置的上电极和下电极、设于所述腔体外并与下电极连接的多个运动轴以及设于所述腔体外与多个运动轴均连接的第一调节装置；所述运动轴用于控制下电极上下移动；所述第一调节装置用于带动多个运动轴同时运动，使下电极整体上下运动，从而调节所述下电极与上电极的间距，改变下电极与上电极之间的电场强度，进而改变干刻蚀设备的刻蚀效率，改善刻蚀的均匀性，提高生产良率。
技术研发人员：王帆
受保护的技术使用者：武汉华星光电技术有限公司
技术研发日：2018.04.23
技术公布日：2018.09.21